JP4550562B2 - 光導波路基板用キャリア - Google Patents

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Description

本発明は濃度測定装置に関し、さらに詳しくは、被測定液体試料中の特定成分の濃度を光を用いて測定する濃度測定装置に用いられる光導波路基板用キャリアに関する。
従来、インスリンなどの各種のホルモン、タンパク質、血糖などの有機物質の濃度測定方法としては、電極反応で発生する電圧を測定する方法や、物質と反応して吸着される色素を用いて色変化をレーザ光などの光量の変化で測定する光学式濃度測定方法(例えば、特許文献1参照。)などがある。この光学式濃度測定方法は、測定の分解能が高いという利点がある。
以下、この光学式濃度測定方法を簡単に説明する。先ず、ガラスチップの上に液体状の被測定物を配置し、被測定物に例えば色素を反応させて被測定物の濃度に応じて入射光が吸収されるようにする。そして、このガラスチップを濃度測定装置上に位置決め状態を確認しながら載置し、工具を用いてガラスチップをネジ止めする。その後、ガラスチップ内にレーザ光を導き、被測定物が配置された領域を通過したレーザ光をガラスチップの外側に取り出して光量検出を行う。この光量の検出値から被測定物の濃度を算出している。
このような光学式濃度測定方法では、ガラスチップに対して光源および検出器を所定位置に配置し、光源から出射された光が被測定物を配置した領域へ最適な状態で入射されるように、ガラスチップと、光源と、検出器とを精度よく配置させる必要があった。
特開2004−184381号(第1頁、図1)
しかし、上述の濃度測定装置では、ガラスチップの位置決めとネジ固定とを手作業で行うため、作業者により位置決め状態が異なり、測定に支障を及ぼすと共に、ネジを使用することでガラスチップの位置決めに時間がかかるという問題があった。また、この種の測定では、同時にリファレンスを測定するため、同時に複数のガラスチップをセットする必要があった。
そこで、本発明の目的は、濃度測定精度が高く、作業時間を短縮できる光導波路基板用キャリアを提供することにある。
本発明の特徴は、基板載置面に突設された基板載置用突起と、基板載置用突起に載置された光導波路基板中を通る光を照射する光源モジュールと、光導波路基板からの戻り光を受光する検出器とを有する濃度測定装置に、複数の光導波路基板を収容した状態で搬送されて載置される光導波路基板用キャリアであって、複数の光導波路基板が特定方向に沿って並行に配置されるフレームに、濃度測定装置に載置されたときに基板載置用突起が光導波路基板の下面に当接するように挿入される開口部が形成されると共に、フレームに、光導波路基板の端面に当接する部位によって、光導波路基板を保持する位置決め載置部が形成されていることを要旨とする。
本発明によれば、位置決め精度を向上して、濃度測定精度が高く、作業時間を短縮できる光導波路基板用キャリアを提供することを可能とする。
以下、本発明の実施の形態に係る光導波路基板用キャリアの詳細を図1〜図5を用いて説明する。
図1に示すように、光導波路基板用キャリアとしてのチップキャリア100は、複数の(本実施の形態では、8枚)の光導波路基板としてのガラスチップ200が載置される矩形状のフレームである。なお、図1は、チップキャリア100に1枚のガラスチップ200を載置した状態を示しているが、通常は8枚のガラスチップ200を載置して用いる。
チップキャリア100は、互いに平行な一対の横フレーム101と、これら横フレーム101同士の端部同士を連結する互いに平行な一対の縦フレーム102とからなる。すなわち、チップキャリア100の内側には、一対の横フレーム101と一対の縦フレーム102とで囲まれた略矩形状の開口部110を有する。横フレーム101同士の互いに対向する内側縁部には、ガラスチップ200の位置決めを行う位置決めリブ103が等間隔に形成されている。互いに隣接する位置決めリブ103同士の間は、開口部110の周縁の一部が外側へ向けて湾曲するように突出した形状となるように切り欠き104が形成され、この切り欠き104の図1中矢印yで示す方向の両側に位置する位置決め載置部としてのチップ載置部105上にガラスチップ200の四隅を載せるようになっている。なお、矢印xがなす方向と矢印yがなす方向とは、同一平面内において直交する方向となっている。チップキャリア100の上に載置されたガラスチップ200は、位置決めリブ103およびチップ載置部105にて端面が当接することによりチップキャリア100に対して位置決めされるようになっている。
また、チップキャリア100の一対の横フレーム101には、載置されたそれぞれのガラスチップ200の長手方向の端部において幅方向の中央に位置する溝108が形成されている。すなわち、溝108は、切り欠き104の矢印y方向の中央から横フレーム101を矢印x方向に横断するように形成されている。この溝108は、後述する第1位置決め部300および第2位置決め部400のが動作したときに、第1位置決め部300側の部材もしくは第位置決め部400側の部材が横フレーム101に突き当たらないようにするために形成されている。に横フレーム101が干渉しないように形成されている。
そして、それぞれの縦フレーム102の中間部には、後述する光学ブロック500の基板載置面506に突設されたキャリア位置決めピン514が嵌合する位置決め孔106が形成されている。なお、図3は、チップキャリア100を光学ブロック500上に載置して、キャリア位置決めピン514が位置決め孔106に嵌合させた状態を示している。また、チップキャリア100のそれぞれの縦フレーム102には、搬送操作を行うためのハンドリング用の操作用ロッド107が上方へ向けて突設されている。
なお、チップキャリア100を光学ブロック500上に適正な位置に載置したときには、チップキャリア100の内側の開口部(枠内空間)110に、光学ブロック500の基板載置部507に上方へ向けて突設された基板載置用突起512が入り込み、基板載置用突起512がガラスチップ200をチップキャリア100から浮き上がるように設定されている。このため、チップキャリア100の厚みは、基板載置部507内の光学ブロック500がなす平面から突起の突端までの間に収まるように設定される。
ここで、上述したチップキャリア100を載置する濃度測定装置の光学ブロック500の概略構成を図2〜図4を用いて説明する。
図2および図3に示すように、光学ブロック500の上面501には、チップキャリア100が載置されるようになっている。このチップキャリア100は、ガラスチップ200を収納するようになっている。光学ブロック500は、一方の側面に設けられた複数の光源モジュール530と、他方の側面に設けられた、光源モジュール530と同数の検出器531とを備えている。
また、図4に示すように、光学ブロック500に対して、ガラスチップ200を光学ブロック500上で位置決め、保持する第1位置決め部300、第2位置決め部400および押圧部450が設けられている。
図2〜図4に示すように、光学ブロック500は略台状の構造を有する。本実施の形態において、光学ブロック500は、金属ブロックを削り出しにより形成したものである。光学ブロック500の具体的な外形は、長方形状の上面501と、この上面501に対して平行をなす長方形状の下面502と、図2および図3に矢印yで示す長手方向の両側端に位置する、互いに平行をなす台形状の一対の側面503と、図中に矢印xで示す幅方向の両側に位置する一対のテーパ面504、505と、を備えている。
図2に示すように、上面501には、図中の矢印x方向の中央で矢印y方向の光学ブロック500の長さのほぼ全体に亘って長方形状の基板載置面506が周囲の上面501に対してやや高く形成されている。基板載置面506には、矢印y方向に沿って複数(本実施の形態では8つ)の基板載置部(基板載置面506におけるガラスチップ200を載置する面領域)507が互いに平行をなすように隣接して配置されている。本実施の形態に係るチップキャリア100を用いれば、複数のガラスチップ200をそれぞれ基板載置部507に同時に載置して、一度に複数のガラスチップ200を用いた濃度測定を行うことが可能である。
基板載置面506には、チップキャリア100に収納されたガラスチップ200がそれぞれ対応する基板載置部507に載置されるようになっている。ガラスチップ200は、その長手方向が矢印x方向に一致するように基板載置部507上に載置される。
図4は、図2のA−A断面図である。図4に示すように、光学ブロック500には、それぞれの基板載置部507内の一方側(光源モジュール530側)の領域と、一方のテーパ面504の所定位置と、を結ぶように貫通する光出射通路508が形成されている。光学ブロック500におけるテーパ面504側には、光源モジュール530を取り付ける、光出射通路508の一方の開口部508Aが形成されている。なお、この開口部508Aの近傍は、光源モジュール530を配置し、位置設定するため、光出射通路508よりも径が大きく形成されている。また、それぞれの基板載置部507における光源モジュール530側の領域には、基板載置部507上に載置されたガラスチップ200に光を入射させるための、光出射通路508の他方の開口端である出射開口部508Bが形成されている。
また、図4に示すように、基板載置部507における検出器531側に位置する表面と、他方のテーパ面505との間には、光入射通路509が形成されている。この光入射通路509のテーパ面505における開口部509A側には、上述の検出器531が配置、固定され、検出器531の受光面が開口部509Aに臨んでいる。光入射通路509の他方の開口端は、基板載置部507内に開口された入射開口部509Bである。
