JP4539824B2 - 被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法 - Google Patents
被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4539824B2 JP4539824B2 JP2004184400A JP2004184400A JP4539824B2 JP 4539824 B2 JP4539824 B2 JP 4539824B2 JP 2004184400 A JP2004184400 A JP 2004184400A JP 2004184400 A JP2004184400 A JP 2004184400A JP 4539824 B2 JP4539824 B2 JP 4539824B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- och
- component
- mass
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 104
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 45
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 39
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 33
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 27
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 12
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 12
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910009257 Y—Si Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- -1 aminopropyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCN YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Description
本発明は、粒子表面をシリコーン撥水剤で被覆して耐水性、特に、その長期安定性を改善した被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法に関する。
従来から、ＬａＢ6などの六ホウ化物は、可視光線領域の光を透過し、かつ１，０００ｎｍ付近の光を反射、吸収、遮蔽する特性を利用して、光学部材、フィルム材料などとして利用されている。例えば、六ホウ化物微粒子を単独で又はＩＴＯ微粒子やＡＴＯ微粒子と共に含む塗膜を設けたガラス板や樹脂板或いはフィルムは、建築物や自動車の窓などに設置して熱線を遮蔽するために使用されている。
しかし、これらの六ホウ化物粒子は、空気中の水蒸気や水によって、表面が分解されることが知られている。特に、微細粒子の状態で存在する場合には、体積に対して表面積が増加しているため、その表面が水蒸気や水分で分解し易く、酸化物や水酸化物などの化合物に変化する割合が多くなり、その結果、六ホウ化物本来の特性が徐々に低下するという問題があった。特に、六ホウ化物粒子を含む塗膜を設けた光学部材の場合、表面の塗膜中に水蒸気や水が徐々に浸透して六ホウ化物粒子が分解し、２００〜２，６００ｎｍ領域の透過率が経時的に上昇するという問題もある。
特開２００３−３２１２１８号公報（特許文献１）には、光学部材用途として被覆六ホウ化物粒子が開示されている。これは六ホウ化物粒子をアルコキシシランやシラザン化合物で表面被覆して耐水性を付与している。しかし、この方法ではモノマー成分で処理しているため使用量が多い割には被膜性が不充分であり、そのため耐水性も良くないという問題があった。
また、特開２００４−４３７６４号公報（特許文献２）には、不定形シリカで六ホウ化物粒子を表面処理したものを使用した農業用フッ素樹脂フィルムが開示されている。これはテトラアルコキシシラン或いは水ガラスなどで六ホウ化物粒子の表面を被覆するものであり、シリカ成分で六ホウ化物粒子の表面を完全に被覆している。しかしこのままでは耐水性がないため、どうしてもシリカ被覆膜厚を大きくしなければならない。また、撥水性もないため、このシリカ被覆層に更に疎水化処理をしなければならず、工程、コスト的な問題があった。
本発明は、このような従来の事情に鑑み、耐水性、特に耐水性の長期安定性を改善して水や水蒸気の影響を受け難い被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、
（Ａ）六ホウ化物粒子の粒子表面を
（Ｂ）（ｉ）下記一般式（１）
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物と、（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）
で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物を含むシリコーン系撥水処理剤で被覆することにより、耐水性に、特に、その長期安定性に優れた被覆六ホウ化物粒子となることを見出し、本発明をなすに至った。
（Ａ）六ホウ化物粒子の粒子表面を
（Ｂ）（ｉ）下記一般式（１）
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物と、（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）
で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物を含むシリコーン系撥水処理剤で被覆することにより、耐水性に、特に、その長期安定性に優れた被覆六ホウ化物粒子となることを見出し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、
（Ａ）六ホウ化物粒子の粒子表面が（Ｂ）シリコーン系撥水処理剤で被覆されてなる被覆六ホウ化物粒子であって、
（Ａ）六ホウ化物粒子 ８０〜９９．８質量％が、
（Ｂ）（ｉ）下記一般式（１）
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物１００質量部と、
（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物０．５〜４９質量部
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物０．１〜２０質量部とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
を含むシリコーン系撥水処理剤 ０．２〜２０質量％
で被覆されてなることを特徴とする被覆六ホウ化物粒子、及び
六ホウ化物粒子に、上記（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｖ）成分との共加水分解縮合物を含むシリコーン系撥水処理剤を被覆することを特徴とする被覆六ホウ化物粒子の製造方法を提供する。
（Ａ）六ホウ化物粒子の粒子表面が（Ｂ）シリコーン系撥水処理剤で被覆されてなる被覆六ホウ化物粒子であって、
（Ａ）六ホウ化物粒子 ８０〜９９．８質量％が、
（Ｂ）（ｉ）下記一般式（１）
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物１００質量部と、
（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物０．５〜４９質量部
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物０．１〜２０質量部とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
を含むシリコーン系撥水処理剤 ０．２〜２０質量％
で被覆されてなることを特徴とする被覆六ホウ化物粒子、及び
六ホウ化物粒子に、上記（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｖ）成分との共加水分解縮合物を含むシリコーン系撥水処理剤を被覆することを特徴とする被覆六ホウ化物粒子の製造方法を提供する。
本発明の被覆六ホウ化物粒子は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマー、繊維の原料に混合して、又はコーティング剤、シーラントなどとして光学部材用途等の基板、フィルムなどに塗布して使用した場合、優れた耐水性、分散性、透明性、赤外線遮蔽性、特に、長期に安定した耐水性を与えるものである。
本発明の被覆六ホウ化物粒子は、（Ａ）六ホウ化物粒子の粒子表面が（Ｂ）シリコーン系撥水処理剤で被覆されてなるものである。
本発明における（Ａ）成分は、六ホウ化物粒子であり、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ及びＣａからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の六ホウ化物であることが好ましい。
その具体例としては、ＬａＢ6のランタン六ホウ化物、ＣｅＢ6、ＰｒＢ6、ＮｄＢ6、ＧｄＢ6、ＴｂＢ6、ＤｙＢ6、ＨｏＢ6、ＴｂＢ6、ＳｍＢ6、ＥｕＢ6、ＥｒＢ6、ＴｍＢ6、ＹｂＢ6、ＬｕＢ6等のランタニド六ホウ化物、ＳｒＢ6、ＣａＢ6等のアルカリ土類金属六ホウ化物等が挙げられる。特に、ＬａＢ6、ＣｅＢ6、ＮｄＢ6、ＧｄＢ6からなる群から選ばれる１種以上の六ホウ化物が好ましい。ＬａＢ6又はＣｅＢ6がより好ましく、ＬａＢ6が最も好ましい。
本発明における（Ｂ）成分のシリコーン系撥水処理剤としては、（Ａ）成分の六ホウ化物粒子に対して良好な撥水性が付与できるもの、特にシロキサンオリゴマーとアミノ基含有の有機ケイ素化合物からなる反応物を含むものが好ましいものとして挙げられる。
上記反応物として具体的には、（ｉ）下記一般式（１）
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物１００質量部と、
