JP4551994B2

JP4551994B2 - 印刷回路板から錫、錫合金または鉛合金の回収方法

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Publication number: JP4551994B2
Application number: JP2000594977A
Authority: JP
Inventors: ウイリアムギブソンロバート; デビッドグッドマンポール; マックラデイダリイムプルアイアン; ホルトライン; ジヨンフレイデリック
Original assignee: アルフアフライリミテッド; イーエイテクノロヂリミテッド; ケンブリッジユニバーステイテクニカルサービイセスリミテツド
Priority date: 1999-01-25
Filing date: 2000-01-18
Publication date: 2010-09-29
Anticipated expiration: 2020-01-18
Also published as: US6641712B1; DE60002838D1; ATE241024T1; WO2000043574A1; DE60002838T2; AU3062100A; GB9901586D0; EP1159467B1; EP1159467A1; JP2003508624A

Description

【０００１】
本発明は印刷回路板（pcbs）から錫、錫合金または鉛合金（例えばハンダ）の回収方法に関する。
【０００２】
電子ハードウエアのますますの出現につれて、スクラップの印刷回路板を含めて電子スクラップがいよいよ生成されつつある。スクラップの印刷回路板を再循環する方法であって環境により優しい方法の必要性が増大しつつある。現在の多数の工業的方法はpcbsの構成部品の若干を回収することにのみ向けられている。例えば、pcbsを炉で加熱して有機化合物を熱分解させしかも金属類を溶融する。プラスチックおよび電子部品を破壊すると潜在的に有害な発煙を生じ、残留する金属類の複雑な混合物は次いで分離させる必要がある。別法としては、金端コネクターおよびマイクロプロセッサーの如きより高価値の部品を選択的に取出し、pcbsの残部を例えば埋立地に廃棄することからなる。
【０００３】
画策したEC立法では電子装置の生産者に、再循環のためその有用な有効期限の終了時に該装置を取り戻すことを要求するらしい。それ故望ましくない廃棄物を生成することなくスクラップpcbsの構成部品の大部分を回収し得る印刷回路板処理方法に対して必要性がある。
【０００４】
印刷回路板の製造中に、波動ハンダ付け（wave soldering）技術を用いてまたはハンダペーストを用いて金属の暴露表面に部品を結合する目的のため種々の段階でハンダを施用する。更には、印刷回路板上のラインおよびパッドの形成中に、電着、浸漬メッキまたは別の方法により錫の１層または錫−鉛合金（ハンダ）の１層を回路板の銅表面の選定領域上に沈着させて、ホール等を介して導電性トラック、パッドの輪郭を定め且つ銅表面の次後のエッチング整列中に耐蝕膜として作用することができる。
【０００５】
即ち、スクラップの印刷回路板を再循環させる過程では、銅を溶解することなく銅基板表面からpcbsの製造に用いた錫または錫−鉛合金を選択的に溶解することが重要な第１工程である。新たな選択的な溶解過程法が今や開発されており、該方法では電子部品に組合せたプラスチックを攻撃せず、電子部品は該方法で用いた酸化剤溶液によって影響を受けずしかも電子部品上でコードする識別点も影響を受けない。即ち、部品を使用のため回収できる。更には、錫または錫−鉛合金を溶解するのに用いた酸化剤溶液も再生されしかも該方法に再循環され、かくして望ましくない廃棄物の生成を回避するものである。
【０００６】
EP-A-0508960号は、鉛含有材料に含有される鉛を溶解し、溶解した鉛を陰極沈着する電解工程により、該材料から金属の鉛を製造する方法を開示している。溶解工程はレドックスカップルの存在下に酸電解液を用いて行なう。該方法は特に廃蓄電池の活性材料から鉛の製造に用いる。この方法は鉛の溶解を開示しているけれども、錫または錫−鉛合金の選択的な溶解方法が尚望ましい。
【０００７】
