JP4579263B2 - マルチチップ積層基板及びマルチチップ積層実装構造 - Google Patents

マルチチップ積層基板及びマルチチップ積層実装構造 Download PDF

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Description

本発明は、マルチチップの積層技術に関し、特に、マルチチップ積層基板とそれを使用するマルチチップ積層実装構造とその応用に関するものである。
近年、電子技術の進みとともに、より高性能化に、より人間に相応しい電子機器がどんどん製品化されている。外観から言えば、軽量化、薄型化、小型化などの趨勢に従って製品を設計し、微小化及び高速化の要求に応じ、数倍以上大容量或はより多機能を達成するため、複数のチップを基板上に垂直積層して封止体で密封し、それをマルチチップ積層実装構造と称する。しかし、従来のマルチチップ積層実装構造の製造過程において封止作業後に製品が電気検査されて、製品の中に一つのチップだけがうまく動かなければ、製品全体は故障品として廃棄されなければならず、封止作業後の修復が不可能となる。
図1に示すように、マルチチップ積層実装構造は、少なくとも基板100、第一チップ10、第二チップ20、複数のボンディングワイヤ31、ボンディングワイヤ32及び封止体40を備える。基板100は複数のワイヤボンディングフィンガー110と複数のトレース120を含み、それらのトレース120は基板100の内表面101に形成されている。それらのワイヤボンディングフィンガー110は基板100のダイアタッチエリア103に隣接して、第一チップ10はダイアタッチエリア103上に貼着され、第二チップ20は第一チップ10の上方に積み上げられている。また、図1を参考にして、それらのワイヤボンディングフィンガー110は、内表面101に形成されてワイヤボンディング用として基板100の絶縁層130上に露出されている。基板100の外表面102に複数の外連結パッド140が形成されている。第一チップ10は複数の第一ボンディングパッド11を有し、第一ボンディングワイヤ31を介してそれらの第一ボンディングパッド11と対応のワイヤボンディングフィンガー110とを電気連結させる。第一チップ10と第二チップ20との間に介在物12が設置されている。第二チップ20は複数の第二ボンディングパッド21を有し、第二ボンディングワイヤ32を介してそれらの第二ボンディングパッド21と対応のワイヤボンディングフィンガー110とを電気接続させる。ゆえに、同一信号や共用電源または接地を利用するワイヤボンディングフィンガー110は、同時に第一ボンディングワイヤ31と第二ボンディングパッド21と連結することができる(図2に示す)。
周知のマルチチップ積層実装構造は、例えば、メモリカード、さらに封止体40を含み、この封止体40により第一チップ10と第二チップ20が密封されている。封止作業中に、もしチップやチップに接続するボンディングワイヤが不具合となれば、実装作業と検査作業の後に一つか一部のチップが正常に動かないと知って、もう不良なチップやボンディングワイヤは封止体に密封され、かつ基板に電気導通されたことによって、他の良好なチップに正常な動きができないように影響を及ぼして、不良なチップとともに半導体製品全体は捨てられることとなり、廃棄率の上昇を招いてしまう。
目前、上記の問題についての解決方法は幾つかが有り、一つはウエハーレベルクラス(wafer level class)に全部のチップに対して完全な電気検査を行って、正常に演算するチップを確認し得ることになるが、このような測定のコストはかなり高く、低コストの大量生産には向かない。他にもう一つの方法は、実装過程中に修復を行い、特許文献1の修復ができるマルチチップモジュール実装構造を参考にして、下層にダイアタッチと電気接続作業中かつ封止作業の前に電気検査を行い、正常ではない下層チップを発見すれば、下層チップに接続するボンディングワイヤを除去し、そして、一つの代用チップを積層方式で貼着させる。このような方法は、封止作業前に電気検査と不良チップのボンディングワイヤの除去をしなければいけないので、封止作業後の品質もまだ確定ではなく、製造過程にも余計な制限が出てくる。しかも、このような積層方式は、正常なチップを不良なチップ上に積み上げ、マルチチップ積層実装構造に対して専用のやり方ではない。
中華民国特許公開No.409,330号広報
本発明の主な目的は、マルチチップ積層基板とそれを使用するマルチチップ積層実装構造とその応用を提供することである。複数のチップは、実装構造内に積み上げられ、ヒューズを有するループ配線を用いて設計し、電気検査後にチップ群がお互い干渉せずにそれぞれ独立作業ができるようにさせる。
本発明のもう一つの目的は、マルチチップ積層基板とそれを使用するマルチチップ積層実装構造とその応用を提供し、それによって、封止作業の後にも、ヒューズを焼切ることができ、ボンディングワイヤを除去しなくても、修復を行えることに達する。
