JP4531568B2 - ホウケイ酸ガラス、ホウ酸塩ガラスおよび結晶化ホウ素含有材料を製造する方法 - Google Patents
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Description
本発明は、ホウ素含有材料を製造する方法に関する。特に、本発明は、溶融材料の誘導加熱を用いて、ホウ酸含有低アルカリ材料を製造する方法に関する。
B2O3 15〜75モル%、
SiO2 0〜40モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜25モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 15〜85モル%、
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜20モル%、および
ΣM(I)2O 0.50モル%未満が存在し、かつ
X(B2O3)が0.50より大きく、
上記式中、
X(B2O3)=B2O3/(B2O3+SiO2)、
M(I)=Li、Na、K、Rb、Cs、
M(II)=Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Pb、Cu、
M(III)=Sc、Y、57La−71Lu、Bi、
M(IV)=Ti、Zr、Hf、
M(V)=Nb、Ta、
M(VI)=Mo、W。
B2O3 36〜66モル%、
SiO2 0〜40モル%、
B2O3+SiO2 55〜68モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜2モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 27〜40モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜15モル%が存在し、かつ
X(B2O3)が0.65より大きい。
B2O3 45〜66モル%、
SiO2 0〜12モル%、
B2O3+SiO2 55〜68モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜0.5モル%、
ΣM(II)O 0〜40モル%、
ΣM2(III)O3 0〜27モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 27〜40モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜15モル%。この場合、さらに、B2O3およびSiO2の量的比率は、X(B2O3)が0.78より大きいように選択される。この種の方法では、二価金属イオン、すなわちM(II)、特にMg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Pbが添加される。さらに、このようにして得られる光学ガラスの透過は、溶融材料が強力に着色性であるCuOを全く含有しない場合に改善させることができる。網目修飾成分であるPbOおよびCdOは、有毒作用を有することが知られている。したがって、溶融物の組成においてこれらの構成成分を省くこと、ならびにPbOおよびCdOを含まない組成を選択することが好適であり、場合によっては法的要件となることさえある。
SiO2 1モル%未満、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜25モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 20〜85モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜20モル%が存在し、かつホウ酸塩および酸化ケイ素の量の比が、X(B2O3)が0.90より大きいように選択される、溶融材料の組成が選択される場合、本発明による方法のこの実施形態を用いて、例えばホウ酸塩ガラスだけでなく、結晶ホウ素含有材料、例えば、特にガラスセラミックを製造することが可能である。
B2O3 20〜50モル%、
SiO2 0〜40モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜25モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 15〜80モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜20モル%であり、かつ
X(B2O3)が0.52より大きい組成が、溶融材料に関して選択される。
ΣM(II)Oとして 15〜80モル%であり、および
M2(III)O3として 0〜5モル%であり、かつ
X(B2O3)が0.60より大きい場合にさらに改善され得る。
B2O3 20〜50モル%、
SiO2 0〜40モル%、
Al2O3 0〜3モル%、
ΣZnO、PbO、CuO 15〜80モル%、
Bi2O3 0〜1モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜0.5モル%である組成が、溶融材料に関して選択される。この実施形態では、さらに、その組成は、X(B2O3)が0.65より大きくなるように選択される。
B2O3 20〜50モル%、
SiO2 0〜40モル%、
Al2O3 0〜3モル%、
ΣZnO、PbO、CuO 15〜80モル%、
Bi2O3 0〜1モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜0.5モル%。この場合、ホウ酸塩および酸化ケイ素の量的比率は、好適にはX(B2O3)が0.65より大きくなるように選択される。
装填:1240〜1260℃
精製:1280℃
静置:1240〜1200℃
注入:坩堝中でおよそ1200℃、供給機中でおよそ1100℃。
nd=1.71554 (1.71300)
vd=53.41 (53.83)
ΔPg,F=−0.0084 (−0.0083)
τi(400nm、25mm)=0.972 (0.94)。
1280℃で高周波加熱したスカル坩堝中で溶融。1400℃で白金精製チャンバ中で精製した後、以下の値が得られた:
nd=1.70712 (1.71300)
vd=53.68 (53.83)
ΔPg,F=−0.0084 (−0.0084)
τi(400nm、25mm)=0.965 (0.94)
τi(365nm、25mm)=0.831 (0.72)
Claims (38)
- 構成成分として、少なくとも25モル%の量的比率で、その金属イオンが少なくとも2の原子価を有する、少なくとも1つの金属酸化物を含むホウ素含有溶融材料であって、ホウ酸塩に対する二酸化ケイ素のモル物質量の比が0.5以下である溶融材料を、交流電磁場を用いた装置で直接、誘導加熱する、最大9モル%のアルカリ金属含有量を有するホウ酸塩含有低アルカリ材料を製造する方法において、該装置が、溶融材料が溶融されるスカル坩堝からなり、該スカル坩堝の壁は、互いに間隔をあけて配置された複数の冷却式管からなり、該複数の冷却式管の壁は2mm〜4mmの間隔をもって配置されていることを特徴とする方法。
- 前記溶融体は、高周波場を用いて直接、誘導加熱されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記溶融体は、50kHz〜1500kHzの範囲の周波数の交流電磁場を用いて直接、誘導加熱されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記ホウ酸塩含有低アルカリ材料は、ホウ酸塩含有材料、ホウ酸塩ガラスまたは高ホウ酸含有量のホウケイ酸ガラスを含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融材料中のアルカリ含有化合物の量的比率が2%未満であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融材料中のアルカリ含有化合物の量的比率が0.5%未満であることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記複数の冷却式管が互いに間隔をあけて配置され該複数の冷却式管の壁が2.5mm〜3.5mmの間隔をもって配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記スカル坩堝の前記冷却式管は、前記交流電磁場を放出するための高周波コイルの領域において短絡されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記管は、それぞれ1つの位置で短絡されることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 前記管は、それぞれ前記管の末端で短絡されることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 前記冷却式管は、白金、白金合金またはアルミニウムから作製される管からなることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記スカル坩堝の前記管は、白金または白金合金の層でコーティングされることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 前記スカル坩堝の前記管は、プラスチックでコーティングされることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記プラスチックがフッ素含有プラスチックであることを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- バッチがペレットの形態で添加されることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融物は、前記バッチが溶融されながら攪拌されることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか1項に記載の方法。
- ガスが前記溶融物に吹き込まれることを特徴とする、請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
- バブリング管が前記溶融物に導入され、ガスが該バブリング管のノズルを通して前記溶融物に吹き込まれることを特徴とする、請求項16または17に記載の方法。
- 前記溶融材料は、精製されることを特徴とする、請求項1〜18のいずれか1項に記載の方法。
- 前記バッチは、少なくとも2つの直列接続された装置中で溶融および精製されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 前記バッチは、同じ装置中で溶融および精製されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 前記溶融材料は、前記装置中で不連続的に溶融されることを特徴とする、請求項1〜21のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融材料は、前記装置中で連続して溶融されることを特徴とする、請求項1ないし22のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融材料は、
B2O3 15〜75モル%、
SiO2 0〜40モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜25モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 15〜85モル%、
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜20モル%、および
ΣM(I)2O 0.50モル%未満が存在し、かつ
X(B2O3)が0.50より大きい、
上記式中、
X(B2O3)=B2O3/(B2O3+SiO2)、
M(I)=Li、Na、K、Rb、Cs、
M(II)=Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Pb、Cu、
M(III)=Sc、Y、57La−71Lu、Bi、
M(IV)=Ti、Zr、Hf、
M(V)=Nb、Ta、
M(VI)=Mo、W
である組成を有することを特徴とする、請求項1〜23のいずれか1項に記載の方法。 - 前記溶融物質中の前記B2O3含有量は、15〜75モル%であり、X(B2O3)は0.52より大きいことを特徴とする、請求項24に記載の方法。
- 前記溶融材料中で、B2O3の含有量は20〜70モル%であり、ΣM(II)O、M2(III)O3の含有量は15〜80モル%であり、X(B2O3)は0.55をより大きいことを特徴とする、請求項24または25に記載の方法。
- 前記溶融材料中で、B2O3の含有量は28〜70モル%であり、B2O3+SiO2の含有量は50〜73モル%であり、Al2O3、Ga2O3、In2O3の含有量は0〜10モル%であり、ΣM(II)O、M2(III)O3の含有量は27〜50モル%であり、X(B2O)は0.55より大きいことを特徴とする、請求項24〜26のいずれか1項に記載の方法。
- B2O3 36〜66モル%、
SiO2 0〜40モル%、
B2O3+SiO2 55〜68モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜2モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 27〜40モル%、
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜15モル%が存在し、かつ
X(B2O3)が0.65より大きい組成が、前記溶融材料に関して選択されることを特徴とする、請求項27に記載の方法。 - 光応用のホウ酸塩ガラスおよび高ホウ酸含有量のホウケイ酸ガラスの製造のための請求項1〜28のいずれか1項に記載の方法であって、前記溶融材料は、以下の組成:
B2O3 45〜66モル%、
SiO2 0〜12モル%、
B2O3+SiO2 55〜68モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜0.5モル%、
ΣM(II)O 0〜40モル%、
ΣM2(III)O3 0〜27モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 27〜40モル%、
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜15モル%を有し、かつ
X(B2O3)が0.78より大きい、M(II)=Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Pbであることを特徴とする方法。 - ホウ酸塩ガラスおよび結晶ホウ素含有材料の製造のための請求項1〜29のいずれか1項に記載の方法であって、前記溶融材料は、以下の含有量:
B2O3 30〜75モル%、
SiO2 1モル%未満、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜25モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 20〜85モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜20モル%が存在し、かつ
X(B2O3)が0.90より大きい組成を有することを特徴とする方法。 - 結晶ホウ素含有材料の製造のための請求項1〜30のいずれか1項に記載の方法であって、前記溶融材料は、
B2O3 20〜50モル%、
SiO2 0〜40モル%、
Al2O3、Ga2O3、In2O3 0〜25モル%、
ΣM(II)O、M2(III)O3 15〜80モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜20モル%が存在し、かつ
X(B2O3)が0.52より大きい組成を有することを特徴とする方法。 - X(B2O3)は0.55より大きいことを特徴とする、請求項31に記載の方法。
- 前記量的比率が、
ΣM(II)O 15〜80モル%、および
M2(III)O3 0〜5モル%であり、かつ
X(B2O3)が0.60より大きいことを特徴とする、請求項31または32に記載の方法。 - Al2O3、Ga2O3およびIn2O3からなる群から選択される物質の量的比率は、5モル%を超えないことを特徴とする、請求項31〜33のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融材料に関する前記組成は、Al2O3、Ga2O3およびIn2O3からなる群から選択される物質の量的比率が3モル%を超えず、かつΣM(II)Oの量的比率が15〜80モル%の範囲であり、かつX(B2O3)が0.65より大きく、M(II)=Zn、Pb、Cuであることを特徴とする、請求項31〜34のいずれか1項に記載の方法。
- B2O3 20〜50モル%、
SiO2 0〜40モル%、
Al2O3 0〜3モル%、
ΣZnO、PbO、CuO 15〜80モル%、
Bi2O3 0〜1モル%、および
ΣM(IV)O2、M2(V)O5、M(VI)O3 0〜0.5モル%が存在し、かつ
X(B2O3)が0.65より大きい組成が、前記溶融材料に関して選択されることを特徴とする、請求項1〜35のいずれか1項に記載の方法。 - 物質の量が、
B2O3 20〜42モル%、
SiO2 0〜38モル%、
ΣZnO、PbO 20〜68モル%、
CuO 0〜10モル%、
ΣZnO、PbO、CuO 20〜68モル%、および
Bi2O3 0〜0.1モル%であり、かつ
X(B2O3)が0.65より大きい組成が、前記溶融材料に関して選択されることを特徴とする、請求項36に記載の方法。 - PbOおよびCdOを含まない組成が、前記溶融材料に関して選択されることを特徴とする、請求項1〜37のいずれか1項に記載の方法。
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