JP4525006B2 - 光導波路モジュール - Google Patents
光導波路モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP4525006B2 JP4525006B2 JP2003181787A JP2003181787A JP4525006B2 JP 4525006 B2 JP4525006 B2 JP 4525006B2 JP 2003181787 A JP2003181787 A JP 2003181787A JP 2003181787 A JP2003181787 A JP 2003181787A JP 4525006 B2 JP4525006 B2 JP 4525006B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- optical
- sealing block
- block
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリマ導波路及び熱光学効果を用いる光導波路モジュールの封止構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、シリコンウェハなどの基板上に光導波路を形成して光導波路板を作製し、この光導波路板に光ファイバを接続した光導波路モジュールの製造が行われている。このような光導波路モジュールは、機械的強度の向上と長期信頼性の向上のため、その外側をパッケージで保護される。光導波路モジュールにおいて、光導波路板と光ファイバの接続には、通常、紫外線硬化樹脂が用いられる。従って、光ファイバの保持部品の材料には紫外線を透過しやすいガラスなどが用いられる。また、従来、紫外線硬化樹脂による接続部の強度は、水分の進入により劣化することが知られており、その対策が行われている。
【0003】
光導波路モジュールの耐湿性向上を図るものとして、例えば、光導波路によって構成した光回路チップと、その光回路チップの端面に接着剤を用いて接続した光入力用光ファイバ部品とからなる光導波路モジュールをケースに入れ、その光導波路モジュールとケースとの間に少なくとも2種類の充填剤を積層して封入したものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
図19(a)(b)は、このような2種類の充填剤を封入した、従来の光導波路モジュールを示す。この光導波路モジュールは、1×8スプリッタチップ、1芯用ファイバ部品102、8芯用ファイバ部品103、1芯ファイバ104、8芯テープファイバ105、アルミニウム製ケース106、ゴムブーツ107,107a、水蒸気透過率の低いブチルゴム系のシーラント剤により形成した第1の充填層108、粘性が低い熱硬化性のシリコーンにより形成した第2の充填層109を備えている。この光導波路モジュールは、ケース内に、少なくとも2種類の充填剤を積層して封入することで、光導波路への応力を緩和すると共に、水の侵食を防ぐようになっている。
【0005】
【特許文献1】
特許第3070028号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した図19や特許文献1に示されるように、光導波路モジュールの光回路全体を樹脂等で封止し、ケース内に収納する構造の、従来の耐湿性向上対策は、以下に示す熱光学効果を用いた光導波路モジュールには適用することができない。
【0007】
ここで、熱光学効果を用いた光デバイスについて説明する。図20は熱光学効果を用いた1×2光スイッチを示す。このような熱光学効果型の光スイッチは、熱光学効果によって屈折率が変化するポリマー系材料で形成されたY分岐導波路を用いており、金属薄膜ヒータに通電することにより、Y分岐した一方の導波路の屈折率を変化して光の出力ポートが切り替えられるものである。この光スイッチは、シリコン基板21の上に形成されたY分岐したコア23とクラッド22とからなる光導波路と、光導波路のコア23の上面のクラッド表面にコア23に沿って形成されたヒータ24を有している。
【0008】
この光スイッチのコア23は、加熱により屈折率が低下するいわゆる熱光学効果(TO:Thermo Optic Effect)を有する材料で形成されており、ヒータ24により加熱されたコア23a又はコア23bは、光が導波しないOFF状態となり、光スイッチが実現される。Y分岐したコア23の入射側コア23iから入射した光は、ヒータ24ON/OFFによって、出射側コア23a,23bのいずれかに偏向して導かれ、又は、遮断される。ヒータ24は、例えば幅10μm、厚さ0.2μmの金(Au)線により形成される。
【0009】
このような熱光学効果を用いた光導波路モジュールの場合、ヒータ及び導波路部に樹脂、またはガラス等の封止材が接触すると、コアを加熱するための熱が封止材側に逃げてしまい、熱効率の悪化、消費電力の上昇、応答性の低下などが引き起こされる。ヒータ部分を外部に露出する構造とすると、露出部位より光回路に水分が浸透してコアの光学特性に悪影響を及ぼし、光効率の低下を招くことになる。
【0010】
本発明は、上記課題を解消するものであって、簡単な構成により、導波路チップの特性を低下させることなく耐湿性の向上を実現できる、ポリマ導波路及び熱光学効果を用いる光導波路モジュールを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
