JP4597902B2 - レジストパターンの形成方法および垂直磁気記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Description
図1〜図10は、第1の実施の形態に係るレジストパターンの形成方法の応用例として、垂直磁気記録ヘッドを搭載した薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明するためのものである。図1および図2は、それぞれ薄膜磁気ヘッドの断面構成および平面構成を表しており、図1のうちの(A),(B)は、それぞれエアベアリング面50に平行および垂直な断面を示している。図3は、図1(A)に示した主磁極層12の断面構成を拡大して示している。図4〜図9は、薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明するためのものであり、(A),(B)は、それぞれ図2に示した領域Rを抜粋および拡大した平面構成および断面構成を示している。なお、図4〜図9のうちの(B)は、(A)に示したM−M線に沿った断面を示している。図10は、図4(A)に示したマスク62の輪郭を拡大して表している。
図14および図15は、第2の実施の形態に係るレジストパターンの形成方法を説明するためのものであり、それぞれ平面構成および断面構成を表している。図15のうちの(A)〜(C)は、それぞれ図14のうちの(A)〜(C)に示したM−M線に沿った断面を示している。
図17および図18は、第3の実施の形態に係るレジストパターンの形成方法を説明するためのものであり、それぞれ平面構成および断面構成を示している。図18のうちの(A)〜(C)は、それぞれ図17のうちの(A)〜(C)に示したM−M線に沿った断面を示している。なお、図17および図18では、上記第2の実施の形態において説明した構成要素と同一の要素に同一の符号を付している。
Claims (3)
- 凸状の角部を有するレジストパターンを形成する方法であって、
レジスト膜を形成する第1の工程と、
前記角部に対応する位置に突起部が形成されるように前記レジスト膜を選択的に露光して現像する第2の工程と、
前記レジスト膜を加熱して前記突起部を消失させる第3の工程と
を含むことを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 凹状の角部を有するレジストパターンを形成する方法であって、
レジスト膜を形成する第1の工程と、
前記角部に対応する位置に窪み部が形成されるように前記レジスト膜を選択的に露光して現像する第2の工程と、
前記レジスト膜を加熱して前記窪み部を消失させる第3の工程と
を含むことを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 記録トラック幅を規定する一定幅からそれよりも大きな幅に広がる磁極層を備えた垂直磁気記録ヘッドを製造する方法であって、
レジスト膜を形成する第1の工程と、
前記磁極層の幅が一定幅から広がり始める位置に対応する位置に突起部が形成されるように前記レジスト膜を選択的に露光して現像する第2の工程と、
前記レジスト膜を加熱して前記突起部を消失させる第3の工程と、
前記突起部を消失させた前記レジスト膜以外の領域に前記磁極層を形成する第4の工程と
を含むことを特徴とする垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
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