JP4553047B2 - ラム波型共振子及び発振器 - Google Patents
ラム波型共振子及び発振器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4553047B2 JP4553047B2 JP2008286219A JP2008286219A JP4553047B2 JP 4553047 B2 JP4553047 B2 JP 4553047B2 JP 2008286219 A JP2008286219 A JP 2008286219A JP 2008286219 A JP2008286219 A JP 2008286219A JP 4553047 B2 JP4553047 B2 JP 4553047B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lamb wave
- shows
- electrode
- displacement
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 235000019687 Lamb Nutrition 0.000 title claims description 88
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 120
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 55
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 18
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 134
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 98
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 16
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 16
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N dilithium;[oxido(oxoboranyloxy)boranyl]oxy-oxoboranyloxyborinate Chemical compound [Li+].[Li+].O=BOB([O-])OB([O-])OB=O PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 langasite Chemical compound 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- UKDIAJWKFXFVFG-UHFFFAOYSA-N potassium;oxido(dioxo)niobium Chemical compound [K+].[O-][Nb](=O)=O UKDIAJWKFXFVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005381 potential energy Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02543—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
- H03H9/02551—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of quartz substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02228—Guided bulk acoustic wave devices or Lamb wave devices having interdigital transducers situated in parallel planes on either side of a piezoelectric layer
Description
図1〜図4は実施形態1に係るラム波型共振子を示し、図5〜図71は具体的な実施例1〜実施例66、図72〜図79は温度特性、図80はアドミッタンスの円線図を示している。
なお、以下の説明で参照する図は、図示の便宜上、部材ないし部分の縦横の縮尺は実際のものとは異なる模式図である。
(実施形態1)
なお、図2におけるIDT電極20の電極指片及び反射器25,26の電極指片の数は簡略化しており、実際にはそれぞれ数十本から数百本設けられる。
なお、電極指片21aと反射器25との距離、電極指片21cと反射器26との距離は(1/2)λ以外であってもよい。
図3は、規格化基板厚さt/λと位相速度との関係を示すグラフである。横軸には規格化基板厚さt/λ、縦軸には位相速度(m/s)を示している。また、圧電基板として水晶基板10を用いたときのラム波型共振子を例示している。図3によれば、このラム波型共振子1には、複数のモードが存在していることが示され、規格化基板厚さt/λが大きくなるに従い、各モードにおける位相速度が位相速度3000(m/s)〜6000(m/s)の範囲で集約されており、特に5000(m/s)〜6000(m/s)の範囲では密集している。
図4は、図2(a)に示すラム波型共振子を上方から視認した平面図である。本実施形態にて提案する最適電極設計パラメータについて、バスバー電極21d,22cの幅をWb、電極指片21a,21b,21cとバスバー電極22cとの距離、及び電極指片22a,22bとバスバー電極21dとの距離をWg、電極指片21a,21b,21cと電極指片22a,22bとが間挿されたときに互いに交差する電極指片の交差幅をWiと表している。なお、水晶基板10のY方向(横方向)の中心位置を中心線Pで表している。IDT電極20及び反射器25,26は、この中心線P上に形成される。
まず、ラム波の横(Y)方向の変位を支配する微分方程式について述べる。この微分方程式はラム波型共振子の振動エネルギーを長さと深さ方向に積分して得られるラグランジアンL=T−U(Tは運動エネルギー、Uは位置エネルギー)から得られるもので次式となる。
続いて、具体的な実施例の計算結果について図5〜図71を参照して説明する。
(実施例1)
(実施例2)
(実施例3)
(実施例4)
(実施例5)
(実施例6)
(実施例7)
(実施例8)
(実施例9)
図13は、実施例9に係る計算結果を示し、IDT電極のパラメータをWi=30λ、Wg=1.0λ、Wb=5.0λとした場合の横方向の変位を表している。実施例9においてもIDT電極の中央で変位が最大となっている。しかし、実施例1(図5、参照)と明らかに違うことは自由表面での変位は収束しておらず、水晶基板の横方向外端における変位が大きくなっている。つまり、振動漏れが生じているためにエネルギーが閉じ込められていないことを示している。
(実施例10)
(実施例11)
(実施例12)
(実施例13)
(実施例14)
(実施例15)
(実施例16)
(実施例17)
(実施例18)
(実施例19)
(実施例20)
さらに、他の実施例について説明する。
(実施例21)
(実施例22)
(実施例23)
(実施例24)
(実施例25)
(実施例26)
(実施例27)
(実施例28)
(実施例29)
(実施例30)
(実施例31)
(実施例32)
(実施例33)
(実施例34)
(実施例35)
(実施例36)
(実施例37)
(実施例38)
(実施例39)
(実施例40)
(実施例41)
(実施例42)
(実施例43)
(実施例44)
(実施例45)
(実施例46)
(実施例47)
(実施例48)
(実施例49)
(実施例50)
(実施例51)
(実施例52)
(実施例53)
(実施例54)
(実施例55)
(実施例56)
(実施例57)
(実施例58)
(実施例59)
(実施例60)
(実施例61)
(実施例62)
(実施例63)
(実施例64)
(実施例65)
(実施例66)
図71は、実施例1〜実施例66のIDT電極の各パラメータの組み合わせにおける横方向の変位の収束の有無を表す説明図である。収束する組み合わせの実施例を○印、収束しない組み合わせの実施例を×印で表し、実施例1,2・・・をJ1、J2・・・と符号化して表している。
なお、図71において、図示した組み合わせA〜Gは、個別の実施例に係る図示は省略するが横方向の変位が収束している。従って、これら組み合わせA〜Gが収束する領域と収束しない領域の境界といえる。
なお、本実施形態では、水晶基板10のカット角を、φ=0度、ψ=±5度としている。
図74は、オイラー角(0、θ、0)における角度θと位相速度との関係を示すグラフである。ここで、規格化基板厚みt/λを0.2〜2.0まで6段階に設定し、それぞれのt/λにおける位相速度を示す。
図76は、オイラー角(0、θ、0)における角度θと位相速度と周波数温度変動量との関係を示すグラフである。なお、規格化基板厚みt/λを1.7としている。
(発振器)
発振器は、前述したラム波型共振子と、このラム波型共振子を励振するための発振回路(図示せず)を含んで構成される。ラム波型共振子としては、図71に示した最適電極設計条件の範囲のものが使用される。ここで、最適電極設計条件の範囲である各実施例において、互いに交差する電極指片の交差幅Wiは、20λ〜50λである。このような最適電極設計条件にした場合のラム波型共振子は高いQ値、低いCI値を実現できる。しかしながら、発振器に用いる場合、発振回路と組み合わせたときの発振条件を満たさなければ発振器に適用できない。
Claims (4)
- 水晶基板の一方の主面に設けられる複数の電極指片を間挿してなるアルミニウムを用いて形成されたIDT電極と、前記IDT電極のラム波の伝搬方向両側に配設される一対の反射器と、が備えられるラム波型共振子であって、
前記水晶基板の厚さtが、励振させるラム波の波長をλとすると0<t/λ≦3で表される範囲にあり、
前記水晶基板の前記電極指片の伸長方向の中心線から、前記水晶基板の前記伸長方向の端部までの距離は、50λ以上70λ以下であり、
複数の前記電極指片それぞれを接続するバスバー電極の幅をWb、前記電極指片と前記バスバー電極との間の距離をWgと表したとき、
距離Wgをx軸、幅Wbをy軸とする直交座標において、
距離Wgと幅Wbとが共に、円の方程式(Wg−10)2+(Wb+12.7)2=192で表される円弧と、Wg≧1λ、Wb≧1λで囲まれる範囲と、
座標(Wg,Wb)で表した場合に、(1.0、7.0)、(1.0、20.0)、(2.0、21.0)、(4.5、22.5)、(7.5、25.0)、(12.0、23.0)、(15.5、20.8)、(18.0、14.0)、(20.0、7.0)、(16.0、10.0)、(15.0、9.0)、(12.5、8.0)、(10.0、8.0)、(8.0、9.0)、(7.0、8.0)、(5.0、8.0)、(3.5、10.0)、(2.0、10.0)、(1.0、7.0)で表される各座標を記載順序に直線で結び、前記直線で囲まれる範囲と、
のいずれかにあることを特徴とするラム波型共振子。 - 請求項1に記載のラム波型共振子において、
複数の前記電極指片が間挿されたときに、互いに交差する前記電極指片の交差幅が20λ以上であることを特徴とするラム波型共振子。 - 請求項1または請求項2に記載のラム波型共振子において、
前記圧電基板が、オイラー角(φ、θ、ψ)が、φ=0度、35度≦θ≦47.2度、−5度<ψ<+5度で表され、且つ厚さtとラム波の波長λとの関係が、0.176≦t/λ≦1.925を満たす水晶基板であることを特徴とするラム波型共振子。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載のラム波型共振子と、
前記ラム波型共振子を励振するための発振回路と、
が備えられていることを特徴とする発振器。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008286219A JP4553047B2 (ja) | 2008-03-12 | 2008-11-07 | ラム波型共振子及び発振器 |
CN2009100075401A CN101534105B (zh) | 2008-03-12 | 2009-02-17 | 兰姆波型谐振子以及振荡器 |
US12/396,013 US8035463B2 (en) | 2008-03-12 | 2009-03-02 | Lamb-wave resonator and oscillator |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008062234 | 2008-03-12 | ||
JP2008286219A JP4553047B2 (ja) | 2008-03-12 | 2008-11-07 | ラム波型共振子及び発振器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009246943A JP2009246943A (ja) | 2009-10-22 |
JP4553047B2 true JP4553047B2 (ja) | 2010-09-29 |
Family
ID=41062389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008286219A Expired - Fee Related JP4553047B2 (ja) | 2008-03-12 | 2008-11-07 | ラム波型共振子及び発振器 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8035463B2 (ja) |
JP (1) | JP4553047B2 (ja) |
CN (1) | CN101534105B (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5433367B2 (ja) * | 2008-11-19 | 2014-03-05 | 日本碍子株式会社 | ラム波装置 |
JP5629481B2 (ja) * | 2010-03-16 | 2014-11-19 | 富士重工業株式会社 | 損傷診断システム |
JP5563378B2 (ja) * | 2010-06-11 | 2014-07-30 | リバーエレテック株式会社 | 弾性波素子 |
JP2012060421A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Seiko Epson Corp | 弾性表面波デバイス、電子機器及びセンサー装置 |
WO2012086441A1 (ja) | 2010-12-24 | 2012-06-28 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びその製造方法 |
WO2013172287A1 (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-21 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
JP6504551B2 (ja) * | 2013-06-10 | 2019-04-24 | 太陽誘電株式会社 | 共振器、フィルタおよび分波器 |
TWI630737B (zh) * | 2015-10-08 | 2018-07-21 | 村田製作所股份有限公司 | Crystal vibrating element and crystal vibrator having the crystal vibrating element |
WO2020130128A1 (ja) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | 京セラ株式会社 | 弾性波装置、分波器および通信装置 |
CN110333285B (zh) * | 2019-07-04 | 2021-07-27 | 大连海洋大学 | 基于变分模态分解的超声兰姆波缺陷信号识别方法 |
WO2021221162A1 (ja) * | 2020-04-30 | 2021-11-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
GB2598165B (en) * | 2020-08-18 | 2022-08-24 | River Eletec Corp | Acoustic wave device |
CN113676152A (zh) * | 2021-08-26 | 2021-11-19 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种弹性波谐振器及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003188676A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-04 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置 |
JP2008054163A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Seiko Epson Corp | ラム波型高周波共振子 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06232682A (ja) * | 1993-02-08 | 1994-08-19 | Hitachi Ltd | 弾性表面波共振子及び弾性表面波フィルタ |
JPH09275326A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Seiko Epson Corp | 弾性表面波装置 |
JP2982864B2 (ja) * | 1996-10-14 | 1999-11-29 | 日本電気株式会社 | 弾性表面波装置 |
JP2003258596A (ja) | 2002-03-01 | 2003-09-12 | Yasuhiko Nakagawa | ラム波型高周波共振器、これを用いた発振装置、及びラム波を用いた高周波信号生成方法 |
JP4306668B2 (ja) * | 2005-01-07 | 2009-08-05 | セイコーエプソン株式会社 | ラム波型高周波共振子 |
JP2007202087A (ja) * | 2005-05-11 | 2007-08-09 | Seiko Epson Corp | ラム波型高周波デバイス |
JP4315174B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2009-08-19 | セイコーエプソン株式会社 | ラム波型高周波デバイスの製造方法 |
-
2008
- 2008-11-07 JP JP2008286219A patent/JP4553047B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-02-17 CN CN2009100075401A patent/CN101534105B/zh active Active
- 2009-03-02 US US12/396,013 patent/US8035463B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003188676A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-04 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置 |
JP2008054163A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Seiko Epson Corp | ラム波型高周波共振子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8035463B2 (en) | 2011-10-11 |
JP2009246943A (ja) | 2009-10-22 |
CN101534105B (zh) | 2011-12-21 |
US20090231061A1 (en) | 2009-09-17 |
CN101534105A (zh) | 2009-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4553047B2 (ja) | ラム波型共振子及び発振器 | |
JP2010220163A (ja) | ラム波型共振子及び発振器 | |
JP4306668B2 (ja) | ラム波型高周波共振子 | |
US8502625B2 (en) | Surface acoustic wave resonator and surface acoustic wave oscillator | |
JP5488825B2 (ja) | 弾性表面波共振子、および弾性表面波発振器 | |
JP5934464B2 (ja) | 弾性表面波共振子、および弾性表面波発振器、ならびに電子機器 | |
JP2010220164A (ja) | ラム波型共振子及び発振器 | |
JPWO2005086345A1 (ja) | 弾性境界波装置 | |
JPWO2007138840A1 (ja) | 弾性境界波装置 | |
JP4645957B2 (ja) | 弾性表面波素子片および弾性表面波装置 | |
JP2019140456A (ja) | 弾性波装置、高周波フロントエンド回路及び通信装置 | |
JPH0134411B2 (ja) | ||
JP2008054163A (ja) | ラム波型高周波共振子 | |
JP2013168864A (ja) | 弾性表面波素子及び電子部品 | |
JP7080671B2 (ja) | 弾性表面波デバイス | |
JP2011041127A (ja) | 弾性波装置 | |
WO2021090861A1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP4582150B2 (ja) | 弾性表面波デバイスとこれを用いたモジュール装置又は発振回路 | |
JP2011171888A (ja) | ラム波型共振子および発振器 | |
JP2011171887A (ja) | ラム波型共振子および発振器 | |
JP5737491B2 (ja) | 弾性表面波フィルタ、電子機器 | |
WO2021210551A1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP2015073305A (ja) | 弾性表面波フィルタ、電子機器 | |
JP2020141382A (ja) | 弾性表面波共振子 | |
JP2011171886A (ja) | ラム波型共振子および発振器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100330 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100528 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100622 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100705 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4553047 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |