JP4545690B2 - 微粒子の製造方法、及び製造装置 - Google Patents
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Description
1B…微粒子の製造装置、102…被処理液、103…処理チャンバ、104…溶媒、105…原料粒子(物質)、106…ゲル体(被処理体)、110…レーザ光源、115…制御装置、121…マイクロフォン、122…オシロスコープ、131…光照射窓、134…乾燥ガス吹付装置、136…スペーサ、137…乾燥空気断熱層、141…冷却媒体、142…冷却装置、146…XZ電動ステージ、147…ステージコントローラ。
Claims (24)
- 被処理液の溶媒中の物質を光破砕して、その物質の微粒子を製造する製造方法であって、
前記被処理液の前記溶媒を固体状とした前記物質を含む被処理体を用い、前記被処理体に対して所定波長のレーザ光を照射することによって、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化する微粒子化工程を備え、
前記微粒子化工程において、前記被処理液を冷却して前記溶媒を凝固させた前記物質を含む前記被処理体である凝固体を用い、前記凝固体に対して前記レーザ光を照射することによって、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化することを特徴とする微粒子の製造方法。 - 前記溶媒を凝固させる前に、前記溶媒中にある溶存ガスを排出するガス排出工程を備えることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記溶媒を凝固させる前に、前記溶媒中において前記物質の原料粒子を分散させる粒子分散工程を備えることを特徴とする請求項1または2記載の製造方法。
- 被処理液の溶媒中の物質を光破砕して、その物質の微粒子を製造する製造方法であって、
前記被処理液の前記溶媒を固体状とした前記物質を含む被処理体を用い、前記被処理体に対して所定波長のレーザ光を照射することによって、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化する微粒子化工程を備え、
前記微粒子化工程において、前記被処理液の前記溶媒中にゲル原料を分散させるとともに、前記ゲル原料を含む前記溶媒をゲル化させた前記物質を含む前記被処理体であるゲル体を用い、前記ゲル体に対して前記レーザ光を照射することによって、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化することを特徴とする微粒子の製造方法。 - 前記ゲル原料として、外部環境応答型のゲル原料を用いることを特徴とする請求項4記載の製造方法。
- 前記微粒子化工程において、前記ゲル体中に電場を加えて、微粒子の分離、分級、または濃縮のうちの少なくとも1つを行うことを特徴とする請求項4または5記載の製造方法。
- 前記微粒子化工程において、前記ゲル体に対して前記物質を含まない第2のゲル体を接続し、前記ゲル体中で生成された微粒子を電気泳動によって前記第2のゲル体へと移動して貯蔵することを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項記載の製造方法。
- 前記微粒子化工程において、前記ゲル体の温度を冷却することを特徴とする請求項4〜7のいずれか一項記載の製造方法。
- 前記微粒子化工程において用いられる前記レーザ光の波長は、900nm以上の波長であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項記載の製造方法。
- 前記微粒子化工程において、前記被処理体に対する前記レーザ光の照射位置を移動しつつ前記レーザ光の照射を行うことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項記載の製造方法。
- 前記微粒子化工程において、前記レーザ光の光路を変更することによって前記照射位置を移動することを特徴とする請求項10記載の製造方法。
- 前記微粒子化工程において、前記物質の微粒子化に起因する衝撃波のモニタ結果を参照して、前記被処理体に対する前記レーザ光の照射条件を決定することを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項記載の製造方法。
- 前記物質は、薬物であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項記載の製造方法。
- 被処理液の溶媒中の物質を光破砕して、その物質の微粒子を製造する製造装置であって、
前記被処理液を収容する処理チャンバと、
前記被処理液を冷却して前記溶媒を凝固させて前記物質を含む被処理体である凝固体とする冷却手段と、
前記凝固体での前記溶媒を凝固された状態に保持する凝固保持手段と、
前記処理チャンバ内に収容された前記凝固体に対して、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化するための所定波長のレーザ光を照射するレーザ光源と
を備えることを特徴とする微粒子の製造装置。 - 前記溶媒を凝固させる前に、前記溶媒中にある溶存ガスを排出するためのガス排出手段を備えることを特徴とする請求項14記載の製造装置。
- 前記溶媒を凝固させる前に、前記溶媒中において前記物質の原料粒子を分散させるための粒子分散手段を備えることを特徴とする請求項14または15記載の製造装置。
- 被処理液の溶媒中の物質を光破砕して、その物質の微粒子を製造する製造装置であって、
前記被処理液のゲル原料を含む前記溶媒をゲル化させた前記物質を含む被処理体であるゲル体を収容する処理チャンバと、
前記処理チャンバ内に収容された前記ゲル体に対して、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化するための所定波長のレーザ光を照射するレーザ光源と