さらに、図4に示すように、基板載置部507内における、出射開口部508Bと入射開口部509Bとの間で、かつ出射開口部508Bに隣接する位置には、下面502まで貫通する非検出光除去通路510が形成されている。この非検出光除去通路510は、出射開口部508Bから出てガラスチップ200に入射する光のうち、ガラスチップ200内に進まない反射成分が入射するようになっている。基板載置部507における非検出光除去通路510の開口端は、非検出光入射開口部510Aとなっている。また、下面502には、非検出光除去通路510の他方の開口部510Bが形成されている。本実施の形態では、非検出光除去通路510は、中間部で屈曲しており、開口端510Bから開口部510Aが見通せない位置関係となるように形成されている。
上述した光出射通路508、光入射通路509、および非検出光除去通路510の内壁面は、光吸収性を有するように黒色の塗装などの処理が施されている。
なお、光学ブロック500の一方のテーパ面504に固定された光源モジュール530から出射される光の光軸は、光出射通路508内を通ってガラスチップ200の下面に所定入射角度で入射されるように設定されている。本実施の形態では、光源モジュール530を光学ブロック500に固定することにより、ガラスチップ200への所定入射角度の±0.2度以内の精度を達成することができる。
図4に示すように、基板載置部507の上には、出射開口部508B、非検出光入射開口部510Aおよび入射開口部509Bを覆う透明な保護ガラス(図中一点鎖線で示す)511が配置されている。
そして、基板載置面506のそれぞれの基板載置部507には、ガラスチップ200を所定の高さで載置する4つの基板載置用突起512が上方へ向けて突設されている。これら基板載置用突起512は、それぞれの基板載置部507において、出射開口部508B、非検出光入射開口部510Aおよび入射開口部509Bが形成された領域を取り囲むように配置されている。すなわち、これら基板載置用突起512は、ガラスチップ200内の光導波路を干渉しない位置に配置されている。なお、これら基板載置用突起512は、金属製のピンを光学ブロック500の基板載置部507に固定したものである。これら基板載置用突起512の上端面は、研削、切削、研磨、バリ取りなどを行って、高さのばらつきが±50μm以内におさまるように平坦性が実現されている。
さらに、図2に示すように、基板載置面506におけるそれぞれの基板載置部507の矢印y方向の両側には、ガラスチップ200を幅方向の両側から挟んで特定方向(矢印x方向)のみの移動を可能とすると共に、矢印y方向の移動を規制する2対の位置決め突起513が突設されている。なお、本実施の形態では、互いに隣接する基板載置部507同士は、間に2本の位置決め突起513のみが配置され、互いに共用するようになっている。
また、図2に示すように、基板載置面506における複数の基板載置部507の矢印y方向の両側には、チップキャリア100の位置決めを行うためのキャリア位置決めピン514がそれぞれ突設されている。
ここで、チップキャリア100に収納されるガラスチップ200の構造を簡単に説明する。
図5に示すように、ガラスチップ200は、長方形状のガラス基板であり、例えばホウケイ酸ガラスなどの光透過性のある材料からなる。ガラスチップ200の上面中央には、被測定物を収容するサンプル配置部201が形成されている。このサンプル配置部201は、例えばABS樹脂でなる突堤202で囲まれたものであり、突堤202で囲まれた内側の凹部に、被測定物としての例えばタンパク質などを含む液体を収容するようになっている。
また、ガラスチップ200の上面における、サンプル配置部201の両側(ガラスチップ200の長手方向の両側)には、入射側グレーティング203と出射側グレーティング204が形成されている。これら入射側グレーティング203と出射側グレーティング204は、例えば、二酸化チタン(TiO)膜をストライプ状にパターニングすることにより形成されている。
以上の構成により、図5に示すように、本実施の形態に係るチップキャリア100を用いることで、ガラスチップ200は光学ブロック500上の基板載置用突起512に直接載置されてチップキャリア100と分離される。そして、第1決め部300、第2位置決め部400、および押圧部450で位置決め、保持されるため、光源モジュール530から出射された光Lが所定の入射角度θで入射すると、ガラスチップ200内に入射した1次光L1は、入射側グレーティング203で回折してガラスチップ200の下面側で全反射し、その反射光がガラスチップ200の上面で全反射するというように、反射を繰り返して光導波路を形成する。そして、サンプル配置部201を通過した光は、出射側グレーティング204で回折してガラスチップ200の下面側から出射して光入射通路509に入射するようになっている。最初にガラスチップ200の下面で反射された0次光L0は、光学ブロック500の非検出光除去通路510内に入射して排除される。
〔本実施の形態の濃度測定装置の動作、作用〕
まず、本実施の形態に係るチップキャリア100を用いて被測定物の濃度を測定する場合の動作、作用を説明する。
(チップキャリアの載置)
