JP4566119B2 - 薄膜の製造方法 - Google Patents
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メタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ−ル
メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン等のアルカン
エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン等のアルケン
ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン
アセチレン、メチルアセチレン等のアルキン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、フェナントレン等の芳香族炭化水素
シクロプロパン、シクロヘキサン等のシクロアルカン
シクロペンテン、シクロヘキセン等のシクロアルケン
(a) 酸素ガス
(b) 水素ガス
酸素や水素は放電中に原子状となり、ダイヤモンドと同時に生成するグラファイトを除去する効果を有する。
(c) 一酸化炭素、二酸化炭素
(d) 希釈ガス
炭素源の原料ガス雰囲気中に占める濃度は、2〜80vol%が好ましい。
酸素ガス又は水素ガスのガス雰囲気中に占める濃度は、70vol%以下であることが好ましい。
チャンバー1内で成膜を実施する。基材は電極5もしくは電極4の上に設置することができる。図2では電極5上に基材6が設置されており、基材6と電極4とが対向しており、その間の空間に放電プラズマを生じさせる。チャンバー1のガス供給孔2から矢印Aのように原料ガスを供給し、電極間に静電誘導サイリスタ素子を用いた電源3からパルス電圧を印加してプラズマを生じさせる。これによって基材6上に薄膜7を生成させる。使用済のガスは排出孔8から矢印Bのように排出される。下部電極5内には冷媒の流通路9を形成し、流通路9内に矢印C、Dのように冷媒を流通させる。これによって、基材6の温度を所定温度、例えば20〜1000℃に制御する。
チャンバー1内で成膜を実施する。電極5上に基材6が設置されており、対向電極は設けられていない。電極5上の空間に放電プラズマを生じさせる。チャンバー1のガス供給孔2から矢印Aのように原料ガスを供給し、電極に静電誘導サイリスタ素子を用いた電源3からパルス電圧を印加してプラズマを生じさせる。これによって基材6上に薄膜7を生成させる。使用済のガスは排出孔8から矢印Bのように排出される。電極5内には冷媒の流通路9を形成し、流通路9内に矢印C、Dのように冷媒を流通させる。これによって、基材6の温度を所定温度、例えば20〜1000℃に制御する。
Claims (1)
- 炭素源およびヘリウムを含む原料ガスを含む雰囲気下で、電極とこの電極に対向する対向電極との間にパルス電圧を印加することによりグロー放電のみによって放電プラズマを生じさせ、基材上にダイヤモンド状炭素からなる薄膜を生成させるのに際して、前記電極および前記対向電極が固体誘電体で被覆されておらず、前記パルス電圧がインパルス型波形を有しており、前記パルス電圧のパルス継続時間が10〜1000nsecであり、前記圧力が1.0Torr以上、50Torr以下であることを特徴とする、薄膜の製造方法。
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JPH1088359A (ja) * | 1996-04-18 | 1998-04-07 | Nissin Electric Co Ltd | 炭素膜形成方法及び装置 |
JP2001181847A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-07-03 | Tokuyama Corp | 薄膜の製造方法 |
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