上記目的を達成するため、本発明では、次に述べる技術が提案されている。本発明によれば、マルチチップ積層基板は少なくとも第一ワイヤボンディングフィンガー、第二ワイヤボンディングフィンガー、トレース及びループ配線を備える。第一ワイヤボンディングフィンガーはダイアタッチエリアに隣接し、第二ワイヤボンディングフィンガーもダイアタッチエリアに隣接している。トレースは電気転送用として利用されている。ループ配線は第一ワイヤボンディングフィンガーと第二ワイヤボンディングフィンガーに直列接続し、かつトレースに接続されている。
上記基板において、ループ配線には第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズを設置し、第一ヒューズは第一ワイヤボンディングフィンガーとトレースとの間に直列接続され、第二ヒューズは第一ワイヤボンディングフィンガーと第二ワイヤボンディングフィンガーとの間に直列接続され、及び第三ヒューズは第二ワイヤボンディングフィンガーとトレースの間に直列接続されている。
上記基板において、第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズのそれぞれの線幅は、ループ配線の線幅よりも小さくなる。
上記基板において、さらに絶縁層を含み、この絶縁層は複数の開口を具備し、それらの開口は第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズに照準して第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズを露出させる。
上記基板において、絶縁層は、コア基板(core substrate)にすることができ、基板の外表面に第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズを露出させる。
上記基板において、絶縁層は、半田マスク層にすることができ、基板の内表面に第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズを露出させる。
上記基板において、第一ワイヤボンディングフィンガー、第二ワイヤボンディングフィンガー、トレース及びループ配線は基板の内表面に設置されることができ、さらに対外連結パッドを含み、この対外連結パッドは基板の外表面に設置されている。
上記基板において、ループ配線の外観は、ほぼ多辺形、円形と円弧形の周縁になる。
上記基板において、さらに第三ワイヤボンディングフィンガーを含み、この第三ワイヤボンディングフィンガーはループ配線と直列接続している。
本発明の第一実施例によるマルチチップ積層基板を公開している。図3は基板がマルチチップ積層実装構造に応用される断面図であり、図4はワイヤボンディング接続作業を行った後の基板の部分を示す斜視図であり、図5は各種の電気検査結果に応じる複数のヒューズ開閉状態の比較表を示す図であり、図6は基板の部分を示す断面図である。
図3と図4に示すように、基板200は少なくとも複数のフィンガーセットを含み、各フィンガーセットは第一ワイヤボンディングフィンガー211、第二ワイヤボンディングフィンガー212、トレース220及びループ配線230を備える。基板200は内表面201と外表面202を有し、内表面201上にダイアタッチエリア203を定義してこのダイアタッチエリア203には複数の積層チップ50、積層チップ60或はより多くを設置している。第一ワイヤボンディングフィンガー211と第二ワイヤボンディングフィンガー212はお互いに接近してダイアタッチエリア203に隣接し、基板200の内表面201に設置される。図4に示すように、トレース220は電気伝送用として基板200の内表面201に設置される。本実施例では、基板200はさらに基板200の外表面202に設置される対外連結パッド250を含み、この対外連結パッド250は細長い形状のゴルドフィンガー(gold finger)にしてもよく、半導体製品のメモリカードに適用している。
図4に示すように、ループ配線230は第一ワイヤボンディングフィンガー211と第二ワイヤボンディングフィンガー212と直列接続し、また、トレース220に接続され、よって、第一ワイヤボンディングフィンガー211と第二ワイヤボンディングフィンガー212とはそれぞれトレース220に電気接続されている。本実施例では、ループ配線230は基板200の内表面201に設置されることができ、ほぼ多辺形、円形或は円弧形の周縁という外形になる。再び図4を参考にして、選択できるヒューズ切れを提供するため、ループ配線230には第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3を設置することができる。その中で、第一ヒューズF1は第一ワイヤボンディングフィンガー211とトレース220との間に直列接続され、第二ヒューズF2は第一ワイヤボンディングフィンガー211と第二ワイヤボンディングフィンガー212との間に直列接続され、及び第三ヒューズF3は第二ワイヤボンディングフィンガー212とトレース220との間に直列接続されている。第一ワイヤボンディングフィンガー211と第二ワイヤボンディングフィンガー212との間隔は単一の第二ヒューズF2だけを配置できることが理想的と考えられ、ゆえに、第一ワイヤボンディングフィンガー211と第二ワイヤボンディングフィンガー212とは緊密に配列されることができる。一般に、第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3の中のどれの線幅もループ配線230の線幅よりも小さくなるので、レーザ光線90で選択的にヒューズを焼切って線路切断することが可能である。本実施例では、第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3はループ配線230と同一の製造材料にしてもよく、例えば、一般にCu(銅)等を使用し、或は、タングステンフィラメント(tungsten filament)、或は、他に焼切りができる金属も使える。
