JP4604541B2 - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Description
弧状のもので金属板Bと近接し、小空間を介して対向するようにする。
10…高周波電源
11…インピーダンス整合器
12…金属板A
13a,13b,13c,13d,13e,13f,13g,13h…金属板B
14…小空間
20a,20b,20c,20d,20e,20f,20g,20h…真空成膜部
21…容器搬入部
22…容器搬出部
30…成膜前のプラスチック容器
31…成膜後のプラスチック容器
40…外部電極兼真空チャンバー
41…本体部
42…天蓋部
43…排気口部
44,45…絶縁性容器支持板
46…真空ポンプ
47…内部電極兼ガス導入管
50…真空チャンバー
51…本体部
52…天蓋部
53…排気口部
54,55…容器支持板
56…真空ポンプ
57…内部電極兼ガス導入管
59…コイル状外部電極
60…成膜用ガス
Claims (3)
- 中空状のプラスチック容器の内面にプラズマCVD法で薄膜を形成させるロータリー型の成膜装置において、高周波電源と、高周波電源に接続されたインピーダンス整合器と、インピーダンス整合器に接続された所定形状の金属板Aと、円状に配置された複数の真空成膜部と、真空成膜部の外部電極に接続された所定形状の金属板Bとを備えており、成膜装置の回転に伴って前記真空成膜部が金属板Aの位置にきた時に、金属板Aと金属板Bが近接し、小空間を介して対向することにより、金属板Aと金属板Bがコンデンサーの作用をして非接触状態で電力を供給できるように金属板Aと真空成膜部に接続された金属板Bが配置されていることを特徴とする成膜装置。
- 前記真空成膜部が、容量結合型プラズマ若しくは誘導結合型プラズマを発生させて薄膜を形成させるものからなることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 請求項1又は請求項2記載の成膜装置を用いて、真空成膜部内に中空状のプラスチック容器を挿入後に、装置を回転させ、プラスチック容器が挿入された真空成膜部が金属板Aの位置にきた時に、ガス導入管から成膜用ガスを導入すると共に、該金属板Aと真空成膜部に接続された金属板Bとで構成されるコンデンサーを介して真空成膜部の外部電極へ電力を印加してプラズマを発生させ、プラスチック容器の内面に薄膜を形成させることを特徴とする成膜方法。
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