（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物０．５〜４９質量部
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物０．１〜２０質量部とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物、又は
（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｉｉ）無機酸化物微粒子０．１〜１０質量部と（ｉｖ）成分とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物を使用する。
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物１００質量部と、
（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物０．５〜４９質量部
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物０．１〜２０質量部とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物、又は
（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｉｉ）無機酸化物微粒子０．１〜１０質量部と（ｉｖ）成分とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物を使用する。
これらを用いることにより良好な撥水性が得られる理由としては、特に限定されるものではないが、上記（ｉｉ）成分であるアミノ基が撥水剤成分中にあり、このアミノ基が（Ａ）成分の表面側にまず吸着配向するため、主成分である（ｉ）成分中のアルキル基が被覆粒子の表面サイド、即ち、（Ａ）成分の表面から離間する方向に向きやすくなり、そのため良好な撥水性が発現するのではないかと推定される。更に、少量の（ｉｉｉ）成分を添加することにより、撥水膜の造膜性が上がったり、微細な凸凹が生成したりして更に撥水性が向上する。また、（ｉｖ）成分の添加も撥水性の向上に寄与する。これは両末端が反応性のため連結鎖部分の有機基が更なる撥水性向上作用を与えているものと考えられる。
以下、更に（ｉ）成分〜（ｉｖ）成分について説明する。
［（ｉ）成分］
本発明において（ｉ）成分は、下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物である。
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
［（ｉ）成分］
本発明において（ｉ）成分は、下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物である。
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
上記式（１）のＲ1は炭素原子数１〜６、好ましくは１〜３のアルキル基である。具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられ、特にメチル基が好ましい。Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基であり、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、メチル基、エチル基が好ましい。
このような式（１）の有機ケイ素化合物の具体例としては、例えば、
ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
ＣＨ3ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
ＣＨ3ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ3Ｈ7Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ3Ｈ7Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ3Ｈ7Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ4Ｈ9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ4Ｈ9Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ4Ｈ9Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ5Ｈ11Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ5Ｈ11Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ5Ｈ11Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ6Ｈ13Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ6Ｈ13Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ6Ｈ13Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3
等のアルキルトリアルコキシシランを挙げることができる。
ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
ＣＨ3ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
ＣＨ3ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ3Ｈ7Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ3Ｈ7Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ3Ｈ7Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ4Ｈ9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ4Ｈ9Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ4Ｈ9Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ5Ｈ11Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ5Ｈ11Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ5Ｈ11Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3、
Ｃ6Ｈ13Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ6Ｈ13Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、
Ｃ6Ｈ13Ｓｉ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3
等のアルキルトリアルコキシシランを挙げることができる。
本発明においては、上記したようなアルキルトリアルコキシシラン等の有機ケイ素化合物を単独で使用しても２種類以上の混合物を使用してもよいし、また、それらの部分加水分解物を使用してもよい。
この場合、（ｉ）成分としては、上記したようなアルキルトリアルコキシシランを部分加水分解縮合したアルコキシ基含有シロキサンを用いることが好ましい。この部分加水分解物（シロキサンオリゴマー）のケイ素原子数は２〜１０、特に２〜４であることが好ましい。
更に、（ｉ）成分としては、水中で炭素原子数１〜６のアルキルトリクロロシランとメタノール、エタノール等のアルコールとの反応により得られるアルキルトリアルコキシシラン又はシロキサンオリゴマーでもよい。この場合も、このシロキサンオリゴマーのケイ素原子数は２〜６、特に２〜４であることが好ましい。（ｉ）成分としてシロキサンオリゴマーを用いることにより粒子表面での造膜性が向上し、より耐水性を向上させることができるため効果的である。
上記シロキサンオリゴマーとしては、特に［ＣＨ3（ＯＲ2）2Ｓｉ］2Ｏ（式中、Ｒ2は上記と同一である。）で表されるシロキサンダイマーが好ましい。この場合、シロキサントリマーやシロキサンテトラマーを含んでいてもよい。この場合、毛細管式粘度計による粘度測定法において２５℃で３００ｍｍ2／ｓ以下の粘度を有しているものが好ましく、特に１〜１００ｍｍ2／ｓの粘度を有するものが好適である。
［（ｉｉ）成分］
本発明において（ｉｉ）成分は、下記一般式（２）で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物である。
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５、好ましくは１〜８、より好ましくは１〜４のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８、好ましくは１〜８、より好ましくは３の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
本発明において（ｉｉ）成分は、下記一般式（２）で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物である。
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５、好ましくは１〜８、より好ましくは１〜４のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８、好ましくは１〜８、より好ましくは３の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