を備えることを特徴とする微粒子の製造装置。 - 前記ゲル体中に電場を加えて、微粒子の分離、分級、または濃縮のうちの少なくとも1つを行うための電場印加手段を備えることを特徴とする請求項17記載の製造装置。
- 前記ゲル体の温度を冷却する冷却手段と、前記ゲル体を冷却された状態に保持する冷却保持手段とを備えることを特徴とする請求項17または18記載の製造装置。
- 前記レーザ光源から照射される前記レーザ光の波長は、900nm以上の波長であることを特徴とする請求項14〜19のいずれか一項記載の製造装置。
- 前記被処理体に対する前記レーザ光の照射位置を移動しつつ前記レーザ光の照射を行うことを特徴とする請求項14〜20のいずれか一項記載の製造装置。
- 前記レーザ光源から前記処理チャンバへの前記レーザ光の光路を変更することによって前記照射位置を移動する光路変更手段を備えることを特徴とする請求項21記載の製造装置。
- 前記物質の微粒子化に起因する衝撃波をモニタする衝撃波モニタ手段を備えることを特徴とする請求項14〜22のいずれか一項記載の製造装置。
- 前記物質は、薬物であることを特徴とする請求項14〜23のいずれか一項記載の製造装置。
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US20070095666A1 (en) * | 2005-10-27 | 2007-05-03 | Applera Corporation | Surface Modification in a Manipulation Chamber |
US8663702B2 (en) | 2006-04-07 | 2014-03-04 | Hamamatsu Photonics K.K. | Microparticles, microparticle dispersion and method and apparatus for producing the same |
WO2007132852A1 (ja) | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Ebara Corporation | 難水溶性医薬 |
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JP2007306950A (ja) | 2006-05-15 | 2007-11-29 | Osaka Univ | 薬効成分ナノ粒子分散液の製造方法 |
US8445019B2 (en) * | 2007-09-26 | 2013-05-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Microparticle dispersion liquid manufacturing method and microparticle dispersion liquid manufacturing apparatus |
US20110033545A1 (en) | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Absize, Inc. | Topical pharmaceutical preparations having both a nanoparticle solution and a nanoparticle suspension and methods for the treatment of acute and chronic pain therewith |
JP5866690B2 (ja) * | 2009-09-04 | 2016-02-17 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 球状ナノ粒子の製造方法及び同製造方法によって得られた球状ナノ粒子 |
CN102791368B (zh) * | 2010-03-11 | 2015-11-25 | 浜松光子学株式会社 | 微粒子分散液制造方法和微粒子分散液制造装置 |
US9849512B2 (en) * | 2011-07-01 | 2017-12-26 | Attostat, Inc. | Method and apparatus for production of uniformly sized nanoparticles |
US20160236296A1 (en) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | Gold Nanotech Inc | Nanoparticle Manufacturing System |
CN108261991A (zh) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 亚申科技研发中心(上海)有限公司 | 反应器 |
CN108079919B (zh) * | 2017-12-20 | 2019-11-19 | 长春微纪元科技有限公司 | 高精度全自动纳米材料合成系统 |
FR3079759A1 (fr) * | 2018-04-06 | 2019-10-11 | Universite De Nantes | Dispositif de type reacteur photochimique |
CN113893937B (zh) * | 2021-09-15 | 2022-11-01 | 珠海艾博罗生物技术股份有限公司 | 基于环形齿聚焦槽的高通量非接触式超声破碎装置及方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0463135A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-28 | Nkk Corp | セラミックスの液相合成法 |
JP2000153268A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Ebara Corp | 液体処理方法及び装置 |
JP2001113159A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-24 | Dainippon Ink & Chem Inc | 有機化合物の微粒子の製造方法 |
JP2001334165A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-04 | Hitachi Cable Ltd | 粉体の微粉砕方法 |
JP2005125258A (ja) * | 2003-10-24 | 2005-05-19 | Hamamatsu Photonics Kk | 微粒子、微粒子の製造方法、及び製造装置 |
JP2005168495A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-30 | Japan Science & Technology Agency | 細胞外物質の細胞内への導入方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4482375A (en) * | 1983-12-05 | 1984-11-13 | Mcdonnell Douglas Corporation | Laser melt spin atomized metal powder and process |
JPS6283055A (ja) | 1985-10-07 | 1987-04-16 | ティーディーケイ株式会社 | 超微粉末材料の製造方法及び装置 |
US6068800A (en) * | 1995-09-07 | 2000-05-30 | The Penn State Research Foundation | Production of nano particles and tubes by laser liquid interaction |
JPH09313573A (ja) | 1996-05-28 | 1997-12-09 | Takeda Chem Ind Ltd | 付着・凝集性医薬品の粉砕法 |
JPH11188427A (ja) | 1997-10-23 | 1999-07-13 | Toyota Motor Corp | エンボス模様付き金属微細片の製造方法 |
KR20010016692A (ko) * | 1999-08-02 | 2001-03-05 | 최만수 | 레이저 가열에 의한 입자 소결 제어를 이용한 구형의 미세입자 제조방법 |
DE10160817A1 (de) * | 2001-12-11 | 2003-06-26 | Degussa | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von nanoskaligen Pulvern durch Laserverdampfung |
JP4293586B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2009-07-08 | 浜松ホトニクス株式会社 | ナノ粒子の製造方法及び製造装置 |
DE602004019055D1 (de) | 2003-03-07 | 2009-03-05 | Hamamatsu Photonics Kk | Medikament in form feiner teilchen, verfahren und vorrichtung zu seiner herstellung und mittel zur parenteralen injektion und herstellungsverfahren dafür |
EP1685905A4 (en) | 2003-11-20 | 2009-09-09 | Hamamatsu Photonics Kk | MICRO PARTICLES, METHOD FOR THE PRODUCTION OF MICROPARTICLES AND MANUFACTURING DEVICE |
JP4482322B2 (ja) * | 2003-12-18 | 2010-06-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 微粒子の製造方法、及び製造装置 |
JP4398280B2 (ja) | 2004-02-26 | 2010-01-13 | 浜松ホトニクス株式会社 | 微粒子の製造方法 |
JP4593144B2 (ja) | 2004-03-26 | 2010-12-08 | 浜松ホトニクス株式会社 | 微粒子化条件の決定方法、決定装置、及び微粒子の製造方法、製造装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0463135A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-28 | Nkk Corp | セラミックスの液相合成法 |
JP2000153268A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Ebara Corp | 液体処理方法及び装置 |
JP2001113159A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-24 | Dainippon Ink & Chem Inc | 有機化合物の微粒子の製造方法 |
JP2001334165A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-04 | Hitachi Cable Ltd | 粉体の微粉砕方法 |
JP2005125258A (ja) * | 2003-10-24 | 2005-05-19 | Hamamatsu Photonics Kk | 微粒子、微粒子の製造方法、及び製造装置 |
JP2005168495A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-30 | Japan Science & Technology Agency | 細胞外物質の細胞内への導入方法 |
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