従って１つの要旨によると、本発明は銅または貴金属を実質的に溶解することなく、また電子部品を取付けたプラスチックを攻撃することなく、印刷回路板からの錫および／または鉛−または錫−含有合金の選択的溶解方法において、次の工程：
(i) Ti(III)、Ti(IV)、Sn(II)およびPb(III)の安定で可溶性の塩を形成するTi(IV)と酸とを含有する溶液を生成し；
(ii) Sn(II)および／またはPb(II)として、印刷回路板からSnおよび／またはPb-またはSn-含有合金の実質的に全ての溶解を行なうに十分な時間嫌気性条件下に前記溶液に対して印刷回路板を接触させ；
(iii) 工程(ii)からの溶液を電解還元して、該溶液中に含有されるSn(II)および／またはPb(II)種の実質的に全てをSnおよび／またはPbとして回収し；および
(iv) 工程(iii)からの溶液を酸化して酸化体の金属種を再生し、再生した溶液を本法の工程(i)に再循環することからなる、印刷回路板からの錫、錫合金または鉛合金の選択的溶解方法。
【０００８】
本明細書で用いた如き用語「可溶性塩」とは、処理を行なう温度で塩が溶液中で１ｌ当り少なくとも１ｇの溶解度を有することを意味する。
【０００９】
本発明の工程（ii）で用いるには、酸化性の溶液は錫および鉛の金属を好ましくは酸化するが、銅を溶解しないものである。これを達成するには、標準の電極電位から見て、即ち銅と錫／鉛とのアノード溶解の間の間隔により、溶液のレドックス電位は+0.342ボルト〜−0.126ボルト（標準水素電極）の範囲にあるべきである。
【００１０】
本法の工程（ii)で用いるに好ましい溶液は、フルオロホウ酸、フルオロケイ酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸およびアルキルスルホン酸から選択した酸を含有する。Ti(IV)とフルオロホウ酸とを含有する溶液が特に好ましい。この溶液は酸素ガスまたは空気を散布しながらフルオロホウ酸中にTi金属を溶解することにより調製し得る。この溶液は、他の金属特に銅以上にSnおよびPbの溶解に予期せぬ選択性を有する。
【００１１】
工程（i）で定義した如き別の酸化体種／酸も用い得るが、但し使用に当って溶液中の酸化体（oxidant）イオンは、pcbの表面から錫または錫−鉛合金を選択的に溶解し得るが銅金属を酸化しない酸化電位を有するものとする。本法の工程（ii）は嫌気性下に行われ、例えば浸出工程中に浸出溶液に窒素の如き不活性ガスを散布することにより行なう。
【００１２】
本法の工程(ii）で用いた溶液は、一般に0.01〜1.0M金属イオンの範囲の濃度で、好ましくは0.5〜0.9M金属イオンの範囲の濃度での酸化体金属種と、10〜100重量％の酸の範囲の濃度での酸とを好ましくは含有する。
【００１３】
工程（ii）で用いた溶液を基板表面と接触させる温度は一般に0〜60℃であり、好ましくは20〜30℃である。
【００１４】
本発明の方法は印刷回路板から錫または錫−鉛合金を溶解するのに用い得る。溶解し得る合金は一般に5〜99.5重量％のSnと、95重量％以下のPbと、場合によっては５重量％以下のAg、Bi、In、Zn、CuまたはSbの１種またはそれ以上とを含有する。pcb製造に普通用いるハンダは、重量で63％Sn 37％Pbよりなるかまたは重量で62％Sn 36％Pb ２％Agよりなる。
【００１５】
印刷回路板に存在するアルミニウムおよび何れかの鉄は酸浸出で溶解するものであり、Ti(IV)酸化体をTi(III)に還元するものであり、かくしてハンダと反応するのに利用し得るTi(iv)を余り残留させない。従って、浸出溶液での処理前にスクラップのpcbからこれらの金属を除去するのが有利である。例えば物理的な分離方法を用いることができ、例えば鉄については磁気手段によりしかもアルミニウムについては渦電流分離器により行い得る。
【００１６】
本発明の工程（iii）においては、溶解した金属種を含有する溶液の電解還元は、黒鉛アノードと不銹鋼カソードの如き不活性電極と、微孔質膜の如き膜またはイオン交換材料によって分離した陽極液区室および陰極液区室とを有する分割した電解槽（セル）で行なうのが好ましい。溶解した金属種を含有する溶液は陰極液を含有してなり、陰極での反応はSn(II)をSnに還元することでありまたSn(II)およびPb(II)をSnおよびPbに還元することであり、これらは陰極上に沈着される。例えばハンダ合金としてPbおよびSnが互いに存在する時は、これらは次いで合金として互いに沈着され、これを再使用できる。陽極液は同じ溶液を含有し得るかまたは選択した何れか別の電解液を含有し得る。