上記式（２）中のＲ3、Ｒ4としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基等が挙げられる。Ｒ5としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基が挙げられる。Ｒ6は、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基である。
このような上記式（２）のアミノ基含有アルコキシシランの具体例としては、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2
等が挙げられ、これらの部分加水分解物を用いることもできる。
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）5ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
ＣＨ3ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
Ｃ4Ｈ9ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）3ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ2ＣＨ3）2
等が挙げられ、これらの部分加水分解物を用いることもできる。
これらの中で、特に、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン
などやこれらの部分加水分解物が好適に用いられる。
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン
などやこれらの部分加水分解物が好適に用いられる。
［（ｉｉｉ）成分］
本発明において（ｉｉｉ）成分は、無機酸化物微粒子であり、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化セリウムなどが挙げられる。その平均粒径が１〜２００ｎｍのものが好ましい。特に好ましくは５〜１００ｎｍのものである。平均粒径が２００ｎｍを超えるものを用いると基材が白くなったり、撥水性能が悪くなったりする場合がある。また平均粒径が１ｎｍ未満のものを用いると、処理剤の安定性が悪化する場合がある。その粒子形状は特に限定はないが、球状であることが好ましい。これら無機酸化物微粒子を使用する場合、水又は溶剤等に分散させたものを使用するのが好ましい。
本発明において（ｉｉｉ）成分は、無機酸化物微粒子であり、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化セリウムなどが挙げられる。その平均粒径が１〜２００ｎｍのものが好ましい。特に好ましくは５〜１００ｎｍのものである。平均粒径が２００ｎｍを超えるものを用いると基材が白くなったり、撥水性能が悪くなったりする場合がある。また平均粒径が１ｎｍ未満のものを用いると、処理剤の安定性が悪化する場合がある。その粒子形状は特に限定はないが、球状であることが好ましい。これら無機酸化物微粒子を使用する場合、水又は溶剤等に分散させたものを使用するのが好ましい。
無機酸化物微粒子としては、特に、コストの面、使用しやすさの面から、コロイダルシリカが好ましい。コロイダルシリカは、水又はメタノール、エタノール、イソブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコールにシリカ微粒子を分散させたものである。このようなコロイダルシリカとしては、微粒子状のシリカ粒子を水又はアルコール溶媒中でコロイド状分散液としたもの、例えば、スノーテックスＯ、スノーテックスＯ−４０、スノーテックスＯＸＳ、スノーテックスＯＳ、スノーテックスＯＬ、スノーテックスＯＵＰ、メタノールシリカゾル、ＩＰＡ−ＳＴ（以上、日産化学工業（株）製）などが挙げられる。
［（ｉｖ）成分］
本発明において（ｉｖ）成分は、下記一般式（３）で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物である。
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）
本発明において（ｉｖ）成分は、下記一般式（３）で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物である。
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）
上記式（３）中のＲ12、Ｒ22は、各々上記式（１）のＲ1、Ｒ2として例示したものと同一のものが挙げられる。
また、Ｙの２価の有機基としては、ハロゲン原子を含んでもよい炭素原子数１〜２０、好ましくは１〜１０の２価の有機基（好ましくはアルキレン基又は−（ＣＨ2）c（ＣＦ2）d（ＣＨ2）e−（ｃは１〜６の整数、ｄは１〜１０の整数、ｅは１〜６の整数）で示されるフッ素原子含有アルキレン基）が挙げられる。
一方、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基及び−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基において、Ｒ7は炭素原子数１〜６、好ましくは１〜３のアルキル基である。具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられ、特にメチル基が好ましい。また、Ｒ8は炭素原子数１〜６、好ましくは２〜３の２価炭化水素基であり、特にアルキレン基が好ましい。ｍは１〜３０、好ましくは５〜２０の整数である。
上記式（３）中、Ｙで示される基として具体的には、
−ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）2Ｏ−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）4Ｏ−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）6Ｏ−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）8Ｏ−、
−ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＳｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）5Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）7Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）19Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）39Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−
などを例示することができるが、これらに限定されるものではない。
−ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）2Ｏ−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）4Ｏ−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）6Ｏ−、
−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）8Ｏ−、
−ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＳｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）5Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）7Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）19Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）39Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−
などを例示することができるが、これらに限定されるものではない。
上記式（３）で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物の具体例としては、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ16ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ10Ｆ20ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ16ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ10Ｆ20ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）2ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）4ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）6ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）8ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）10ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＳｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）5Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）7Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
又はこれらの部分加水分解物が例示される。
