JP4554407B2 - 気相成長装置の成長室構造 - Google Patents
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Description
この気相成長装置は、GaAs、GaN、InPなどのIII−V族化合物半導体の成長等に用いられている薄膜の形成装置である。気相成長装置の成長室101の上部フランジ110には第一ガス供給部121、第二ガス供給部122、キャリアガス供給部123、およびドーパントガス供給部124からなるガス供給部111を備えており、成長室101内に基板Sを載置する基板保持台104が回転自在に設けられている。
本発明は、気相成長装置における上記問題を解決するものであって、成長室内に滞りのない均等な流れを実現して、均一な成長膜厚分布を得ることを可能にするとともに、成長室の内面への汚れ付着を防止し、メンテナンスのための装置停止時間を大幅に短縮することのできる気相成長装置の成長室構造を提供することを目的とする。
蓋を成長室の上部フランジと側壁との間に脱着可能に設け、上部フランジと蓋との間の空間に置換ガスを導入して、蓋と原料ガス導入口との間の隙間から下方に向けて置換ガスが流出するよう構成すると、成長室の内面への汚れ付着をさらに少なくすることができる。また、上部フランジを外せば蓋と円筒管とを容易に抜き出すことができるので、汚れが付着した蓋と円筒管を取り外して交換用の蓋と円筒管を取り付ければ、すぐに気相成長装置を使用することができる。取り外した蓋と円筒管の清掃も容易である。
図1に示すように、気相成長装置の成長室1は、側壁20の上部を円筒形状、下部を円錐台形状とし、その中央部に、基板Sを載置する回転自在な基板保持台4を備えている。側壁20の上端には上部フランジ10、下端には下部フランジ30がそれぞれ取付けられている。
基板保持台4にはヒータ7が内蔵されており、基板保持台4上に載置され加熱された基板Sに上方の原料ガス導入口11から原料ガスを供給することにより、基板S上で成膜を行う。
蓋9は成長室1の上部フランジ10と側壁20との間に脱着可能に設けられており、上部フランジ10に設けられた置換ガス導入口12から、上部フランジ10と蓋9との間の空間に置換ガスCを導入して、蓋9と原料ガス導入口11との間の隙間から下方に向けて置換ガスCが流出するよう構成されている。上部フランジ10と蓋9との間の空間に置換ガスCが満たされるので、成長室1の内面、特に上部フランジ10の内側面への汚れ付着が防止できる。
また、円錐台形状部20Bの内側面よりやや小さい外径を有する円錐台状の内装壁16が円錐台形状部20Bの内側面に近接して設けられており、円錐台形状部20Bに設けられた置換ガス導入口22から、円錐台形状部20Bの内側面と内装壁16との間の空間に置換ガスDを導入して、内装壁16の上端から環状排気空間6へ置換ガスDが流出するよう構成されている。この置換ガスDの流れによって円錐台形状部20Bの内側面と内装壁16との間の空間に排気ガスが入るのを阻止して、成長室1の側壁20の内側面への汚れ付着が防止できる。
なお,上部フランジ10には冷却水入口13と冷却水出口14と冷却水通路15、側壁20には冷却水入口23と冷却水出口24と冷却水通路25、下部フランジ30には冷却水入口33と冷却水出口34と冷却水通路35がそれぞれ設けられており、各冷却水入口13、23、33から冷却水を供給することで成長室1を冷却することができる。
成長室1内では、排気ガスが内装壁16、17のガイド作用によって滞ることなくスムーズに流れるよう流路が形成されている。また、ガス流量に合わせて内筒管3の排気孔3Hの数及び孔径を変えることで環状排気空間6への放射状のガスの流れを均等化することができる。
なお、図7の成長室101と類似の構造の従来の成長室で同様の成膜を行ったときの、Si基板上へのAl2 O3 膜の膜厚分布が±5%程度であったのに対し、この成長室1の構造で成膜を行ったときは膜厚分布が±1%程度まで改善された。
2 排気口
3 内筒管
3H 通気孔
4 基板保持台
5 排気通路
6 環状排気空間
7 ヒータ
8 回転シール部
9 蓋
10 上部フランジ
11 原料ガス導入口
12 置換ガス導入口
16 内装壁
17 内装壁
20 側壁
20B 円錐台形状部
20T 円筒形状部
22 置換ガス導入口
30 下部フランジ
32 置換ガス導入口
S 基板
Claims (3)
- 成長室に、基板を載置し加熱する回転自在な基板保持台と、基板保持台上に載置された基板に上方から原料ガスを供給する原料ガス導入口とを備え、加熱された基板上で成膜を行う気相成長装置において、
成長室の側壁の上部を円筒形状、下部を円錐台形状とし、成長室内に原料ガス導入口の部分を除いて上面を覆う蓋と、側壁の円筒形状部の内側面に接する内筒管とを設けて、内筒管の内側面と基板保持台の外側面との間に排気通路、内筒管の外側面と側壁の円錐台形状部の内側面との間に環状排気空間を形成するとともに、内筒管の下部に排気通路から環状排気空間へ排気ガスを放射状に流出させる複数の排気孔を設け、環状排気空間に排気口を設けたことを特徴とする気相成長装置の成長室構造。 - 円錐台形状部の内側面よりやや小さい外径を有する円錐台状の内装壁を円錐台形状部の内側面に近接して脱着可能に設け、円錐台形状部の内側面と内装壁との間の空間に置換ガスを導入して、内装壁の上端から環状排気空間へ置換ガスが流出するよう構成したことを特徴とする請求項1記載の気相成長装置の成長室構造。
- 蓋を成長室の上部フランジと側壁との間に脱着可能に設け、上部フランジと蓋との間の空間に置換ガスを導入して、蓋と原料ガス導入口との間の隙間から下方に向けて置換ガスが流出するよう構成したことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の気相成長装置の成長室構造。
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