JP4599212B2 - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
プラズマ処理装置において、プラズマを生成し、試料に高周波電圧を印加することによりSiOC系膜を含む多層構造膜を有する被処理材をエッチング処理するプラズマ処理方法であって、前記SiOC系膜のエッチングにおいて、対マスク選択比の高い異方性主体のエッチングを行った後、CxHyFzガス(x、y、z=0、1、2、…)を主体としかつN2及びO2を含まないガスを用いた等方的なエッチングを行うプラズマ処理方法。
第1の方法:反射防止膜(BARC)エッチングステップにてパターン寸法よりも溝又は孔を細く加工し、N2またはO2を含む高マスク選択比条件にてエッチングを行う。その後N2またはO2を含まず、基板に印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを行う。
第2の方法:パターン寸法よりも溝又は孔をやや細く加工するN2等を含む高マスク選択比条件と、N2またはO2を含まず、基板に印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを周期的に行う。
図中には(a)プラズマ処理を施していないサンプル、(b)CHF3とN2の混合ガスを用いてエッチングを行ったサンプル、(c)N2およびO2ガスを含まないCF4ガス単体でエッチングしたサンプル、および(d)CHF3とN2の混合ガスを用いてエッチングを行った後、CF4ガス単体で約100nm程度エッチング処理を施したサンプルの各々に関して、C濃度の深さ方向プロファイルを示す。
本発明を用いた第2の実施例を図3を用いて説明する。図3は、基板(ウエハ)のトレンチエッチングを示す概念図である。図3(a)には所望の寸法のマスクパターン(トレンチ幅=D0)が形成されている。まずBARC膜(102)エッチング工程において、デポ性の強いガス系を使用することにより、図3(b)に示すようにエッチング加工形状をマスクパターンより細く形成する(トレンチ幅=D1、D1<D0)。ここでCF4ガスにCH2F2、CHF3、CH4、H2などのHを含むガス、またはCOなどのカーボン比率の高いガスを添加することにより、マスク寸法に対してエッチング加工形状を細く形成することが可能である。
次に本発明を用いた第2の実施例を図4から図6を用いて説明する。第1の実施例と同一箇所は説明を省略する
図4は、本発明を適用するプラズマ処理装置の一実施例であるエッチング装置の縦断面図である。エッチング装置は、真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室405と、この処理室内へガスを供給するガス供給装置407と、被処理材416を載置可能な基板電極415と、この基板電極に被処理材を吸着させるための静電吸着膜および被処理材を温調するために冷却ガス導入機構と、この基板電極に対向するプラズマを発生するための電磁波を放射するアンテナ電極403(=上部電極)と、基板電極へ接続された高周波電源413およびアンテナ電極へ接続された高周波電源408と、この基板電極へ接続された高周波電源417とこのアンテナ電極へ接続された高周波電源に印加する高周波の位相を制御する手段420を備えている。さらに、ガス供給装置407を時間的に変調するためのガス流量変調器および基板電極へ接続された高周波電源およびアンテナ電極へ接続された高周波電源の出力を時間変調する装置を具備している。さらに、ガス供給装置を時間的に変調するためのガス流量変調器および基板電極へ接続された高周波電源およびアンテナ電極へ接続された高周波電源の出力を同期して時間変調する装置を具備している。
Claims (5)
- プラズマ処理装置において、プラズマを生成し、被処理材に高周波電圧を印加することにより該被処理材を所定のエッチング加工形状に加工するプラズマ処理方法であって、
前記被処理材は、レジストマスク、反射防止膜、キャップ膜、SiOCH膜を含む多層構造膜を有し、前記レジストが前記所定のエッチング加工形状に対応するマスクパターンを有し、
前記多層構造膜の前記反射防止膜または該反射防止膜及び前記キャップ膜のエッチングを行った後、前記SiOCH膜のエッチングを行うものにおいて、
前記多層構造膜の前記反射防止膜または該反射防止膜及び前記キャップ膜のエッチングステップにおいては、加工形状を前記マスクパターン寸法よりも細い形状に加工し、
前記SiOCH膜のエッチングにおいては、
第1のステップにて、フロロカーボンガスにN 2 またはO 2 を含む混合ガスを用いた対マスク選択比の高い異方性主体のエッチングを行って所望の深さまで加工した後、
第2のステップにて、CxHyFzガス(少なくともxが1以上、yが0又は1以上、且つ、zが1以上)を主体としかつN2及びO2を含まないガスを用いた等方的なエッチングを行って前記マスクパターン寸法に対応した所定のエッチング加工形状に加工する
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1記載のプラズマ処理方法であって、
前記反射防止膜または反射防止膜およびキャップ膜のエッチングステップにおいて、CF 4 とHを含む混合ガスを用いて前記加工形状を前記マスクパターン寸法よりも細い形状に加工する
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - プラズマ処理装置において、プラズマを生成し、被処理材に高周波電圧を印加することにより該被処理材を所定のエッチング加工形状に加工するプラズマ処理方法であって、
前記被処理材は、レジストマスク、反射防止膜、キャップ膜、SiOCH膜を含む多層構造膜を有し、前記レジストが前記所定のエッチング加工形状に対応するマスクパターンを有し、
前記多層構造膜の前記反射防止膜または該反射防止膜及び前記キャップ膜のエッチングを行った後、前記SiOCH膜のエッチングを行うものにおいて、
前記多層構造膜の前記反射防止膜または該反射防止膜及び前記キャップ膜のエッチングステップにおいては、前記加工形状を前記マスクパターン寸法よりも細い形状に加工し、
前記SiOCH膜のエッチングにおいては、
フロロカーボンガスとN 2 またはO 2 との混合ガスを用いた対マスク選択比の高い異方性主体のエッチングを行う第1のステップと、
CxHyFzガス(少なくともxが1以上、yが0又は1以上、且つ、zが1以上)を主体としかつN 2 及びO 2 のガスを用いない等方的なエッチングを行う第2のステップとを周期的に繰り返す
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項3記載のプラズマ処理方法において、
前記繰り返し周期を0.1Hz〜10kHzとする
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - プラズマ処理装置において、プラズマを生成し、被処理材に高周波電圧を印加することにより、該被処理材にエッチング処理によって所定の形状のトレンチ加工を行うトレンチエッチング方法であって、
前記被処理材が、レジストマスク、反射防止膜、キャップ膜、SiOCH膜を含む多層構造膜を有し、前記レジストが前記所定のトレンチエッチング加工形状に対応するマスクパターンを有し、
前記多層構造膜の前記反射防止膜または該反射防止膜及び前記キャップ膜のエッチングを行った後、前記SiOCH膜のトレンチエッチングを行うものにおいて、
前記多層構造膜の前記反射防止膜または該反射防止膜及び前記キャップ膜のエッチングステップにおいては、前記加工形状を前記マスクパターン寸法よりも細い形状に加工し、
前記SiOCH膜のトレンチエッチングにおいては、
第1のステップにて、フロロカーボンガスとN 2 またはO 2 との混合ガスを用いた対マスク選択比の高い異方性主体のトレンチエッチングを行って所望の深さまで加工した後、
第2のステップにて、CxHyFz(少なくともxが1以上、yが0又は1以上、且つ、zが1以上)を主体としかつN 2 及びO 2 を含まないガスを用いた等方的なトレンチエッチングを行って前記マスクパターン寸法に対応した所定のトレンチ形状に加工する
ことを特徴とするトレンチエッチング方法。
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