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ16ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ10Ｆ20ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ16ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）2（ＣＨ3）ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ10Ｆ20ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）2ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）4ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）6ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）8ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）10ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＳｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）5Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）7Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
又はこれらの部分加水分解物が例示される。
これらの中でも、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）6ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）8ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）10ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）5Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）7Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
が好ましく、また、これらの部分加水分解物も好適に用いられる。
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）6ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）8ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）10ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）5Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）7Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
が好ましく、また、これらの部分加水分解物も好適に用いられる。
上記（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｖ）成分、又は（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｉｉ）成分と（ｉｖ）成分とで共加水分解縮合させて共加水分解縮合物とする場合、それらの使用割合は、（ｉ）成分１００質量部に対して（ｉｉ）成分は０．５〜４９質量部、好ましくは５〜３０質量部である。（ｉｉ）成分が０．５質量部未満であるとシリコーン系撥水処理剤自体の安定性が悪くなる。また、（ｉｉ）成分が４９質量部を超えると撥水性が悪くなったり、（Ａ）成分に処理したときに黄変が激しくなったりする。
この場合、（ｉｉｉ）成分は、（ｉ）成分１００質量部に対して０．１〜１０質量部、好ましくは０．５〜５質量部である。（ｉｉｉ）成分が０．１質量部未満であると撥水性効果の発現が弱くなる。また、（ｉｉｉ）成分が１０質量部を超えるとコスト的に不利になったり、シリコーン系撥水処理剤の安定性が悪くなったりする。
一方、（ｉｖ）成分は、（ｉ）成分１００質量部に対して０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部である。（ｉｖ）成分が０．１質量部未満であると撥水性効果の発現が弱くなる。また、（ｉｖ）成分が２０質量部を超えるとコスト的に不利になる。
この場合、モル換算では、（ｉ）成分＋（ｉｖ）成分［（ｉｉｉ）成分がコロイダルシリカの場合、（ｉ）成分＋（ｉｉｉ）成分＋（ｉｖ）成分］のＳｉ原子１モルに対し（ｉｉ）成分のＳｉ原子が０．０１〜０．３モル、特に０．０５〜０．２モルとなるように用いることが好ましい。
これら（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｖ）成分とを共加水分解縮合させて共加水分解縮合物とする場合、又は（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｉｉ）成分と（ｉｖ）成分とを共加水分解縮合させて共加水分解縮合物とする場合、いずれの場合も有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させればよい。
（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｖ）成分、又は（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｉｉ）成分と（ｉｖ）成分とを共加水分解縮合させて共加水分解縮合物とする場合は、最初に（ｉ）成分と、（ｉｖ）成分又は（ｉｉｉ）成分及び（ｉｖ）成分とを混合したものを有機酸又は無機酸の存在下で加水分解し、この加水分解物と（ｉｉ）成分を混合し、有機酸又は無機酸の存在下、更に加水分解させることが好ましい。
加水分解に使用する有機酸又は無機酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸、シュウ酸及びマレイン酸などから選ばれる少なくとも１種の酸が用いられるが、特に好適なものは酢酸、プロピオン酸である。この酸の使用量は、１００質量部に対して２〜４０質量部、特に３〜１５質量部が好適である。
加水分解は、適度に溶剤で希釈した状態で行うのが好ましい。この場合の溶剤としては、アルコール系溶剤が好適であり、特にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、第三ブチルアルコールが好適である。この溶剤の使用量は、（ｉ）成分と（ｉｖ）成分の総量［（ｉｉｉ）成分を用いる場合は、（ｉ）成分と（ｉｉｉ）成分と（ｉｖ）成分の総量］１００質量部に対して５０〜３００質量部、特に７０〜２００質量部が好ましい。溶剤の使用量が５０質量部より少ないと、縮合が進んでしまう場合があり、また、３００質量部を超えると、加水分解に時間がかかる場合がある。
加水分解のために加える水の量は、（ｉ）成分と（ｉｖ）成分の総量［（ｉｉｉ）成分を用いる場合は、（ｉ）成分と（ｉｉｉ）成分と（ｉｖ）成分の総量］１モルに対し０．５〜４モル量、特に１〜３モル量が好適である。加える水量が０．５モル量より少ないとアルコキシ基が多く残存してしまう場合があり、４モル量を超えると縮合が進行しすぎる場合がある。また、（ｉｉｉ）成分として、水中に分散しているコロイダルシリカを用いる場合、その水を加水分解に用いる水としてもよい。
（ｉ）成分と（ｉｖ）成分又は（ｉｉｉ）成分及び（ｉｖ）成分とを加水分解させる際の反応条件は、反応温度１０〜４０℃、特に２０〜３０℃がよく、反応時間は１〜３時間で加水分解反応させるのがよい。
次に、（ｉ）成分と（ｉｖ）成分又は（ｉｉｉ）成分及び（ｉｖ）成分との加水分解物と（ｉｉ）成分とを反応させる。なお、この反応条件は、反応温度６０〜１００℃、反応時間１〜３時間が好ましい。反応終了後は、溶剤の沸点以上まで温度を上げ、アルコール溶剤等の溶剤を留去させてシリコーン系撥水処理剤とする。この場合、系内にアルコール等の溶剤が含まれていてもよいが、全アルコール（反応溶剤としてのアルコール及び副生成物としてのアルコール）等の溶剤の含有量を３０質量％以下、特に１０質量％以下となるように留去させることが好ましい。
上記方法で得られるシリコーン系撥水処理剤は、毛細管式粘度計による粘度測定で２５℃における粘度が５〜２，０００ｍｍ2／ｓ、特に５０〜５００ｍｍ2／ｓであることが好ましい。粘度が高すぎると作業性や保存安定性が低下したり、溶剤への溶解性が低下したりすることがある。また、ＧＰＣ測定装置により測定したポリスチレン換算による重量平均分子量は５００〜５，０００、特に８００〜２，０００の範囲であることが望ましい。
本発明においては、このような方法により得られた（Ｂ）成分を（Ａ）成分に被覆するが、表面被覆方法としては、相分離法、液中乾燥法、融解分散冷却法、スプレードライング法、液中硬化法などの公知の方法により処理することにより得ることができる。好ましくは揮発性の溶媒に溶解した（Ｂ）成分のシリコーン系撥水処理剤を（Ａ）成分とブレンドして（Ａ）成分を（Ｂ）成分で被覆した後、溶媒を除去する方法が好ましい。
また、（Ａ）成分である六ホウ化物粒子が凝集していると被覆が十分に行われない部分が残り、後工程で凝集が解れたとき未被覆部が現れて、耐水性が十分に得られないことがある。未被覆部が残ることを防ぐためには、超音波照射や撹拌ミルなどの手段によって、粒子の凝集を液体中で解すことが好ましい。
また、本発明の方法では被覆後、特に加熱しなくても撥水性が付与されるが、（Ａ）成分又は（Ｂ）成分の種類によっては、更に加熱養生してもよい。その場合の加熱温度は５０〜１，０００℃が好ましい。六ホウ化物は酸素が存在する雰囲気では７００℃前後から酸化するため、酸素が存在する雰囲気中で加熱する場合は７００℃以下が好ましい。特に大気中で加熱する場合、５００〜７００℃の範囲が好ましい。また、酸素の存在しない雰囲気での加熱温度の上限は六ホウ化物が分解する温度までであるが、１，０００℃以上になるとシリコーン撥水剤の被膜が壊れる可能性もあるので、１，０００℃以下とすることが工業的に有利である。
なお、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との使用割合は、（Ａ）、（Ｂ）成分の合計量を１００質量％とした場合、（Ａ）成分８０〜９９．８質量％、特に９０〜９７質量％、（Ｂ）成分０．２〜２０質量％、特に３〜１０質量％である。（Ｂ）成分が少なすぎると、耐水性、撥水性が弱くなり、（Ｂ）成分が多すぎると、コスト的に不利になる。
六ホウ化物粒子の粒子径、並びに被覆六ホウ化物粒子の粒子径は、使用目的によって適時最適な粒子径を選択すればよいが、本発明の被覆六ホウ化物粒子を光学部材用途として使用する場合には、粒子による散乱を考慮する必要がある。粒子径が大きいと幾何学散乱若しくはミー散乱により、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線領域の光を散乱して曇りガラスのようになり、鮮明な透明性が得られなくなるからである。また、粒子径が２００ｎｍ以下になると、上記散乱が低減し、レイリー散乱領域になる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子径の６乗に反比例して低減するため、粒子径の減少に伴い散乱が低減して透明性が向上する。更に粒子径が１００ｎｍ以下になると、散乱光は非常に少なくなり、透明性が増すため非常に好ましい。従って、透明性を重視する用途では、粒子径は２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。
上記した本発明の被覆六ホウ化物粒子を液体中に分散させることにより、被膜製造用の分散コーティング剤を得ることができる。分散液の媒質としては、アルコールなどの有機溶剤や、水などを使用することができ、その使用目的に応じて適宜変更可能である。また、基材表面に塗布して膜形成する場合には、バインダーなどを含むことができる。分散コーティング剤の作製方法は、特に限定されないが、被覆六ホウ化物粒子を超音波照射や撹拌ミルなどを用いて液体中に分散させればよい。
この被覆六ホウ化物粒子の分散コーティング剤は、各種光学部材やフィルム等の製造に用いることができる。例えば、分散コーティング剤を基材の表面に塗布して液体を蒸発させることにより、基材表面に被覆六ホウ化物粒子の分子分散膜を備えた膜を作製することができる。膜中に分散した被覆六ホウ化物の粒子表面が被覆されて耐水性が付与されているので、耐水性の向上した粒子分散膜が得られる。
分散コーティング剤中にバインダーを含む場合には、基材表面に塗布して溶媒などを蒸発させた後、バインダーを硬化させることにより、基材との結着性に優れ、表面強度の良好な粒子分散膜を得ることができる。バインダーは用途に合わせて選択可能であり、例えば、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂、熱可塑樹脂などを使用することができる。
また、上記分散コーティング剤又は被覆六ホウ化物粒子そのものを樹脂などに練り込み、成形することによって、フィルム状や板状の光学部材、フィルムを作製することができる。一般的に樹脂に練り込む際には、樹脂の融点付近の温度（２００〜３００℃前後）で加熱混合する。例えば、樹脂と混合した後、そのまま又はペレット化して、押出成形法、インフレーション成形法、溶液流延法、キャスティング法などにより成形する。この時のフィルムや板の厚さは目的によって設定すればよい。
樹脂に対するフィラー量は、光学部材の厚さ、必要とされる光学特性や機械特性に応じて変えることができるが、一般的に樹脂に対して５０重量％以下が好ましい。５０重量％を超えると、フィルム状又は板状をなす部材の強度低下が大きくなるためである。
母体とする樹脂は特に限定されるものではなく、用途に合わせて選択可能であるが、耐候性を考慮するとフッ素樹脂が有効である。更に、フッ素樹脂に比べて低コストで、透明性が高く、汎用性の広い樹脂として、ＰＥＴ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などを用いることもできる。
このようにして得られた光学部材は、可視光線領域を透過し、かつ１，０００ｎｍ付近の光を反射吸収遮蔽する六ホウ化物粒子の特性を利用して、光学フィルターや熱線遮蔽材などとして使用することができる。
光学フィルターの場合、特に１，０００ｎｍ付近の光を反射吸収遮蔽し、３８０〜７８０ｎｍの光を透過する用途では、被覆六ホウ化物粒子において、ホウ素（Ｂ）と金属元素（Ｘ）の元素比Ｂ／Ｘが５〜７であることが好ましく、Ｂ／Ｘ＝６が最も好ましい。これは六ホウ化物特有の電子構造に由来するものであり、特に１，０００ｎｍ付近に自由電子のプラズモン共鳴があるため、この領域の光をブロードに吸収、反射する。
また、３８０〜７８０ｎｍの可視光領域の吸収が少ないため、可視光線領域を透過し、かつ近赤外線を遮蔽する熱線遮蔽材としての用途に適している。例えば、住宅や自動車の窓、温室などに応用すれば、十分な視認性が確保できると同時に、太陽光線中の１，０００ｎｍ付近の近赤外線を有効に遮蔽し、高い断熱効果が得られる。
被覆六ホウ化物粒子の使用量は、求められる特性によって適宜変更可能であるが、上記光学フィルターや熱線遮蔽材として可視光線領域の光を透過して使用する場合には、例えばＬａＢ6においては１ｍ2当たり０.０１ｇ以上で有効な断熱効果が得られる。一般に１ｍ2当たり０.１ｇで約５０％の太陽光線の熱エネルギーを吸収遮蔽することが可能であり、被覆六ホウ化物粒子の少ない使用量で高い断熱効率が得られる。
以下、本発明につき合成例、実施例、参考例及び比較例により具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、下記の例において、粘度は毛細管式粘度計により測定した２５℃における値を示し、重量平均分子量はＧＰＣ測定装置により測定したポリスチレン換算値を示す。また、下記実施例、参考例及び比較例において、平均粒径はレーザー回折散乱法を用いた測定装置（ＬＡ−９１０：堀場製作所（株）製）により測定し、その平均値を示した。
［合成例１］
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー８５ｇ（ダイマー換算で０．３７モル）、メタノール１５４ｇ及び酢酸５．１ｇを入れ、撹拌しているところに水６．８ｇ（０．３７モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン１７．７ｇ（０．０８モル）を滴下した。その後、メタノールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度７１ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤１）８１ｇを得た（重量平均分子量１，１００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は５質量％であった。
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー８５ｇ（ダイマー換算で０．３７モル）、メタノール１５４ｇ及び酢酸５．１ｇを入れ、撹拌しているところに水６．８ｇ（０．３７モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン１７．７ｇ（０．０８モル）を滴下した。その後、メタノールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度７１ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤１）８１ｇを得た（重量平均分子量１，１００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は５質量％であった。
［合成例２］
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー１９９ｇ（ダイマー換算で０．８８モル）、メタノール１２０ｇ及び酢酸１１．８ｇを入れ、撹拌しているところに日産化学工業（株）製スノーテックスＯ（ＳｉＯ2含有量２０％水溶液、平均粒径１０〜２０ｎｍ）１９．８ｇ（水０．８８モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン３８．９ｇ（０．１８モル）を滴下した。その後、メタノールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度４６０ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤２）２０９ｇを得た（重量平均分子量１，０００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は２質量％であった。
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー１９９ｇ（ダイマー換算で０．８８モル）、メタノール１２０ｇ及び酢酸１１．８ｇを入れ、撹拌しているところに日産化学工業（株）製スノーテックスＯ（ＳｉＯ2含有量２０％水溶液、平均粒径１０〜２０ｎｍ）１９．８ｇ（水０．８８モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン３８．９ｇ（０．１８モル）を滴下した。その後、メタノールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度４６０ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤２）２０９ｇを得た（重量平均分子量１，０００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は２質量％であった。
［合成例３］
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー１９９ｇ（ダイマー換算で０．８８モル）、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3７．５ｇ（０．００８モル）、メタノール１２０ｇ及び酢酸１１．８ｇを入れ、撹拌しているところに水（０．８８モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン３８．９ｇ（０．１８モル）を滴下した。その後、アルコールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度１８０ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤３）２０６ｇを得た（重量平均分子量８００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は３質量％であった。