【００１７】
陰極液の溶液は空気から隔離するのが一般に好ましい。何故ならば、存在する何れかの酸素は溶液中のTi(III)をTi(IV)に酸化するからであり、これは次いで陰極でTi(III)に還元される。更には、Sn(II)はSn(IV)に酸化されるものであり、これから錫を電解採取するのは困難である。Ti(IV)をTi(III)に還元することは金属メッキ反応を犠牲にして生起し、低い金属収率と電流効率とを生ずる。
【００１８】
本法の工程(iii)での電解還元は一般に50〜500A/m²の範囲の電流密度で行なう。工程(iii)における錫および／または鉛の電解採取は該金属の実質的に全てが電解採取されるまで行なう。この理由は本法の工程（iv)中に溶液に存在する何らかのSn(II)はSn(IV)に酸化されるものであることである。この形では、通常は好ましい陰極反応が水素の発生を伴なうのでこの金属を電解採取するのはきわめて困難である。
【００１９】
本発明の方法の工程（iv)における酸化は、工程(iii)からの溶液の電解酸化によって行ない得る。Ti(III)をTi(IV)に酸化することは、不活性電極と、カチオン交換膜例えばナフィオンの如き膜分離体によって分割された陽極液区室と陰極液区室とを有する分割した電解槽で行なうのが好ましい。Ti(III)をTi(IV)に酸化することは、陽極液を形成する工程(iii)からの溶液を用いて陽極で行なう。陰極液は同じ溶液を含有し得るかまたは選択した何れか別の電解液を含有し得る。かくして工程(iv)により処理した溶液は再生されしかも次いで本法の工程(i)に再循環される。両工程は同じ電解槽で有利には実施し得る。SnおよびPbを装填した浸出溶液は先ず陰極液として電解され、そこでSnPbは陰極上にメッキされる。出来るだけ多くの錫が陰極でハンダとして電解採取されてしまった後に、金属の枯渇した溶液は次いで陽極液となることができ、そこではTi(III)は陽極でTi(IV)に酸化される。これは次の理由からである。溶液を空気／酸素であるいは電気化学的に酸化する時に何らかの錫が未だ存在するならば、その時はSn(II)種はSn(IV)イオンに転化されるからである。Sn(IV)形では前述した理由のため金属に転化するのが困難である。然しながら、別法として２個の分割した電解槽を用い得る。
【００２０】
別の実施形式では、酸化は溶液を空気または酸素ガスと接触することにより、例えば高い散布率で溶液に酸素をまたは好ましくは空気を散布することにより実施できる。別法として酸素ガスは、Sn/Pbをメッキするのに用いた分割電解槽の陽極で都合良くは電解的に生成できる。これは余分なエネルギーを必要とせずしかもそれ故ビン入りの酸素ガスを用いるよりも安価である。
【００２１】
前述した如く、本発明の方法は、印刷回路板から錫、あるいは鉛および／または錫を含有する合金の取出した特に応用でき、しかも本発明の方法による処理後に印刷回路板からトランジスター、コンデンサーおよび抵抗体の如き電子部品の次後の取出しおよび回収に特に応用できる。これは本発明の重要な利点である。何故ならば部品は機能状態で回収されるからである。
【００２２】
本発明の方法は、印刷回路板からCuの実質的に全てを溶解するに十分な時間Cuを溶解するのに適当な銅浸出溶液に対して脱ハンダしたしかも場合によっては部品脱離した印刷回路板を接触させる工程を追加的に包含し得る。銅浸出溶液は例えば塩化銅(II)、塩化ナトリウムおよび塩酸またはアンモニウム塩、アンモニアおよび場合によってはCu(II)イオンを例えば硫酸アンモニウム／アンモニアと共に含有でき、これは最も好ましい。銅浸出工程は一般に30〜60℃の範囲の温度で好ましくは45〜55℃の温度で行うものである。塩化銅(II)浸出の場合には、溶解工程の終了時に得られる浸出溶液に存在する場合によってはCu(II)種は電解的に還元して銅にすることができる。また、Cu(I)の若干は、分割した電解槽でのあるいは過酸化水素を用いての何れかで更なる浸出のために、陽極酸化してCu(II)に戻すことができる。更には、銅の浸出工程前に印刷回路板に１回またはそれ以上の機械的な加工工程により粉砕することができる。これは、プラスチック積層体の複数層の間に挟んだ銅の薄層を収容する多層印刷回路板には重要である。銅の浸出溶液がこの金属を入手するには、印刷回路板を或る仕方で細断または破砕して小片を形成でき、該小片では外端までの何れかの銅金属の最大間隔は10mm以下であり、好ましくは5mm以下である。スクラップのpcbsから有価部品を更に回収するのに追加の処理工程を包含できる。部品は、部品の価値、含有される成分の価値または含有される成分の毒性に応じて順次分類でき、しかも難燃性添加剤から存在し得る臭素を回収するのに、脱銅したプラスチック積層体を更に処理し得る。
