JP4563134B2 - 廃水処理システム - Google Patents
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Description
(1)本発明の実施態様の一例は、廃水処理システムが好気性微生物を培養して種菌溶液を生産する培養装置を備えている。培養装置は、所定量の廃水を貯水可能な第2曝気槽と、第2曝気槽内の廃水に空気を供給する第2散気器とから形成されている。培養装置では、微生物の種菌とその微生物の増殖を促進させる栄養源とが廃水とともに第2曝気槽に投入され、微生物が時間の経過にともなって第2曝気槽内の廃水1ミリリットル当たり107〜1010個に増殖する。
(2)本発明の実施態様の他の一例は、容器の容積に対する活性炭の充填密度が400〜450g/リットルの範囲にある。
(3)本発明の実施態様の他の一例は、第1および第2散気器の空気供給量が廃水1リットル当たり0.05〜0.1リットル/minの範囲にある。
(4)本発明の実施態様の他の一例は、第1および第2曝気槽がそれら槽内の廃水を加熱するヒータを備え、それら槽内の廃水温度がヒータによって20〜37℃に保持される。
(5)本発明の実施態様の他の一例は、第1および第2曝気槽がそれら槽内の廃水を循環させるポンプを備え、それら槽内における廃水の流速が1.2〜3.2cm/secの範囲にある。
(6)本発明の実施態様の他の一例は、第1曝気槽に投入される種菌溶液の割合が第1曝気槽内の廃水の単位体積に対して0.05%以上である。
(7)本発明の実施態様の他の一例は、第1曝気槽の廃水貯水量が200〜1000リットルの範囲にある。
Filtration Membrane)、逆浸透膜(RO:Reverse Osmosis Membrane)、ナノ濾過膜(NF:Nano Filtration Membrane)のうちの少なくとも限外濾過膜と逆浸透膜とが使用されている。それら膜は、酢酸セルロース、ポリアミド、ポリアクリルニトリル、ポリスルホン、ポリフッ化ビニルデン、テフロン(登録商標)、ポリプロピレンから作られている。膜は、性能劣化に応じて交換される。
5 第1曝気槽
6 第1散気器
7 ヒータ
8 ポンプ
11 粒状活性炭
25 培養装置
26 第2容器
27 第2曝気槽
28 第2散気器
29 ヒータ
30 ポンプ
49 膜装置
50 流入口
51 流出口
52 環流口
64 生物膜
Claims (8)
- 表面に好気性微生物を付着させる濾材を収容した通気通水性の容器と、所定量の廃水を貯水可能かつ前記容器を収容可能な第1曝気槽と、前記第1曝気槽内の廃水に空気を供給する第1散気器とを有し、前記微生物の増殖と代謝活性とを利用して前記廃水に含まれる有機物を分解する廃水処理システムにおいて、
前記廃水処理システムが、原子力関連施設に設置されるとともに、前記第1曝気槽の下流に配置されて該第1曝気槽を介して浄化された処理水を濾過する膜装置を備え、前記膜装置が、前記処理水の流入口と、前記処理水を濾過した濾過水を排出する排出口と、前記濾過水を除く残余の濃縮水を前記第1曝気槽に環流させる環流口とを有し、
前記廃水処理システムでは、前記濾材が1.3〜2.0mmの平均粒径を有して前記有機物を吸着する多数の粒状活性炭から形成され、1ミリリットル当たり107〜1010個の前記微生物を含む種菌溶液と該微生物の増殖を促進させる栄養源とが前記廃水とともに前記第1曝気槽に投入され、前記微生物が時間の経過にともなって前記活性炭の表面に生物膜を形成して前記廃水に含まれる有機物を分解しつつ、前記濃縮水に含まれる有機物を前記廃水とともに前記第1曝気槽内で分解し、前記膜装置が前記廃水に含まれる放射性物質を濾過することを特徴とする前記廃水処理システム。 - 前記廃水処理システムが、前記微生物を培養して前記種菌溶液を生産する培養装置を備え、前記培養装置が、所定量の前記廃水を貯水可能な第2曝気槽と、前記第2曝気槽内の廃水に空気を供給する第2散気器とから形成され、前記培養装置では、前記微生物の種菌と該微生物の増殖を促進させる栄養源とが前記廃水とともに第2曝気槽に投入され、前記微生物が時間の経過にともなって前記第2曝気槽内の廃水1ミリリットル当たり107〜1010個に増殖する請求項1記載の廃水処理システム。
- 前記容器の容積に対する前記活性炭の充填密度が、400〜450g/リットルの範囲にある請求項1または請求項2に記載の廃水処理システム。
- 前記第1および第2散気器の空気供給量が、前記廃水1リットル当たり0.05〜0.1リットル/minの範囲にある請求項2に記載の廃水処理システム。
- 前記第1および第2曝気槽が、それら槽内の廃水を加熱するヒータを備え、それら槽内の廃水温度が、前記ヒータによって20〜37℃に保持される請求項2または請求項4に記載の廃水処理システム。
- 前記第1および第2曝気槽が、それら槽内の廃水を循環させるポンプを備え、それら槽内における廃水の流速が、1.2〜3.2cm/secの範囲にある請求項2、請求項4、請求項5いずれかに記載の廃水処理システム。
- 前記第1曝気槽に投入される前記種菌溶液の割合が、該第1曝気槽内の廃水の単位体積に対して0.05%以上である請求項1ないし請求項6いずれかに記載の廃水処理システム。
- 前記第1曝気槽の廃水貯水量が、200〜1000リットルの範囲にある請求項1ないし請求項7いずれかに記載の廃水処理システム。
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