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー１９９ｇ（ダイマー換算で０．８８モル）、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3７．５ｇ（０．００８モル）、メタノール１２０ｇ及び酢酸１１．８ｇを入れ、撹拌しているところに水（０．８８モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン３８．９ｇ（０．１８モル）を滴下した。その後、アルコールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度１８０ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤３）２０６ｇを得た（重量平均分子量８００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は３質量％であった。
［合成例４］
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー１９９ｇ（ダイマー換算で０．８８モル）、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3７．５ｇ（０．００８モル）、メタノール１２０ｇ及び酢酸１１．８ｇを入れ、撹拌しているところに日産化学工業（株）製スノーテックスＯ（ＳｉＯ2含有量２０％水溶液、平均粒径１０〜２０ｎｍ）１９．８ｇ（水０．８８モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン３８．９ｇ（０．１８モル）を滴下した。その後、アルコールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度１６０ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤４）２１０ｇを得た（重量平均分子量７００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は２質量％であった。
冷却管、温度計及び滴下漏斗を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコにメチルトリメトキシシランのオリゴマー１９９ｇ（ダイマー換算で０．８８モル）、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3７．５ｇ（０．００８モル）、メタノール１２０ｇ及び酢酸１１．８ｇを入れ、撹拌しているところに日産化学工業（株）製スノーテックスＯ（ＳｉＯ2含有量２０％水溶液、平均粒径１０〜２０ｎｍ）１９．８ｇ（水０．８８モル）を投入し、２５℃で２時間撹拌した。そこに、３−アミノプロピルトリエトキシシラン３８．９ｇ（０．１８モル）を滴下した。その後、アルコールの還流温度まで加熱して１時間反応後、エステルアダプターにて、内温が１１０℃になるまでアルコールを留去し、粘度１６０ｍｍ2／ｓの薄黄色透明溶液（シリコーン系撥水処理剤４）２１０ｇを得た（重量平均分子量７００）。この溶液中のアルコール残存量（メタノール＋エタノール）は２質量％であった。
［参考例１］
ＬａＢ6１００ｇに、上記合成例１のシリコーン系撥水処理剤１を１０ｇ、エタノールを１００ｇ加え、これらを３０分撹拌した後、減圧下でエタノールを留去し、粉砕器で粉砕して、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
ＬａＢ6１００ｇに、上記合成例１のシリコーン系撥水処理剤１を１０ｇ、エタノールを１００ｇ加え、これらを３０分撹拌した後、減圧下でエタノールを留去し、粉砕器で粉砕して、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
［参考例２］
参考例１のシリコーン系撥水処理剤１をシリコーン系撥水処理剤２とし、その量を５ｇとした以外は参考例１と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
参考例１のシリコーン系撥水処理剤１をシリコーン系撥水処理剤２とし、その量を５ｇとした以外は参考例１と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
［実施例１］
参考例２のシリコーン系撥水処理剤２をシリコーン系撥水処理剤３にした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
参考例２のシリコーン系撥水処理剤２をシリコーン系撥水処理剤３にした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
［実施例２］
参考例２のシリコーン系撥水処理剤２をシリコーン系撥水処理剤４にした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
参考例２のシリコーン系撥水処理剤２をシリコーン系撥水処理剤４にした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
［参考例３］
参考例２のＬａＢ6をＣｅＢ6とした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化セシウム粒子を得た。
参考例２のＬａＢ6をＣｅＢ6とした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化セシウム粒子を得た。
［参考例４］
参考例２のＬａＢ6をＰｒＢ6とした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化プラセオジウム粒子を得た。
参考例２のＬａＢ6をＰｒＢ6とした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化プラセオジウム粒子を得た。
［参考例５］
参考例２のＬａＢ6をＧｄＢ6とした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ガドリニウム粒子を得た。
参考例２のＬａＢ6をＧｄＢ6とした以外は参考例２と同様にして、平均粒径が約２００ｎｍのシリコーン系撥水処理剤被覆六ホウ化ガドリニウム粒子を得た。
［比較例１］
４００ｇのＬａＢ6を、メチルトリメトキシシラン４５３ｇ（ＳｉＯ2換算２００ｇ）と水８００ｇとエタノール８００ｇとに撹拌混合し、これを分散処理して平均分散粒子径を約２００ｎｍとした。この液を真空乾燥機にて６０℃で乾燥し、アルコール溶媒を除去した後、更に５００℃で１２０分加熱を行って、シリカ化合物被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
４００ｇのＬａＢ6を、メチルトリメトキシシラン４５３ｇ（ＳｉＯ2換算２００ｇ）と水８００ｇとエタノール８００ｇとに撹拌混合し、これを分散処理して平均分散粒子径を約２００ｎｍとした。この液を真空乾燥機にて６０℃で乾燥し、アルコール溶媒を除去した後、更に５００℃で１２０分加熱を行って、シリカ化合物被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
［比較例２］
４００ｇのＬａＢ6を、シラン系表面処理剤であるテトラエトキシシラン１３８７．４ｇ（ＳｉＯ2換算４００ｇ）と水８００ｇとエタノール８００ｇとに撹拌混合し、これを分散処理して平均分散粒子径約２５０ｎｍとした。この液を真空乾燥機にて６０℃で乾燥し、アルコール溶媒を除去した後、更に５００℃で１２０分加熱を行って、シリカ化合物被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
４００ｇのＬａＢ6を、シラン系表面処理剤であるテトラエトキシシラン１３８７．４ｇ（ＳｉＯ2換算４００ｇ）と水８００ｇとエタノール８００ｇとに撹拌混合し、これを分散処理して平均分散粒子径約２５０ｎｍとした。この液を真空乾燥機にて６０℃で乾燥し、アルコール溶媒を除去した後、更に５００℃で１２０分加熱を行って、シリカ化合物被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
［比較例３］
４００ｇのＬａＢ6を、シラザン系表面処理剤であるヘキサメチルシラザン２０１．３ｇ（ＳｉＯ2換算１５０ｇ）と水８００ｇとエタノール８００ｇとに撹拌混合し、これを分散処理して平均分散粒子径約２８０ｎｍとした。この液を真空乾燥機にて６０℃で乾燥し、アルコール溶媒を除去した後、更に５００℃で１２０分加熱を行って、シリカ化合物被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
４００ｇのＬａＢ6を、シラザン系表面処理剤であるヘキサメチルシラザン２０１．３ｇ（ＳｉＯ2換算１５０ｇ）と水８００ｇとエタノール８００ｇとに撹拌混合し、これを分散処理して平均分散粒子径約２８０ｎｍとした。この液を真空乾燥機にて６０℃で乾燥し、アルコール溶媒を除去した後、更に５００℃で１２０分加熱を行って、シリカ化合物被覆六ホウ化ランタン粒子を得た。
上記実施例、参考例及び比較例で得られた被覆六ホウ化物粒子並びに被覆処理していない六フッ化物粒子を水に分散させ、疎水化度を評価した。その結果を表１に示す。
＜疎水化度の測定方法＞
（１）５００ｍｌの三角フラスコにサンプル０．２ｇを秤量する。
（２）イオン交換水５０ｍｌを（１）に加え、スターラーにて撹拌する。
（３）撹拌をしたままビュレットよりメタノールを滴下させ、試料の全量がイオン交換水
に懸濁した時の滴下量を定量する。
（４）次式より疎水化度を求める。
疎水化度＝（メタノール滴下量（ｍｌ））×１００／（メタノール滴下量（ｍｌ）＋イオン交換水量（ｍｌ））
（１）５００ｍｌの三角フラスコにサンプル０．２ｇを秤量する。
（２）イオン交換水５０ｍｌを（１）に加え、スターラーにて撹拌する。
