JP4565927B2 - 炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒 - Google Patents
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Description
特開平10−251202号公報(特許文献3)の実施例8には、超臨界フルオロホルム(約8.6MPa、80℃)中において、トリエチルアミン及びパラジウム炭素触媒存在下に、ヨードベンゼンとアクリル酸エチルを反応させてケイ皮酸エチルを合成する例が開示されている。しかしこの方法には、高圧を必要とするため、高圧反応設備を必要とするという難点があった。
この担体に担持されているパラジウム化合物を含むパラジウム触媒において、
前記担体に、前記パラジウム化合物の質量の1〜20質量倍の、150℃以下の融点を有する溶融塩が、さらに担持されていること
を特徴とするものである。
本発明の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒において、前記溶融塩が水に不溶であることが好ましい。
本発明の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒において、前記溶融塩の融点が常温以下であることが好ましい。
本発明の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒において、前記の不活性な多孔質金属酸化物からなる担体が、アミノ置換シラン化合物により前処理されたものであることが好ましい。
本発明の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒は下記のオレフィン基置換芳香族化合物の製造方法に有効なものである。この製造方法は、触媒及び塩基の存在下に、下記一般式(1):
で表される芳香族化合物と、下記一般式(2):
で表されるオレフィン化合物を反応させて、下記一般式(3):
で表されるオレフィン基置換芳香族化合物を製造するに際し、前記触媒として、前記本発明の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒を使用するものである。
上記のオレフィン置換芳香族化合物の製造方法において、前記一般式(1)の芳香族化合物と、前記一般式(2)のオレフィン化合物とのHeck反応が、水の存在下において行われることが好ましい。
R9SiR10 3-nYn (4)
〔ただし、R9は炭素数1〜10のアミノ置換炭化水素基を表し、R10は炭素数1〜5のアルキル基を表し、Yは炭素数1〜5のアルコキシ基、塩素原子または臭素原子を表し、nは1〜3の整数を表す。〕
で表されるアミノ置換シラン化合物により前処理されたものも使用できる。式(4)の化合物として、具体的には、H2N(CH2)2Si(OCH3)3、H2N(CH2)2Si(OC2H5)3、(C2H5)2N(CH2)2Si(OCH3)3、(CH3)HN(CH2)2Si(OC2H5)3、H2N(CH2)3Si(OCH3)3、(C2H5)2N(CH2)3Si(OCH3)3、H2N(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH3)3、H2N(CH2)2NH(CH2)2Si(CH3)(OCH3)2、C6H5HN(CH2)2Si(OCH3)3、H2N(CH2)2NH(CH2)2SiCl3などが例示できる。
前記のアミノ置換シラン化合物により処理された多孔質金属酸化物担体を製造するには、アミノ置換シラン化合物を適当な溶媒に溶解して得られた溶液を、多孔質金属酸化物担体に担持させ、これを加熱するなどの一般的な方法〔例えば、Synlett,873(2003)に記載の方法〕を用いることができる。
本発明の触媒中に固定化されるパラジウム化合物の量は、得られる触媒1gに対し通常、0.01〜0.8mmol/gであることが好ましく、より好ましくは0.04〜0.4mmol/gである。
本発明の触媒中に固定化される溶融塩の量は、当該触媒の存在下で行われる反応条件下において、パラジウム化合物を溶解するのに十分な量であればよく、通常、溶融塩の固定量はパラジウム化合物の質量に対して1〜20質量倍である。
パラジウム及び溶融塩を担体に含浸した触媒から、溶媒を減圧下に留去するなど通常の方法により分離除去する。さらに、使用する炭素−炭素結合生成反応の種類に応じ、必要があれば、減圧下において乾燥する。
本発明の触媒、及び塩基の存在下に、前記一般式(1)で表される芳香族化合物と前記一般式(2)で表されるオレフィン化合物とを反応させる。
前記芳香族化合物を表す前記一般式(1)中、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、あるいは−OSO2CF3基を表し、好ましくはヨウ素原子又は臭素原子を表し、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、ヒドロキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、ホルミル基、−CH(OR9)(OR10)、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアロイル基、−CO2M1基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、イミノ基、-NHCOR11、メルカプト基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、−SO2R12基、−SOR13基、或は−SO3M2基を表し、好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基を表し、前記R9及びR10は、それぞれ互に独立に1乃至4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、前記R11、R12及びR13はそれぞれ互に独立に、置換基を有していてもよいアルキル基あるいはアリール基を表し、前記M1及びM2は、それぞれ互に独立に水素原子あるいは金属原子を表し、但し、前記R4、R5、R6、R7及びR8は、これらの互に隣接する2個からなる少なくとも1対が、互に連結して、置換基を有していてもよい炭素環状基またはヘテロ環状基を形成していてもよいものである。
上記反応は常圧でも或は加圧下でも実施できる。