図1に示すように、ガラスチップ200をチップキャリア100に載置する。なお、図1においては、1枚のガラスチップ200を示すが、複数の(本実施の形態では8枚の)ガラスチップ200をチップキャリア100に載置しておく。ガラスチップ200の上面における、サンプル配置部201に、例えばタンパク質溶液などの被測定物を滴下して配置する。また、被測定物によっては、適宜反応処理や色素の付加などを行っておく。
次に、作業者は、ガラスチップ200を載置したチップキャリア100を操作用ロッド107を持って、光学ブロック500の基板載置面506に搬送する。このとき、チップキャリア100に形成した位置決め孔106に、光学ブロック500側のキャリア位置決めピン514を嵌合させて、チップキャリア100の位置決めを行う。なお、このとき、ガラスチップ200は、それぞれの基板載置部507に突設された4本の基板載置用突起512の上に載置され、チップキャリア100からは浮いた状態にある。ここで、ガラスチップ200は、基板載置部507の両側に突設された位置決め突起513で矢印y方向の移動が規制され、矢印x方向の移動が可能となっている。
次に、第1位置決め部300、第2位置決め部400、および押圧部450を作動させてガラスチップ200を保持することにより、自動的に位置決めがなされるように設定されている。
この状態で、光源モジュール530や検出器531を駆動させることにより、ガラスチップ200を経た入射光を検出することができる。このように、検出器531で入射光の光量を検出することにより、サンプル配置部201に配置された被測定物の濃度を特定することができる。
なお、このような光照射を行うときは、ガラスチップ200の上方を蓋などで閉塞してガラスチップ200の上方に光が漏れないようにすることは勿論である。
以上の説明から明らかなように、本実施の形態に係るチップキャリア100を用いることにより、測定精度が高く、作業時間を短縮することができる。
本実施の形態に係るチップキャリア100では、ガラスチップ200を複数並置できるため、作業効率を高めることができる。そして、ガラスチップ200は、基板載置部507へ載置したときに、チップキャリア100から浮いた状態となるため、チップキャリア100の形状の自由度が高くなるという利点がある。したがって、チップキャリア100の形状は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、光学ブロック500側の位置決め突起にガラスチップ200が載置され得る構造であれば、各種の構造を適用することが可能である。
(その他の実施の形態)
上述した実施の形態の開示の一部をなす論述および図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
例えば、上述の実施の形態では、チップキャリア100を一対の横フレーム101と一対の縦フレーム102で開口部110を取り囲むように形成したが、複数対の横フレーム101を備える構成としてもよいし、平板状のプレートに開口部110を特定方向(矢印y方向)そって間欠的に形成する構成としてもよい。
本発明の実施の形態に係る光導波路基板用キャリアとしてのチップキャリアを示す斜視図である。 本発明の実施の形態に係るチップキャリアと光学ブロックとを示す斜視図である。 本発明の実施の形態に係るチップキャリアを光学ブロックに載せた状態を示す斜視図である。 図2のA−A断面図である。 ガラスチップの光導波路を示す断面説明図である。
符号の説明
100…チップキャリア(光導波路基板用キャリア)、101…横フレーム、102…縦フレーム、103…リブ、105…チップ載置部、106…位置決め孔、107…操作用ロッド、109…開口部、200…ガラスチップ、500…光学ブロック、512…基板載置用突起。

Claims (6)

  1. 基板載置面に突設された基板載置用突起と、前記基板載置用突起に載置された光導波路基板中を通る光を照射する光源モジュールと、前記光導波路基板からの戻り光を受光する検出器とを有する濃度測定装置に、複数の光導波路基板を収容した状態で搬送されて載置される光導波路基板用キャリアであって、
    前記複数の光導波路基板が特定方向に沿って並行に配置されるフレームに、
    前記濃度測定装置に載置されたときに前記基板載置用突起が前記光導波路基板の下面に当接するように挿入される開口部が形成されると共に、
    前記フレームに、前記光導波路基板の端面に当接する部位によって、前記光導波路基板を保持する位置決め載置部が形成されていることを特徴とする光導波路基板用キャリア。
  2. 前記濃度測定装置には前記基板載置面に突設されて前記光導波路基板の位置決めをするための位置決め突起が形成され、前記開口部は、前記濃度測定装置に載置されたときに前記基板載置用突起が前記光導波路基板の下面に当接するように挿入され、かつ前記位置決め突起が前記光導波路基板の側面に接するように挿入されることを特徴とする請求項1記載の光導波路基板用キャリア。
  3. 前記フレームには、前記濃度測定装置に設けられた位置決めピンと嵌合して、前記濃度測定装置と前記キャリアの位置決めをする位置決め孔が形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光導波路基板用キャリア。