（３）撹拌をしたままビュレットよりメタノールを滴下させ、試料の全量がイオン交換水
に懸濁した時の滴下量を定量する。
（４）次式より疎水化度を求める。
疎水化度＝（メタノール滴下量（ｍｌ））×１００／（メタノール滴下量（ｍｌ）＋イオン交換水量（ｍｌ））
また、上記実施例、参考例及び比較例で得られた被覆六ホウ化物粒子並びに被覆処理していない六ホウ化物粒子を六ホウ化物換算で２０質量％、有機高分子分散剤（ポリアクリレート系分散剤 ＥＦＫＡ−４５００（エフカ アディティブズ社製商品名））を３質量％となるように、イソプロピルアルコール中にそれぞれ混合し、分散処理を行って、平均粒径約４００ｎｍの分散液を作製し、この分散液２ｇに、紫外線硬化樹脂ＵＶ３７０１（東亞合成（株）製）５ｇとトルエン７ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を厚み５０μｍのＰＥＴフィルム上にバーコーターを用いて塗布し、７０℃で１分間乾燥して溶媒を蒸発させた後、高圧水銀ランプから紫外線を照射して膜を硬化させた。
これらの膜の可視光透過率、ヘイズ値、６０℃で湿度９０％の環境に１０日間放置した後の可視光透過率を測定し評価を行った。その結果を表２に示す。
また、上記実施例、参考例及び比較例で得られた被覆六ホウ化物粒子並びに被覆処理していない六フッ化物粒子０.０１ｋｇと、ＥＴＦＥ（テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体）樹脂８.７ｋｇとをＶブレンダーにて乾式混合した後、樹脂の溶融温度付近である３２０℃で十分に密閉混合し、この混合物を３２０℃で押出成形して厚み約５０μｍのフィルムを形成した。
これらの膜の可視光透過率、ヘイズ値、６０℃で湿度９０％の環境に１０日間放置した後の可視光透過率を測定し評価を行った。その結果を表３に示す。
ここで可視光透過率とは、波長３８０〜７８０ｎｍ領域の光の透過量を視感度で規格化した透過光量の積算値であり、人の目が感じる明るさを意味する値である。可視光透過率はＪＩＳ Ａ ５７５９に準ずる方法により測定した（ただし、ガラスに貼付せず、膜又はフィルムのみで測定を行った）。
またヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準じて測定した。耐水性の評価は、６０℃で湿度９０％の環境に1０日間放置した後に可視光透過率を測定し、湿度試験前に対する透過率の上昇が２ポイント未満のものを良好、２ポイント以上のものを不良とした。
Claims (7)
- （Ａ）六ホウ化物粒子の粒子表面が（Ｂ）シリコーン系撥水処理剤で被覆されてなる被覆六ホウ化物粒子であって、
（Ａ）六ホウ化物粒子 ８０〜９９．８質量％が、
（Ｂ）（ｉ）下記一般式（１）
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物１００質量部と、
（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物０．５〜４９質量部
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）
で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物０．１〜２０質量部とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
を含むシリコーン系撥水処理剤 ０．２〜２０質量％
で被覆されてなることを特徴とする被覆六ホウ化物粒子。 - 上記共加水分解縮合物が、（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｉｉ）無機酸化物微粒子０．１〜１０質量部と（ｉｖ）成分とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させたものであることを特徴とする請求項１記載の被覆六ホウ化物粒子。
- 上記（Ａ）成分の六ホウ化物粒子がＹ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ及びＣａからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の六ホウ化物であることを特徴とする請求項１又は２記載の被覆六ホウ化物粒子。
- 上記（ｉ）成分の有機ケイ素化合物が、
［ＣＨ3（ＯＲ2）2Ｓｉ］2Ｏ
（式中、Ｒ2は上記と同一である。）
で表されるシロキサンダイマーであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の被覆六ホウ化物粒子。 - 上記（ｉｖ）成分のビス（アルコキシシリル）基含有化合物が、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）6ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）8ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）10ＯＳｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）5Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）7Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）9Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ4Ｆ8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3及び
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｆ12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の被覆六ホウ化物粒子。 - （Ａ）六ホウ化物粒子 ８０〜９９．８質量％に、
（Ｂ）（ｉ）下記一般式（１）
（Ｒ1）a（ＯＲ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 （１）
（式中、Ｒ1は炭素原子数１〜６のアルキル基、Ｒ2は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３で、かつ０．９＜ａ＋ｂ≦４を満足する正数である。）
で示される有機ケイ素化合物１００質量部と、
（ｉｉ）下記一般式（２）
Ｒ3Ｒ4ＮＲ5−ＳｉＲ6 n（ＯＲ21）3-n （２）
（式中、Ｒ21は上記Ｒ2と同一であり、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ互いに同一又は異種の水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ5は炭素原子数１〜１８の２価炭化水素基、Ｒ6は炭素原子数１〜４のアルキル基である。ｎは０又は１である。）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物０．５〜４９質量部
と、
（ｉｖ）下記一般式（３）
（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-kＳｉ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ12）k（ＯＲ22）3-k （３）
（式中、Ｒ12及びＲ22は上記Ｒ1及びＲ2と各々同一であり、Ｙは２価の有機基、−（ＯＳｉ（Ｒ7）2）mＯ−基（式中、Ｒ7は炭素原子数１〜６のアルキル基、ｍは１〜３０の整数である。）又は−Ｒ8−（ＳｉＲ7 2Ｏ）m−ＳｉＲ7 2−Ｒ8−基（式中、Ｒ8は炭素原子数１〜６の２価炭化水素基であり、Ｒ7及びｍは上記と同一である。）であり、ｋは０，１又は２である。）
で示されるビス（アルコキシシリル）基含有化合物又はその部分加水分解物０．１〜２０質量部とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
を含むシリコーン系撥水処理剤 ０．２〜２０質量％
を被覆することを特徴とする被覆六ホウ化物粒子の製造方法。 - 上記共加水分解縮合物が、（ｉ）成分と（ｉｉ）成分と（ｉｉｉ）無機酸化物微粒子０．１〜１０質量部と（ｉｖ）成分とを有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させたものであることを特徴とする請求項６記載の被覆六ホウ化物粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004184400A JP4539824B2 (ja) | 2004-06-23 | 2004-06-23 | 被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004184400A JP4539824B2 (ja) | 2004-06-23 | 2004-06-23 | 被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006008428A JP2006008428A (ja) | 2006-01-12 |
| JP4539824B2 true JP4539824B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=35776079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004184400A Expired - Fee Related JP4539824B2 (ja) | 2004-06-23 | 2004-06-23 | 被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4539824B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019054493A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 住友金属鉱山株式会社 | 日射遮蔽微粒子分散体およびその製造方法、日射遮蔽微粒子含有マスターバッチ、およびそれを用いた日射遮蔽樹脂成形体、日射遮蔽樹脂積層体 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101522801B (zh) | 2006-12-21 | 2011-11-02 | 帝人化成株式会社 | 聚碳酸酯树脂组合物及其成型品 |