本発明の第一実施例によれば、基板200はさらにマルチチップ積層実装構造に応用されることができ、特に、マイクロSDカードである。図3に示すように、マルチチップ積層実装構造は少なくとも、基板200、第一チップ50及び第二チップ60を含む。第一チップ50は基板200のダイアタッチエリア203に設置され、複数の第一ボンディングパッド51を具し、また、伝統的なワイヤボンディング接続技術を用いて、第一ボンディングワイヤ71は対応する第一ボンディングパッド51と第一ワイヤボンディングフィンガー211とを電気的に接続している。第二チップ60は第一チップ50の上方に積み上げられ、複数の第二ボンディングパッド61を具し、また、伝統的なワイヤボンディング接続技術を用いて、第二ボンディングワイヤ72は対応する第二ボンディングパッド61と第二ワイヤボンディングフィンガー212とを電気的に接続している。具体的に言えば、マルチチップ積層実装構造はさらに介在物52を含み、この介在物52は第一チップ50と第二チップ60との間に設置されることにより、第二チップ60の背面は第一チップ50と第一ボンディングワイヤ71に直接に接触しない。
再び図3を参考にして、封止体80は、基板200の内表面201に形成されて第一チップ50、第二チップ60、第一ボンディングワイヤ71及び第二ボンディングワイヤ72を密封している。
具体的に言えば、基板200はさらに半田マスク層260を有し、この半田マスク層260は基板200の内表面201に形成されて基板200の配線層を部分的に覆いそしてトレース220を覆い、かつワイヤボンディング接続のために、第一ワイヤボンディングフィンガー211と第二ワイヤボンディングフィンガー212を露出させる。
本実施例では、マルチチップ積層実装構造はさらに制御チップを具し、制御チップはトレース220と電気的に接続して、その応用として、第一チップ50と第二チップ60をともにメモリチップにすれば、メモリカード(図に示していない)を組み立てることができる。
使われる各チップの品質と状況はそれぞれ異なって、検査結果により不良品と判定されるチップを図5に示すような対応調整に従えば、第一ヒューズF1、第二ヒューズF2や第三ヒューズF3を焼切ることにより、他の良好チップが正常に動くことができる。封止作業完成の後にも、電気検査と修復作業を行うことが可能である。
また、図4と図5を参考にして、検査結果において、第一チップ50と第二チップ60が良好の場合には、第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3を切断する必要がない。次に、第一チップ50だけが故障する場合には、第一ヒューズF1と第二ヒューズF2とを切断することにより、第一ワイヤボンディングフィンガー211とトレース220との間は電気的に遮断されて、下層の第一チップ50は基板200の内部配線と完全に電気遮断されることになる。よって、第二チップ60は、第一チップ50による干渉がなく、正常な演算ができる。しかも、第二チップ60と接続する第二ボンディングワイヤ72を除去や切断する必要がない。
再び図4と図5を参考にして、第二チップ60だけが故障する場合には、第二ヒューズF2と第三ヒューズF3とを切断して、第二ボンディングワイヤ72とトレース220との間は電気的に遮断されて、上層の第二チップ60は基板200の内部配線と完全に電気遮断されることになる。よって、第一チップ50は、第二チップ60による干渉がなく、正常に作動することができる。しかも、第一チップ50と接続する第一ボンディングワイヤ71を除去や切断する必要がない。
ゆえに、第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3を用いて、選択ができる断線にして、第一チップ50と第二チップ60はお互いに干渉せず、それぞれ独立作業をしている。つまり、マルチチップ積層実装構造中に、一個や一部分のチップが故障となれば、不良チップと接続するワイヤボンディングフィンガーのヒューズだけを焼切って、ワイヤボンディングフィンガーを断線状態にさせることにより、他の良好チップ群は正常に働くことができ、製造コストの低減を提供している。その上に、このような選択ができるヒューズ切断作業は、製造過程において、ダイアタッチ作業や封止作業の後に行われることが便利になって好ましい。
