JP4572389B2 - 光学活性ホスホン酸エステル類の製造方法 - Google Patents
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しかしながら、この方法では、光学活性なノルボルニルホスホン酸エステル類の製造方法を得ることができなかった。
以下の一般式(4)で示される光学活性配位子及びパラジウム金属を含む触媒
[化3](4)
(式中、RとR’は、それぞれ、シクロヘキシル、フェニル、3級ブチルから選ばれる基を示す。)の存在下、
下記一般式(1)
[化1](1)
で表されるノルボルネンまたはこの骨格を有する誘導体に、
下記一般式(2)
HP(O)(OR1)(OR2) (2)
(式中R1とR2は、異なっても又環状を形成してもよい。R1とR2は環状を形成しない時は、それぞれアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基を示す炭化水素基を示す。R1とR2は環状を形成する時には、アルキレン基又は置換アルキレン基を示す)で表される第2級ホスホン酸エステルを反応させることを特徴とする、
下記一般式(3)
[化2](3)
(式中、R1〜R2は、前記と同じ)で表される光学活性ノルボニルまたは置換ノルボニルホスホン酸エステル類の製造方法。
HP(O)(OR1)(OR2)
(式中R1とR2は、異なっても又環状を形成してもよい。R1とR2は環状を形成しない時は、それぞれアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基を示す炭化水素基を示す。R1とR2は環状を形成する時には、アルキレン基又は置換アルキレン基を示す)で表される第2級ホスホン酸エステルを反応させて、一般式(3)
(R1〜R2は、前記と同じ)で表される光学活性ノルボニルまたは置換ノルボニルホスホン酸エステル類を製造するに当たり、光学活性配位子Lと10族遷移金属を含む触媒を用いることを特徴としている。
式中、R1とR2は、異なっても又環状を形成してもよい。R1とR2は環状を形成しない時は、それぞれアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基を示す炭化水素基を示す。R1とR2は環状を形成する時には、アルキレン基又は置換アルキレン基を示す。
前記シクロアルキル基の炭素数は3〜12、好ましくは5〜6である。その具体例としては、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシルなどが例示される。
前記アリール基の炭素数は6〜14、好ましくは6〜12である。その具体例としては、フェニル、ナフチル、それらの置換用(トリル、ナフチル、ベンジルフェニルなど)が例示される。
本発明で好適に用いることができる光学活性な配位子は、一般式(4)で示される。式中、RとR’は、それぞれ、シクロヘキシル、フェニル、3級ブチルなどを示す。
1,4−ジオキサン 1ミリリットルに、HP(O)(OCMe2−Me2CO) 1ミリモル、ノルボルネン 1ミリモル、触媒として 酢酸パラジウム(5モル%)と光学活性なホスフィン(適量)を加え、窒素雰囲気下、100℃で20時間反応させた。反応液を濃縮し、液体クロマトグラフィーにより単離精製すると、光学活性な2-ノルボニル−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサホスホラン2−オキシドが得られた。付加物の光学純度は、液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いて、ダイセル社製chiralpak AS columnより求めた。
上記実験操作を行い、種々の条件下反応を行った。結果は、表1と表2にまとめた。
酢酸パラジウムと光学活性ホスフィンを用いる代わりに、以下に示すジメチルパラジウム錯体(5モル%)を使い、実施例4と同じ条件下で反応を行ったところ、付加物が90%の収率で得られた(81% eeであった。)
酢酸パラジウムの代わりに、(ジベンジリデンアセトン)パラジウムを用い、実施例4と同じ条件下で反応を行ったところ、付加物が82%の収率で得られた(83% eeであった。)
Claims (1)
- 以下の一般式(4)で示される光学活性配位子及びパラジウム金属を含む触媒
[化3](4)
(式中、RとR’は、それぞれ、シクロヘキシル、フェニル、3級ブチルから選ばれる基を示す。)の存在下、
下記一般式(1)
[化1](1)
で表されるノルボルネンまたはこの骨格を有する誘導体に、
下記一般式(2)
HP(O)(OR1)(OR2) (2)
(式中R1とR2は、異なっても又環状を形成してもよい。R1とR2は環状を形成しない時は、それぞれアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基を示す炭化水素基を示す。R1とR2は環状を形成する時には、アルキレン基又は置換アルキレン基を示す)で表される第2級ホスホン酸エステルを反応させることを特徴とする、
下記一般式(3)
[化2](3)
(式中、R1〜R2は、前記と同じ)で表される光学活性ノルボニルまたは置換ノルボニルホスホン酸エステル類の製造方法。
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JP2003261581A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Daicel Chem Ind Ltd | アルキルホスホン酸エステル類の製造法 |
JP2005528354A (ja) * | 2002-03-13 | 2005-09-22 | デグサ アクチエンゲゼルシャフト | フェロセニル配位子及び触媒反応におけるその使用 |
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2005
- 2005-11-21 JP JP2005335204A patent/JP4572389B2/ja not_active Expired - Fee Related
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