  4. 前記フレームには、搬送時にハンドリングされる操作用ロッドが突設されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の光導波路基板用キャリア。
  5. 前記フレームは、前記光導波路基板の側面に当接して位置決めを行う位置決めリブが形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の光導波路基板用キャリア。
  6. 前記フレームは、複数の横フレームと、前記横フレームを連結するように形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の光導波路基板用キャリア。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01229938A (ja) * 1988-03-10 1989-09-13 Mitsui Petrochem Ind Ltd 膜特性試験用サンプルホルダーおよび膜特性試験用サンプルの除去方法および押込み治具
JPH05504626A (ja) * 1990-03-02 1993-07-15 ファイソンズ ピーエルシー 化学又は生化学試験に用いる試料セル
JPH0628706U (ja) * 1992-09-01 1994-04-15 松浪硝子工業株式会社 毛細管現象を応用した免疫染色用補助プレート
JPH08285851A (ja) * 1995-04-13 1996-11-01 Nec Corp 光導波路型蛍光免疫センサとその製造方法
JP2000249656A (ja) * 1999-03-01 2000-09-14 Bayer Corp 脱着可能なインサートを有する光学検査装置
JP2001304981A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 密閉容器内温度測定モニタ
JP2002168785A (ja) * 2000-11-29 2002-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd サンプルステージの固定方法および装置
JP2002168871A (ja) * 2000-11-29 2002-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd サンプルキャリア
JP2004144477A (ja) * 2002-03-28 2004-05-20 Fuji Photo Film Co Ltd 測定方法および測定装置
JP2006090902A (ja) * 2004-09-24 2006-04-06 Toshiba Corp 濃度測定装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01229938A (ja) * 1988-03-10 1989-09-13 Mitsui Petrochem Ind Ltd 膜特性試験用サンプルホルダーおよび膜特性試験用サンプルの除去方法および押込み治具
JPH05504626A (ja) * 1990-03-02 1993-07-15 ファイソンズ ピーエルシー 化学又は生化学試験に用いる試料セル
JPH0628706U (ja) * 1992-09-01 1994-04-15 松浪硝子工業株式会社 毛細管現象を応用した免疫染色用補助プレート
JPH08285851A (ja) * 1995-04-13 1996-11-01 Nec Corp 光導波路型蛍光免疫センサとその製造方法
JP2000249656A (ja) * 1999-03-01 2000-09-14 Bayer Corp 脱着可能なインサートを有する光学検査装置
JP2001304981A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 密閉容器内温度測定モニタ
JP2002168785A (ja) * 2000-11-29 2002-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd サンプルステージの固定方法および装置
JP2002168871A (ja) * 2000-11-29 2002-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd サンプルキャリア
JP2004144477A (ja) * 2002-03-28 2004-05-20 Fuji Photo Film Co Ltd 測定方法および測定装置
JP2006090902A (ja) * 2004-09-24 2006-04-06 Toshiba Corp 濃度測定装置

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