【００２３】
銅の浸出工程後には、残渣は貴金属の全て（最初から存在するならば）を尚含有するものである。これらの貴金属は技術的に公知の方法によって回収でき、例えば金を回収するにはシアン化物での浸出あるいは塩素での浸出例えば電気化学的に生成した塩素での浸出により回収できる。かくして貴金属の全ては残留プラスチックおよびセラミック材料から分離できる。
【００２４】
本発明は次の実施例を参照して更に記載するものである。
【００２５】
実施例１
１．ハンダ浸出
フルオロホウ酸に溶かしたTi(IV)の溶液は、窒素ガスを散布しながら20時間の期間に亘って42％フルオロホウ酸（1.6リットル）中にチタン金属スポンジ（22.84ｇ）を溶解することにより調製した。こうして形成した溶液はTi(IV)として0.3Mチタンを含有した。63％Sn37％Pbハンダと銅との溶解速度は次の手法により比較した。
【００２６】
円筒（直径25mm）の形の金属はエポキシ樹脂によって包封して１方の平坦な端部のみが暴露されるように残す。暴露した端部を浸出溶液中で回転して拡散作用を解消し且つ酸素を散布しながら還元したチタン種を再酸化してTi(IV)に戻す。60℃に維持した新たな浸出溶液中のハンダ（63%Sn37％Pb）の溶解速度および銅の溶解速度は６時間に亘って該溶液の金属含量の分析によって比較した。結果を表１に示す。
【００２７】
表１

実施例２
１．ハンダ浸出
浸出溶液は1.5lの濃厚なフルオロホウ酸(42％)に溶解した7.2gのチタン金属を用いて調製した。次いでこれに空気散布してTiイオンをTi(IV)に酸化した。全体のおよび分節片の印刷回路板をこの溶液中に配置し、これに4l／分で窒素を散布した。ハンダの全てが印刷回路板から溶解した時、印刷回路板を取出し、新しいものと取替えた。以下の表２は溶液中の錫および鉛の蓄積並びに鉄および銅不純物の濃度を示す。
【００２８】
表２

２．ハンダの電解採取および浸出溶液の再生
フルオロボレート溶液から錫および鉛を電解採取することにより錫および鉛を回収した。
【００２９】
前記の工程（i)からのTi(III)含有溶液を電解により再生した。陽極処理はTi(III)をTi(IV)に酸化することであり更なる浸出操作のため活性は浸出液を再生した。
【００３０】
電解槽はPVCから構成され、膜分離体(カチオン選択性のイオン交換膜)によって分割された別個の陽極液室と陰極液室とよりなる。黒鉛陽極(アノード)を陽極液室に配置し、316不銹鋼陰極(カソード)を陰極液室に配置した。各々の電極の寸法は90mm×100mmであった。電解は別個の陽極液溶液および陰極液溶液(各々1.0l)を用いて行ないこれらはそれぞれ60l/時および10l/時の流量で外部のタンクから連続的に再循環させた。陰極液の低流量を選択して空気との接触を最低とさせた。
【００３１】
陰極液溶液は0.1Mのチタンイオンを含有する40w/w%のフルオロホウ酸の75v/v%よりなる。Snの最初の濃度は38g/lであり、Pbの最初の濃度は32g/lであった。電解槽は全体で11時間1.8A(200A/m²)の電流で操作した。この期間の終了時に、金属イオンの濃度は26g/l Snおよび35ppm Pbに減少した。回収した金属の全重量は28gであった。該溶液のレドックス電位は−200mVから−220mVに変化した。SnおよびPbの沈着に対する全電流効率は83％であった。
【００３２】
電解中に陽極液のレドックス値は−190mVから+445mVに変化し、これはTiイオン含分がより高次の(IV)酸化状態に転化しながら浸出液の再生に相当するものである。この例の再生した浸出液中のSnおよびPbの濃度はそれぞれ2.6g/lおよび3.0g/lであった。
【００３３】
次いで再生した浸出液を用いて別量のハンダを溶解した。この溶液を370mlの2個の等量分に分割した。１回分に、電気部品が取付けられたスクラップの印刷回路板の１片（50mm×90mmの面積)を浸漬し、〜250rpmで回転させた。室温で８時間後には1.3gのハンダが印刷回路板から浸出され、部品は落下したかあるいは軽くブラシがけすることにより容易に取出すことができた。該溶液のレドックス電位は−188mVに降下した。別の試料を用いてハンダのワイヤを浸出した。18時間後には、錫および鉛の濃度は−214mVのレドックス値でそれぞれ1.54gおよび9.6gに増大した。浸出を更に４時間続行した時には錫濃度のみがわずかに16.1gに増大し、Pb濃度の更なる増大は見られなかった。最終的なレドックス電位は-246mVであった。
【００３４】
３．部品の回収
IBMのパソコンを含めて種々の電子装置片から印刷回路板を取出し、前記の如くハンダ浸出溶液で処理した。部品の大部分は表面配設型の部品であり、落下するかまたは表面のブラシ掛けにより取出された。下面に装着した若干の部品（チップコンデンサーおよび抵抗体）は接着剤で取付けてあり更にハンダ付けされている。浸出後には、これらの部品は最低限の力で取出し得た。
【００３５】
取出した部品の機能性は80486DX集積回路で証明した。20℃で３時間前記の散布した浸出溶液に浸出した後に、機能性はインテックスコンピューター社（Intex Computers Ltd）により試験し、何ら影響を受けていないことが見出された。
【００３６】
４．銅の浸出
Ａ．銅の浸出溶液は0.3Mの塩化銅(II)と4Mの塩化ナトリウムと0.4Mの塩酸とから調製した。60℃で500cm³の浸出溶液を用いて、前記の如く部品が取外された100.25gの脱ハンダpcbを浸出した。印刷回路板の小片の80％が6mm以下であり75％が2mm以上であるように印刷回路板を細断した。印刷回路板を４時間攪拌溶液中に浸出した。該溶液中の銅濃度は19g Cu/lから52.5g Cu/lに増大し、これは電解採取に適当である。溶解した銅は、利用し得る銅の理論量の90％以上を占めており、浸出工程後には積層体に結合したごく少量の金属は殆んど見られなかった。
【００３７】
Ｂ . 浸出溶液は1.5Mの硫酸アンモニウムと2Mのアンモニアと1gの銅/lとを含有するように調製した。500cm³のこの溶液を50℃に加熱し、これを、前記の如く前もって脱ハンダし、部品減少し(depopulated)且つ細断したPCB 100gと共に攪拌した。該混合物に酸素ガス(0.5l/分以下)を散布した。180分後には、残留プラスチック積層体には銅金属は殆んど見られず、該溶液は25gのCu/lを含有した。少量の金が存在したが、溶解しなかった。
【００３８】
実施例３
印刷回路板を細断して全て12mm以下の粒子の生成物とした。磁性材料およびアルミニウムは渦電流分離器を用いてエリエツマグネチックス社(Eriez Magnetics Ltd)（サウスウェールス州）により取出した。これによって鉄およびアルミニウム含量が低下した生成物を与える。
【００３９】

ハンダの浸出溶液（500cc）は30％フルオロホウ酸の500cc中に18gにチタンスポンジを溶解することにより調製した。この溶液が冷却した時、色が緑色から褐色を介して無色に変化するまで酸素をこれに散布した。260gの渦電流処理したpcbスクラップを500ccの浸出溶液に添加し、窒素ガスをこれに散布して該混合物を攪拌し且つ溶液中の何れかのTi(III)またはSn(II)の空気による酸化を防止した。試料を定期的に取出して反応の進行を監視した。反応は４時間後に完了した。錫および鉛の濃度を反応中測定した。
【００４０】

４時間後にはハンダの大部分が溶解し、Ti(IV)酸化体の大部分がTi(III)に還元された。
【００４１】
PCBスクラップの嫌気性浸出により得られた典型的な溶液を、ハンダ金属の電解採取に用いた。これは６時間200Am⁻ ³の陰極電流密度でガラスで仕切った電解槽で行なう。陰極液にアルゴンを散布してSn(IV)の形成を防止し且つ該溶液を攪拌した。錫濃度は６時間後に16g/lから0.16g/lに降下し、鉛濃度は６時間後に12g/lから0.064g/lに降下した。ハンダの電解採取に対する全電流効率は100％であった。残留している陰極液に酸素を散布して再使用のためTi(IV)を再生した。