| DE102006061057A1 (de) * | 2006-12-22 | 2008-06-26 | Wacker Chemie Ag | Organofunktionelle Silikonharzschichten auf Metalloxiden |
| CN110546107B (zh) * | 2017-05-01 | 2022-12-09 | Ａｇｃ株式会社 | 含六硼化镧的复合粒子的制造方法和成形品的制造方法 |
| JP7513973B2 (ja) | 2020-08-28 | 2024-07-10 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 新規なプラセオジムホウ化物及びその製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002241744A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-08-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 基材処理用水系撥水剤及びその製造方法並びに改質合板又は改質単板積層材の製造方法及び木質繊維板の製造方法 |
| JP2003321218A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-11 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 被覆六ホウ化物粒子及びこれを用いた光学部材 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3104567B2 (ja) * | 1995-03-24 | 2000-10-30 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物及びゴム部品 |
-
2004
- 2004-06-23 JP JP2004184400A patent/JP4539824B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002241744A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-08-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 基材処理用水系撥水剤及びその製造方法並びに改質合板又は改質単板積層材の製造方法及び木質繊維板の製造方法 |
| JP2003321218A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-11 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 被覆六ホウ化物粒子及びこれを用いた光学部材 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019054493A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 住友金属鉱山株式会社 | 日射遮蔽微粒子分散体およびその製造方法、日射遮蔽微粒子含有マスターバッチ、およびそれを用いた日射遮蔽樹脂成形体、日射遮蔽樹脂積層体 |
| KR20200053503A (ko) | 2017-09-15 | 2020-05-18 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 일사 차폐 미립자 분산체 및 그의 제조 방법, 일사 차폐 미립자 함유 마스터배치, 및 그것을 사용한 일사 차폐 수지 성형체, 일사 차폐 수지 적층체 |
| US11512182B2 (en) | 2017-09-15 | 2022-11-29 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Solar radiation shielding fine particle dispersion body and process for producing the same, solar radiation shielding fine particle-containing masterbatch, and solar radiation shielding resin formed body and solar radiation shielding resin laminate using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2006008428A (ja) | 2006-01-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100370984B1 (ko) | 경화성조성물및그의제조방법 | |
| JP5646855B2 (ja) | シリコーン樹脂組成物 | |
| US9856361B2 (en) | Surface-modified metal oxide particle dispersion liquid, method for producing same, surface-modified metal oxide particle-silicone resin composite composition, surface-modified metal oxide particle-silicone resin composite body, optical member and light emitting device | |
| EP2256153B1 (en) | Hydrophilic film | |
| US8173743B2 (en) | Silicone resin composition | |
| JP6443438B2 (ja) | 液状組成物およびガラス物品 | |
| EP2130797B1 (en) | Silica porous body, laminate and composition for optical use, and method for producing silica porous body | |
| TWI726127B (zh) | 光觸媒層合體 | |
| EP2202275A1 (en) | Composition for silicon resin | |
| RU2674057C2 (ru) | Покрывная композиция, способ ее получения и ее применение | |
| KR101523821B1 (ko) | 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 표면 에너지가 조절된 반사 방지 필름 | |
| WO2012141150A1 (ja) | 機能性物品、輸送機器用物品、建築用物品およびコーティング用組成物 | |
| EP2154175A1 (en) | Silicone resin composition containing fine inorganic particles | |
| CN1934139A (zh) | 包含表面改性粒子的可固化组合物 | |
| JP2003277045A (ja) | ６ホウ化物粒子とこの６ホウ化物粒子が分散された分散体および６ホウ化物粒子若しくは分散体を用いた物品 | |
| JP4539824B2 (ja) | 被覆六ホウ化物粒子及びその製造方法 | |
| JP6617699B2 (ja) | ガラス物品 | |
| KR20030043535A (ko) | 다기능성 실리콘 폴리머 코팅제 조성물 | |
| Mosher et al. | Particle-reinforced water-based organic–inorganic nanocomposite coatings for tailored applications | |
| CN115485326A (zh) | 官能化硅石颗粒及其用途 | |
| JP4929835B2 (ja) | 表面被覆六ホウ化物粒子の製造方法 | |
| JP5087783B2 (ja) | 表面被覆六ホウ化物粒子前駆体の製造方法と表面被覆六ホウ化物粒子前駆体、表面被覆六ホウ化物粒子並びにその分散体、および、表面被覆六ホウ化物粒子が用いられた構造体と物品 | |
| JPWO2018096914A1 (ja) | 無機粒子−シロキサン複合物およびその製造方法、並びに無機粒子含有シリコーン組成物 | |
| JP2021182134A (ja) | 防曇性多孔質酸化ケイ素膜およびその製造方法 | |
| JPH07304873A (ja) | プラスチック基材用透明ハードコート膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060615 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090416 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090422 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090605 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100602 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4539824 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100615 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130702 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |