JP4575581B2

JP4575581B2 - ガスセンサ

Info

Publication number: JP4575581B2
Application number: JP2000358023A
Authority: JP
Inventors: 総一田畑; 勝己檜垣; 晃太横山; 久男大西; 克己小野寺; 慎次荻野; 卓弥鈴木; 健二国原
Original assignee: Osaka Gas Co Ltd; Fuji Electric Systems Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd; Osaka Gas Co Ltd
Priority date: 2000-11-24
Filing date: 2000-11-24
Publication date: 2010-11-04
Anticipated expiration: 2020-11-24
Also published as: JP2002162373A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、電池駆動を念頭においた低消費電力型ガスセンサの改良、特に、温湿度変化や経年変化に対する信頼性を高めるようにしたガスセンサに関する。
【０００２】
【従来の技術】
都市ガスやＬＰガスなどの漏洩検知を目的としたガスセンサが実用化されているが、それらは主にＰｔ線などの周りに半導体や酸化触媒からなる焼結体を形成することによって作られている。しかし、これらのセンサは小型化に限界があることから低消費電力化は難しく、電池による長時間駆動は不可能であった。そこで低消費電力化が比較的容易なマイクロマシーン加工技術を用いたセンサも出現している。これは、Ｓｉ基板上にヒータやガス検知膜を薄膜にて積層し、裏面または上部からＳｉをエッチングにより取り除いた熱絶縁構造を形成したものである。さらに、熱絶縁構造によりヒータの応答速度が極めて早いという利点を生かし、ヒータをパルス駆動により動作させることで、より消費電力の低減を図ることもできる。このように低消費電力化という点において、マイクロマシーン加工技術を用いたセンサは優れているが、一方、センサの信頼性という観点からは必ずしも充分とは言い難い。
【０００３】
図５にセンサの従来例を示す。
【０００４】
すなわち、ダイアフラム構造１を支える支持層２の上部に薄膜ヒータ３が形成され、さらにＳｉＯ₂電気絶縁膜４を介してセンサ用Ｐｔ／Ｔａ電極５がドライエッチ加工にて形成されている。その上部に検知層としてのＳｎＯ₂層６がスパッタにより形成される。７は選択燃焼層を示す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
図６は上記センサを用い、大気中でパルス通電を繰り返した際のａｉｒ中雰囲気と、ＣＨ₄ガス２０００ｐｐｍ雰囲気での各抵抗Ｒａｉｒ，Ｒｇａｓの経時変化を示す。この試験において、ヒータのオン／オフはそれぞれ１００ｍｓｅｃ／１００ｍｓｅｃの時間間隔で実施され、ヒータの昇温速度は５ｍｓｅｃ以下と早く、室温と４５０℃のヒートショックが繰り返されることになる。この図から、繰り返しとともにセンサのガス中における抵抗値Ｒｇａｓが、次第に上昇して行く様子が観測される。
【０００６】
図７に湿度環境を変化させた場合の感度特性を示す。
【０００７】
すなわち、湿度が高くなるに伴い、ａｉｒ雰囲気での抵抗Ｒａｉｒが低下する一方Ｒｇａｓが上昇し、感度が著しく低下し殆ど消失していることが分かる。このように、繰り返しにおけるＲｇａｓの安定や高湿雰囲気下での感度低下など、信頼性の点で実用化に問題を残していると言える。
【０００８】
したがって、この発明の課題は、高湿雰囲気下においてもセンサ抵抗の経時変化が少なく、信頼性の高いガスセンサを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
このような課題を解決するため、請求項１の発明では、
薄膜状の支持膜の外周部または両端部をＳｉ基板により支持し、外周部または両端部が厚く、中央部が薄く形成されたダイアフラム様の支持基板上に、電極と、この電極の上にガス検知膜を備えたガスセンサにおいて、
前記電極には前記支持基板から前記ガス検知膜に向けてテーパ角を持たせ、段差を含む電極表面の凹凸にかかわらず均一な膜厚のガス検知膜を形成可能にしたことを特徴とする。
【００１０】
一般に、スパッタや蒸着などの手法により膜を形成する場合、基板表面に到着した粒子は、付着した位置から殆ど動かないため、膜の堆積状態は粒子の到達角度により決まる。従って、入射粒子の回り込み角とシャドーイング効果により、電極などの段差上での被覆性が決まるため、一般的なスパッタ粒子による段差被覆性は例えば図４に示すようにような形状になり、成膜温度が低い場合には図４の破線位置にクラックが発生する場合もある。ガスセンサの場合にも電極を標準的なドライエッチやウエットエッチによる方法でパターニングし、ほぼ垂直に切り立った段差上にガス検知膜を形成すると、図４と同様の形状となることが確認されている。
【００１１】