【００４２】
この過程を行なった後に、前記の実施例２、過程Ｂに記載した如き方法により、脱ハンダしたpcbを浸出して銅を溶解することができる。

Claims

銅または貴金属を実質的に溶解することなく、また電子部品を取付けたプラスチックを攻撃することなく、印刷回路板からの錫および／または鉛−または錫−含有合金の選択的溶解方法において、次の工程：
(i) Ti(III)、Ti(IV)、Sn(II)およびPb(II)の安定で可溶性の塩を形成する、Ti(IV)と酸とを含有する溶液を生成し；
(ii) Sn(II)および／またはPb(II)として、印刷回路板からSnおよび／またはPb-またはSn-含有合金の実質的に全ての溶解を行なうに十分な時間嫌気性条件下に前記溶液に対して印刷回路板を接触させ；
(iii) 工程(ii)からの溶液を電解還元して、該溶液中に含有されるSn(II)および／またはPb(II)種の実質的に全てをSnおよび／またはPbとして回収し；および
(iv) 工程(iii)からの溶液を酸化して酸化体の金属種、Ti(IV)を再生し、再生した溶液を本法の工程(i)に再循環することからなる、印刷回路板からの錫、錫合金または鉛合金の選択的溶解方法。
工程(i)で生成される溶液は、フルオロホウ酸、フルオロケイ酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸およびアルキルスルホン酸から選んだ酸を含有する請求項１記載の方法。
工程(i)の溶液のpHはpH1.0以下である請求項１または２記載の方法。
工程(i)で生成される溶液は酸素ガスまたは空気を散布しながらTi金属をフルオロホウ酸に溶解することにより調製される請求項２記載の方法。
工程(i)で生成される溶液は0.01〜1.0Mの範囲での前記酸化体金属種、Ti(IV)と10〜100重量％の範囲での酸とを含有する請求項１〜３記載の何れか１項に記載の方法。
工程(ii)は20〜60℃の範囲の温度で行なう請求項１〜５の何れか１項に記載の方法。
印刷回路板から溶解し得る合金は5〜99.5重量％の量でのSnと、95重量％までの量のPbと、場合によっては5重量％までのAg、Bi、In、Zn、CuまたはSbの１種またはそれ以上とを含有する請求項１〜６の何れか１項に記載の方法。
工程(iii)における電解還元は、不活性電極とカチオン交換膜とを含有してなる分割した電解槽で行なう請求項１〜７の何れか１項に記載の方法。
陰極液を空気から隔離する請求項８記載の方法。
電解還元は50〜500A/m²の範囲の電流密度で行なう請求項７または８記載の方法。
工程(iv)における酸化は、電解酸化であり、不活性電極と適当な電解槽分離板とを含有する分割した電解槽で行なう請求項１〜１０の何れか１項に記載の方法。
請求項１の工程(ii)後に印刷回路板からトランジスタ、コンデンサーおよび抵抗体から選んだ電子部品を回収する工程を更に包含する請求項１〜１１の何れか１項に記載の方法。
脱ハンダ付けしたしかも場合によっては部品脱離した印刷回路板を、該回路板からCuの実質的に全てを溶解させるに十分な時間Cuを溶解するのに適当な銅浸出溶液と接触させる工程を追加的に含有する請求項１２記載の方法。
Cuを溶解するのに適当な銅浸出溶液は塩化銅(II)、塩化ナトリウムおよび塩酸またはアンモニウム塩、Cu(II)イオンおよびアンモニアを含有する請求項１３記載の方法。
追加の工程は20〜60℃の温度で行なう請求項１３または１４記載の方法。
Cuを生成するのに、得られる浸出溶液に存在するCu(II)種の電解還元の工程を更に包含する請求項１３〜１５の何れか１項に記載の方法。
工程(ii)の前に印刷回路板に１回またはそれ以上の機械的処理工程を設けて、回路板の嵩高を減少させるかおよび／または浸出溶液への銅の易入手性を増大させる請求項１３〜１６の何れか１項に記載の方法。
電子部品を機能状態で回収する請求項１２〜１７の何れか１項に記載の方法。
電子部品は該部品の価値、そこに含有される成分の価値またはそこに含有される成分の毒性に応じて順次分類される請求項１２〜１８の何れか１項に記載の方法。
銅浸出工程を受けた印刷回路板は、プラスチック積層板を含有してなり、次いでこれを処理して、プラスチック材料の製造に用いた難燃剤添加剤に存在し得る臭素を回収する請求項１３〜１７の何れか１項に記載の方法。