図6に示すように、基板200はさらに複数の開口241を有する絶縁層240を含み、それらの開口241は第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3に照準して第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3をレーザ光線90で任意切断することができるように第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3を露出させる。絶縁層240をコア基板にすることは好ましく、それによって、第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3を基板200の外表面202に露出させ、ワイヤボンディング接続作業と封止作業の後にも、レーザ光線90を用いて第一ヒューズF1、第二ヒューズF2及び第三ヒューズF3を焼切って断線している。本実施例では、誘電性充填物270を用いてそれらの開口241に充填している。
図7Aから図7Dまでは、ワイヤボンディング接続作業と封止作業の後の基板200上の断線の形成方法を示している。まず、図7Aに示すように、ワイヤボンディング接続、封止と検査作業を行ったマルチチップ積層実装構造は、平台に放置されながら、基板200の外表面202をレーザ光線射出装置に向けさせる。次に、図7Bに示すように、不良チップと接続するヒューズF1、ヒューズF2及びヒューズF3を探出す。また、図7Cに示すように、絶縁層240の開口241群は第二ヒューズF2を露出し、レーザ光線90を用いて、第二ヒューズF2を切断して、断線状態になる。最後に、図7Dに示すように、PCBビア充填技術(PCB via-filling technique)を応用して、それらの開口241、即ち、レーザ光線に照射されたのとされていない開口に誘電性充填物270を入れ、よって、それらのヒューズF1、ヒューズF2及びヒューズF3の露出を避けている。
第二実施例では、他にもう一種のマルチチップ積層実装構造を公開している。図8に示すように、基板300は複数の電気機構を含み、各電気機構は少なくとも第一ワイヤボンディングフィンガー311、第二ワイヤボンディングフィンガー312、トレース320及びループ配線330を備える。本実施例では、第一ワイヤボンディングフィンガー311、第二ワイヤボンディングフィンガー312、トレース320及びループ配線330は、基板300の内表面301に配置されることができる。基板300はさらに対外連結パッド350を含み、この対外連結パッド350は基板300の外表面302に設置されている。第一ワイヤボンディングフィンガー311と第二ワイヤボンディングフィンガー312は、複数のチップ50’とチップ60’を積み上げるダイアタッチエリアに隣接している。トレース320は、電気転送用として利用されている。ループ配線330は、第一ワイヤボンディングフィンガー311と第二ワイヤボンディングフィンガー312に直列接続し、かつトレース320に接続されている。再び図8を参考にして、ループ配線330に少なくともヒューズ360が設置され、このヒューズ360は第一ワイヤボンディングフィンガー311、第二ワイヤボンディングフィンガー312とトレース320の間に直列接続されて選択ができる断線を提供している。
具体的に言えば、基板300はさらに複数の開口341を有する絶縁層340を含み、それらの開口341はレーザ光線90でヒューズ360を切断し易いため、ヒューズ360に照準してヒューズ360を露出させる。本実施例では、絶縁層340は半田マスク層にしてもよく、基板300の内表面301にヒューズ360を露出させて、封止作業の前に選択可能な断線を行うことに適用している。
図9Aから図9Cまでは、ワイヤボンディング接続作業の後かつ封止作業の前の基板300のヒューズ焼切り方法を示している。まず、図9Aに示すように、第一チップ50’は基板300の内表面301に設置され、少なくとも第二チップ60’は第一チップ50’の上方に積み上げられ、また、複数の第一ボンディングワイヤ71’を用いて第一チップ50’の第一ボンディングパッド51’群と第一ワイヤボンディングフィンガー311とを電気的に接続し、複数の第二ボンディングワイヤ72’を用いて第二チップ60’の第二ボンディングパッド61’群と第二ワイヤボンディングフィンガー312とを電気的に接続している。次に、電気検査された後及び封止作業を行う前に、上記マルチチップ積層実装構造の半製品は平台に放置されながら、基板300の内表面301がレーザ光線射出装置に向くことにより、ヒューズ360が露出されている。そして、図9Bに示すように、検出された不良チップのワイヤボンディングフィンガーと接続するヒューズ360をレーザ光線90を用いて切断している。最後、図9Cに示すように、ヒューズ360は断線状態になるので、検出された不良チップは基板300の内部配線と電気的に遮断されている。ゆえに、ヒューズ360を使って選択可能な断線を形成することができ、複数の積層チップはお互いに干渉せず、それぞれ独立な作業をしている。
第三実施例では、さらに他にもう一種のマルチチップ積層実装構造を開示している。図10に示すように、基板400は少なくとも第一ワイヤボンディングフィンガー411、第二ワイヤボンディングフィンガー412、トレース420及びループ配線430を備える。第一ワイヤボンディングフィンガー411と第二ワイヤボンディングフィンガー412はダイアタッチエリア403に隣接し、トレース420は電気転送用として利用されている。ループ配線430は第一ワイヤボンディングフィンガー411と第二ワイヤボンディングフィンガー412と直列接続し、かつトレース420に接続されている。本実施例では、積層チップの数により、基板400は第三チップとワイヤボンディング接続用としてさらに第三ワイヤボンディングフィンガー413を具し、この第三ワイヤボンディングフィンガー413はダイアタッチエリア403に隣接してループ配線430に直列接続されている。また、第一ワイヤボンディングフィンガー411、第二ワイヤボンディングフィンガー412、第三ワイヤボンディングフィンガー413、トレース420及びループ配線430は、基板400の内表面401に設置されている。
なお、図10に示すように、ループ配線430に第一ヒューズF1、第二ヒューズF2、第三ヒューズF3、第四ヒューズF4及び第五ヒューズF5を設置することができる。第一ヒューズF1は第一ワイヤボンディングフィンガー411とトレース420との間に直列接続され、第二ヒューズF2は第一ワイヤボンディングフィンガー411と第二ワイヤボンディングフィンガー412との間に直列接続され、第三ヒューズF3は第二ワイヤボンディングフィンガー412とトレース420との間に直列接続され、第四ヒューズF4は第二ワイヤボンディングフィンガー412と第三ワイヤボンディングフィンガー413との間に直列接続され、第五ヒューズF5は第三ワイヤボンディングフィンガー413とトレース420との間に直列接続されている。それにより、選択可能な断線を提供して、基板上の複数の積層チップ(三個かより多く)をボンディングワイヤを除去しなくても修復できるメリットを有するとともに、半導体実装過程中や製品完成後に修復作業を行ってもよいことは、全体の製造過程にとって柔軟性と便利性をより向上することができる。
以上、本発明をその好適な実施例に基づいて説明したが、本発明の保護範囲は後付の特許申請範囲で限定されて、この保護範囲に基準して本発明の精神と範囲内に触れるどんな変更や修正も本発明の保護範囲に属する。
周知のマルチチップ積層基板の断面図である。 ワイヤボンディング接続された後の周知の基板の斜視図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造を示す断面図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造のワイヤボンディング接続された後の基板を示す斜視図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板と各種検査結果に従う複数のヒューズ開閉状態の比較表を示す図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板を示す断面図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板の底面の断線形成方法を示す断面図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板の底面の断線形成方法を示す斜視図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板の底面の断線形成方法を示す断面図である。 本発明の第一実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板の底面の断線形成方法を示す断面図である。 本発明の第二実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板を示す断面図である。 本発明の第二実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板上の断線形成方法を示す模式図である。 本発明の第二実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板上の断線形成方法を示す斜視図である。 本発明の第二実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板上の断線形成方法を示す斜視図である。 本発明の第三実施例によるマルチチップ積層実装構造の基板の内表面を示す模式図である。
符号の説明
10:第一チップ、11:第一ボンディングパッド、12:介在物、20:第二チップ、21:第二ボンディングパッド、31:第一ボンディングワイヤ、32:第二ボンディングワイヤ、40:封止体、50:第一チップ、50’:第一チップ、51:第一ボンディングパッド、51’:第一ボンディングパッド、52:介在物、60:第二チップ、60’:第二チップ、61:第二ボンディングパッド、61’:第二ボンディングパッド、71:第一ボンディングワイヤ、71’:第一ボンディングワイヤ、72:第二ボンディングワイヤ、72’:第二ボンディングワイヤ、80:封止体、90:レーザ光線、90’:レーザ光線、100:基板、101:内表面、102:外表面、103:ダイアタッチエリア、110:ワイヤボンディングフィンガー、120:トレース、130:絶縁層、140:対外連結パッド、200:基板、201:内表面、202:外表面、203:ダイアタッチエリア、211:第一ワイヤボンディングフィンガー、212:第二ワイヤボンディングフィンガー、220:トレース、230:ループ配線、240:絶縁層、241:開口、250:対外連結パッド、260:半田マスク層、270:誘電性充填物、300:基板、301:内表面、302:外表面、311:第一ワイヤボンディングフィンガー、312:第二ワイヤボンディングフィンガー、320:トレース、330:ループ配線、340:絶縁層、341:開口、350:対外連結パッド、360:ヒューズ、401:内表面、403:ダイアタッチエリア、411:第一ワイヤボンディングフィンガー、412:第二ワイヤボンディングフィンガー、413:第三ワイヤボンディングフィンガー、420:トレース、430:ループ配線、F1:第一ヒューズ、F2:第二ヒューズ、F3:第三ヒューズ、F4:第四ヒューズ、F5:第五ヒューズ

Claims (8)

  1. (a)第一ワイヤボンディングフィンガーはダイアタッチエリアに隣接して設けられ、
    (b)第二ワイヤボンディングフィンガーはダイアタッチエリアと第一ワイヤボンディングフィンガーに隣接して設けられ、
    (c)トレースは電気転送用として利用され、
    (d)ループ配線は、第一ワイヤボンディングフィンガーと第二ワイヤボンディングフィンガーとが直列接続され、第二ワイヤボンディングフィンガーとトレースとが直列接続され、トレースと第一ワイヤボンディングフィンガーとが直列接続されることで多辺形、円形或いは円弧形の周縁状に形成されるマルチチップ積層基板。
  2. ループ配線に第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズが設置され、
    第一ヒューズは第一ワイヤボンディングフィンガーとトレースとの間に直列接続され、
    第二ヒューズは第一ワイヤボンディングフィンガーと第二ワイヤボンディングフィンガーとの間に直列接続され、
    第三ヒューズは第二ワイヤボンディングフィンガーとトレースとの間に直列接続されていることを特徴とする請求項1記載のマルチチップ積層基板。
  3. 第一ワイヤボンディングフィンガー、第二ワイヤボンディングフィンガー、トレース及びループ配線は、基板の内表面に設置され、さらに対外連結パッドを含み、対外連結パッドは基板の外表面に設置されていることを特徴とする請求項1記載のマルチチップ積層基板。
  4. さらに第三ワイヤボンディングフィンガーを含み、
    第三ワイヤボンディングフィンガーはループ配線に直列接続されていることを特徴とする請求項1記載のマルチチップ積層基板。
  5. (a)基板は、
    (1)ダイアタッチエリアに隣接する第一ワイヤボンディングフィンガーと、
    (2)前記ダイアタッチエリアと第一ワイヤボンディングフィンガーとに隣接する第二ワイヤボンディングフィンガーと、
    (3)電気転送用として利用されるトレースと、
    (4)第一ワイヤボンディングフィンガーと第二ワイヤボンディングフィンガーとが直列接続され、第二ワイヤボンディングフィンガーとトレースとが直列接続され、トレースと第一ワイヤボンディングフィンガーとが直列接続されることで多辺形、円形或いは円弧形の周縁状に形成されるループ配線と、を備え、
    (b)基板のダイアタッチエリアに設置され、第一ワイヤボンディングフィンガーに電気的に接続される第一チップと、
    (c)第一チップの上方に積み上げられ、第二ワイヤボンディングフィンガーに電気的に接続される第二チップと、
    からなることを特徴とするマルチチップ積層実装構造。
  6. ループ配線に第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズが設置され、
    第一ヒューズは第一ワイヤボンディングフィンガーとトレースとの間に直列接続され、
    第二ヒューズは第一ワイヤボンディングフィンガーと第二ワイヤボンディングフィンガーとの間に直列接続され、
    第三ヒューズは第二ワイヤボンディングフィンガーとトレースとの間に直列接続されていることを特徴とする請求項5記載のマルチチップ積層実装構造。
  7. 基板は、さらに複数の開口を有する絶縁層を有し、
    開口は第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズに照準して第一ヒューズ、第二ヒューズ及び第三ヒューズを露出させていることを特徴とする請求項6記載のマルチチップ積層実装構造。
  8. 開口に入れる誘電性充填物を具備していることを特徴とする請求項7記載のマルチチップ積層実装構造。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11204720A (ja) * 1998-01-14 1999-07-30 Sharp Corp 半導体装置及びその製造方法
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11204720A (ja) * 1998-01-14 1999-07-30 Sharp Corp 半導体装置及びその製造方法
JP2002237567A (ja) * 2001-02-09 2002-08-23 Nec Corp 半導体装置

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