上記反応の反応時間は、通常、1乃至24時間である。
分離回収された本発明の触媒は、繰返して炭素−炭素結合反応に利用できる。これを数回反応に利用すると、反応で副生する塩が触媒中に取込まれ、そのために、触媒活性が低下する。このような活性が低下した触媒は、副生する塩が水に不溶でない限り、水洗することにより再活性化することができる。また、副生する塩が水に可溶である場合は、反応時に水を添加することによっても、本発明の触媒の活性低下を低減することができる。
次に、本発明を下記実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明はこれらの実施例により制限されるものではない。
〔実施例1〕
試験管に10mlのTHFと、1gの[bmim][PF6]と、及び690mgのPd(OAc)2とを入れ、30℃にて攪拌して前記触媒成分を溶解した。この溶液に10gのシリカ(中性、球状担体、粒子径;40〜50μm、比表面積;600〜700m2)を懸濁し、この懸濁液を30℃で90分間攪拌して、シリカ粒子に、前記[bmim][PF6]及びPd(OAc)2を含浸させた。得られた懸濁液から触媒成分とそれを含浸している担体とを含む触媒粒子を分離し、減圧下にTHFを留去し、得られた触媒をジエチルエーテルで洗浄し、減圧下において常温で乾燥した。それによって、流動性が高いパラジウム触媒Aを得た。触媒中のPd(OAc)2の担持量は、触媒1gに対し0.22mmolであり、[bmim][PF6]の担持量は、パラジウム化合物の質量に対し、9質量倍であった。
窒素ガス雰囲気下、シリカ担体JRC−SIO−8(触媒学会の参照触媒の型番、円筒状、直径3mm×長さ3〜4mm、比表面積:290m2/g)5.01gに、3−N,N−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシラン1.89ml(7.5mmol)、トルエン38mlを混合し、24時間加熱還流した。得られた混合物を室温に冷却後、溶媒を減圧留去した。得られたシリカゲルをジエチルエーテルで洗浄後、減圧下乾燥させて、前記3−N,N−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシランで処理したシリカ担体5.8gを得た。燃焼分析より、その窒素の担持量は0.71mmol/gであることを確認した。
試験管に、20mlのTHFと、498mgの[bmim][PF6]、及び59mgのPd(OAc)2とからなる触媒成分を入れ、室温にて撹拌して、前記触媒成分を溶解した。この溶液に、前記アミノ化シラン化合物で処理したシリカ担体5.03gを混合し、室温で4時間撹拌して、[bmim][PF6]及びPd(OAc)2からなる触媒成分を、シリカ担体に含浸させた。得られた懸濁液から、触媒成分とそれを担持している担体とを含む触媒粒子を分離し、減圧下にTHFを留去し、得られた触媒をジエチルエーテルで洗浄し、減圧下において常温で乾燥し、触媒B5.58gを得た。触媒中のPd(OAc)2の担持量は、触媒1gに対し0.043mmolであった。
〔実施例3〕
窒素雰囲気下、試験管中において、実施例1で調製したパラジウム触媒455mg(Pd(OAc)2として0.1mmol)を、ドデカン2ml中に懸濁させた。この懸濁液にヨードベンゼン115μl(1mmol)、アクリル酸シクロヘキシル190μl(1.2mmol)及びトリブチルアミン475μl(2mmol)を順次に加え、この混合反応液を150℃に加熱し、この温度において15時間撹拌した。得られた混合反応液を室温に冷却後、上澄み液をシリカゲルカラムに通し、ドデカンを除去した。得られた生成物は、ヘキサンと酢酸エチルとの混合溶媒を用いて、前記カラムから留出させた。前記混合溶媒を減圧留去後、得られた生成物を中圧液体クロマトグラフィーにより精製し(酢酸エチル:ヘキサン=1:20混合溶媒)、trans−ケイ皮酸シクロヘキシル228mg(収率96%)を得た。その同定試験結果を下記に示す。
trans−ケイ皮酸シクロヘキシル(無色油状物質):
H1−NMR (200MHz,TMS,CDCl3,d) 1.36〜1.55(m,6H),1.75〜1.97(m,4H), 4.84〜4.97(m,1H),6.45(d,J 16.0Hz, 1H),7.30〜7.39(m,3H),7.53〜7.55(m,2H),7.69(d,J 16.0Hz, 1H)
〔実施例4〜14〕
〔実施例15〜17〕
実施例15において、実施例3の反応終了後、混合反応液からドデカン層を分別し、その中に含まれている残存触媒を使用して、実施例3の操作を同様な条件で繰返した。また、実施例16、17において、実施例12、14で使用した触媒についても、同様に回収し再使用試験を行った。その結果を表2に示す。
実施例3の回収・再使用触媒では、繰返し4回目で収率が89%まで低下したので、この触媒を水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、これを上記反応に再使用したところ、収率は93%まで回復した。水溶媒中で反応した実施例12の回収・再使用触媒ではPdが担体から溶出し、再使用できなかった。しかし、アミノ化シラン化合物で処理した担体を使用した触媒Bを水溶媒中で反応した実施例14の回収・再使用触媒では、繰返し使用することが可能になった。
Claims (4)
- 不活性な多孔質金属酸化物からなる担体と、
この担体に担持されているパラジウム化合物を含むパラジウム触媒において、
前記担体に、前記パラジウム化合物の質量の1〜20質量倍の、150℃以下の融点を有する溶融塩が、さらに担持されていること
を特徴とする炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒。 - 前記溶融塩が水に不溶である、請求項1に記載の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒。
- 前記溶融塩の融点が常温以下である、請求項1又は2に記載の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒。
- 前記の不活性な多孔質金属酸化物からなる担体が、アミノ置換シラン化合物により前処理されたものである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒。
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