JP4579847B2 - 水素化物ガスの除去方法及び除去装置 - Google Patents
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また、粉末固体が発生しないため、ポンプ、充填塔やその他装置において目詰まりを起こすことがなく、極めて安定して除去を行うことが出来る。
以下に本発明の作用を実験を参照して説明する。
この理由は現在のところ明確ではないが、Si,P,B等が表面を覆ってもNiが表面に拡散して分解能力が維持されるためと推測される。
図1に示す測定系を用い、種々の材質の内表面を有する水素化物ガス除去管(長さ1mの1/4インチ管)を所定の温度に加熱してシランガスを流し、その分解特性を調べた。
実験例1と同様にして、PH3,B2H6及びAsH3ガスに対する各種材質のガス除去管の分解特性を調べた結果を図3、4及び10に、また100%分解の最低温度を表1に示す。なお、表、図において、Fe2O3とあるのは、SUS315L電解研磨管に30%O2を含むArガスを導入し425℃で加熱酸化して、内表面にFe2O3膜を20nm形成したものである。SiはSUS316L電解研磨管の内表面にSiH4ガスを流し480℃で熱分解してシリコン膜を30nm形成し、続いてH2を流して処理したものである。SiO2は、前記Si表面にO2を導入して600℃で表面を酸化したものである。他は実験例1と同様である。
図1の測定系を用い、室温(25℃)でB2H6,PH3ガスを各種ガス除去用管に流し、その濃度の時間変化を調べた。B2H6,PH3ガスの濃度変化を図5、6に、また図から計算した吸着分子数を表1に示す。
本発明の第1の実施例を図7に示す。
本発明の第2の実施例を図8に示す。
本発明の第3の実施例を図9に示す。
Claims (3)
- 周期律表第III族元素または第V族元素の水素化物ガスをニッケルと接触させて分解または/及び吸着させることにより、分解物がニッケル化合物を生成せずに前記水素化物ガスを除去することを特徴とする水素化物ガスの除去方法。
- 前記ニッケルを加熱することにより、前記水素化物ガスを分解除去することを特徴とする請求項1に記載の水素化物ガスの除去方法。
- 周期律表第III族元素または第V族元素の水素化物ガスの導入口と排出口とを有する容器内に、前記ガスと接触するようにニッケルを配置し、該ニッケルと前記水素化物ガスを接触させて分解または/及び吸着させるように加熱するための加熱手段を設けたことを特徴とする水素化物ガスの除去装置。
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