上記のような構造では、被覆された膜に、部分的に発生したクラックの影響による不連続性や膜厚の不均一性が生じ、均一に検知膜が形成された場合と比較して、高いセンサ抵抗を示すことが分かっている。さらには、このような段差欠陥部では水などがより吸着され易いことは、想像に難くない。つまり、水などが吸着され易いこのような段差欠陥部が、ガスセンサの感度特性（抵抗変化）を支配していることとなり、経時変化や温湿度特性に影響を与えることは十分に考えられる。
【００１２】
これを避けるためには、電極などの段差部のテーパ角を小さくし、なだらかな傾斜上に検知膜を成膜すれば良い。もちろん、被覆するガス検知膜の形成方法や成膜条件を変えることで、段差被覆性を改善することも可能である。例えば、ＬＳＩ等の層間絶縁膜としてＳｉＯ₂膜のバイアススパッタ技術が知られており、これをガス検知膜の成膜に応用するといったことも考えられる。しかし、ガスセンサに用いられる薄膜式の検知膜は、モフォロジー（微細な表面形状）や膜厚，結晶性（配向性）などを対象とする被検ガスの感度が最大となるように最適制御する必要があることから、被覆性の改善による方向とは必ずしも整合しないことが多く、両立させるのは難しい。この発明は、このような点の解決を図るものと言える。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の実施の形態を示す構成図である。同図からも明らかなように、センサ電極５にテーパ角を持たせ、段差を含む電極表面の凹凸にかかわらず均一なガス検知膜６を形成可能にした点が特徴である。
【００１４】
以下、その製造方法について説明する。
【００１５】
両面に熱酸化膜を３０００Å形成したＳｉ基板１の表面に、ダイアフラム構造の支持層となるＳｉＮとＳｉＯ₂膜２を、プラズマＣＶＤ法にてそれぞれ１５００Åと１μｍ形成する。その上にヒータ層３としてＰｔＷ膜を０．５μｍ形成し、ウエットエッチによりヒータパターンを形成する。さらに、ＳｉＯ₂絶縁膜４をスパッタ法により１．０μｍ形成した後、ヒータと電極パッドの接合箇所をＨＦにてエッチングし、窓明けを行なう。
【００１６】
次いで、Ｐｔ／Ｔａ（２０００Å／５００Å）膜をガス検知膜の電極５として成膜し、ウエットエッチによりパターニングする。ここで、ＴａはＳｉＯ₂とＰｔ膜間の接合層としての役割を有する。さらに、この上部にガス検知膜６として、スパッタ法によるＳｎＯ₂をリフトオフ法により形成する。
【００１７】
次に、アルミナ粒子にＰｔおよびＰｄ触媒を担持させた粉末をバインダとともにペーストとし、スクリーン印刷によりＳｎＯ₂の表面に塗布，焼成させ、約２０μｍ厚の選択燃焼層７を形成する。最後に、基板の裏面からドライエッチによりＳｉを４００μｍ径の大きさにて完全に除去し、ダイアフラム構造とする。
【００１８】
ここで、ヒータ層（ＰｔＷ）と電極（Ｐｔ／Ｔａ）のパターニングの際には、きのこかさ状に形成された２種のメタル層をマスクとした一種のリフトオフ法を用いることで、ここでは約２０°程度の滑らかなテーパを形成した。このテーパは、成膜条件等を変更することで１０°〜８０°とすることができる。
【００１９】
（Ａ）こうすることで、下記のＲｇａｓ値の変動を抑制する効果が大幅に改善されるが、テーパ角を４０°未満とすると、上記に加えて高湿度時の感度の低下現象を抑制する効果が顕著となり、さらに好ましい。
【００２０】
（Ｂ）なお、このテーパ角は、８０°より大きくなるとガス検知膜の均一性を保てず、下記のＲｇａｓ値の変動と高湿度時感度低下に対する改善効果がなくなる。
【００２１】
図２は以上のようにして得たセンサを用い、大気中でパルス通電を繰り返した際のａｉｒ中雰囲気と、ＣＨ₄ガス２０００ｐｐｍ雰囲気での各抵抗Ｒａｉｒ，Ｒｇａｓの経時変化を示す。また、図３に湿度環境を変化させた場合の感度特性を示す。
【００２２】
いずれの図からも、テーパを考慮していない従来例に比べて特性が改善されているのが分かる。因みに、２０００万回のパルス動作を経た後でも、初期時に対するガス中抵抗値Ｒｇａｓの変化は殆ど無いばかりか、４０℃，８０％の高湿環境下における感度低下やＲｇａｓの変化も小さく、十分に実用に供し得ることが分かる。
【００２３】
【発明の効果】
この発明によれば、ガス検知膜の電極にテーパを付けるだけの簡単な構成により、高湿環境下においても経時変化の少ない信頼性の高いガスセンサを得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明によるガスセンサの構成図である。
【図２】ガスセンサの抵抗値変化を説明するための説明図である。
【図３】ガスセンサの湿度環境を変化させた場合の感度特性説明図である。
【図４】段差被覆性の説明図である。
【図５】ガスセンサの従来例を示す構成図である。
【図６】図５に示すガスセンサの抵抗値変化を説明するための説明図である。
【図７】図５に示すガスセンサの湿度環境変化を説明する感度特性説明図である。
【符号の説明】
１…Ｓｉ基板、２…支持層、３…ヒータ層、４…絶縁層（ＳｉＯ₂層）、５…センサ電極、６…ガス検知層、７…選択燃焼層。

Claims

薄膜状の支持膜の外周部または両端部をＳｉ基板により支持し、外周部または両端部が厚く、中央部が薄く形成されたダイアフラム様の支持基板上に、電極と、この電極の上にガス検知膜を備えたガスセンサにおいて、
前記電極には前記支持基板から前記ガス検知膜に向けてテーパ角を持たせ、段差を含む電極表面の凹凸にかかわらず均一な膜厚のガス検知膜を形成可能にしたことを特徴とするガスセンサ。