上記課題を達成するために、請求項1の発明は、シリコン基板、前記シリコン基板の片側表面に配置されたクラッド、端面以外の部位で前記クラッドに覆われ端面で入出射する光を内部で導波させるコア、及び前記クラッド表面に配置され前記コア内部に導波した光を減衰又は偏向制御するためのヒータを備えた光導波路板と、前記クラッドにおけるシリコン基板が位置する側と反対側の表面を覆い、前記クラッドに面する側に凹部を有し、前記ヒータの上部に前記凹部による密閉空間となる空洞を形成する状態で前記クラッドに接合される封止ブロックと、前記光導波路板の端面で前記コアの端面と光学的に結合する光ファイバ、及び前記光ファイバを固定し前記光導波路板の端面を覆うように接合される光ファイバ固定ブロックを有する光ファイバアレイと、前記クラッドにおける前記封止ブロックが位置する側と同じ側の表面に接着され、前記端面と共にダイシングされて端面処理された補強ブロックと、を備え、前記端面及び前記補強ブロックは前記コアの両端にあって、その補強ブロックの間に前記封止ブロックが嵌合するように配置されている光導波路モジュールである。
【0012】
上記構成においては、ヒータが位置している部位の近傍(ヒータの上部)に空洞を形成する状態でクラッドに接合される封止ブロックを用いて光導波路板の表面を封止するので、光導波路板の耐湿性を向上させることができると共に、ヒータ上部の空洞からなる熱抵抗によりヒータで発生した熱の逃げを抑制でき、導波路チップの特性を低下させることなく熱効率良くコアによるスイッチング動作を実現できる。
【0015】
請求項2の発明は、請求項1に記載の光導波路モジュールにおいて、前記封止ブロックは、前記空洞部と外部とを連通させるための連通孔を有し、その連通孔は前記封止ブロックが前記クラッドに接合された後に封止されるものである。
【0016】
上記構成においては、封止ブロックが空洞部と外部との連通孔を有しているので、光導波路板と封止ブロックを接合する際に発生するガスを排出することができ、接合時の不具合発生を防止できると共に、接合に際して熱を負荷する場合においては、空洞内の空気が熱膨張して接合強度を低下させるのを防止する。
【0017】
請求項3の発明は、請求項1に記載の光導波路モジュールにおいて、前記封止ブロック及び光ファイバ固定ブロックが、透明な材質の部材で構成されているものである。
【0018】
上記構成においては、封止ブロック及び光ファイバ固定ブロックが透明なので、内部のコア及び光ファイバが可視化され、目視又は撮像により確認しながらの作業が可能となり、コアと光ファイバの調芯作業が容易となる。
【0019】
請求項4の発明は、請求項1に記載の光導波路モジュールにおいて、前記シリコン基板及び光ファイバアレイの下にモジュール基板を配設し、前記モジュール基板に接合される金属又はガラス材質のカバーにより前記光導波路板と封止ブロックと光ファイバアレイとを覆って封止したものである。
【0020】
上記構成においては、モジュール基板とカバーによりさらに封止するので、二重封止構造となり、耐湿性がさらに向上する。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態に係る光導波路モジュールについて、図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施形態に係る光導波路モジュールの構成要素を示す。光導波路モジュール1は、導波路板20、導波路板20の導波路を封止する封止ブロック30と補強ブロック32、導波路板の前後に接続される光ファイバアレイ40を備えている。導波路板20は、シリコン基板21、シリコン基板21の片側表面に配置されたポリマからなるクラッド22、端面以外の部位で前記クラッド22に覆われ端面で入出射する光を内部で導波させるポリマからなるコア23、及びクラッド22の表面に配置されコア23内部に導波した光を減衰又は偏向制御するためのヒータ24を備えている。この例で示す導波路板20は、4つのY分岐導波路を有する4×8TOスイッチを構成する。従って、コア23は光入射側で4本、光出射側で8本であり、TO効果(熱光学効果)による制御のためのヒータ24が8本設けられている。
【0022】
また、補強ブロック32が光導波路板20の長手方向の両端の表面(導波路側の面)に備えられている。この補強ブロック32は、コア23の歪みのない端面形状の形成、光導波路板20の機械的強度保持、光ファイバアレイ40との接合強度保持などの役割を有する。この補強ブロック32の間に封止ブロック30が配置されて、導波路板20の光導波路部(クラッド、コア、及びヒータ)が封止される。
【0023】
封止ブロック30は、前記ポリマからなる導波路に面する側に凹部31を有しており、封止ブロック30が導波路板に接合された状態で密閉した空洞が形成され、光導波路板のコア23部分及びヒータ24部分には封止ブロックは接触しないようになっている。このため、光導波路板の耐湿性を向上させることができると共に、ヒータ24上部の空洞からなる熱抵抗によりヒータで発生した熱の逃げを抑制でき、導波路チップの特性を低下させることなく熱効率良くコア23を加熱することができる。
【0024】
また、光ファイバアレイ40は、光導波路板20の端面でコア23の端面と光学的に結合される光ファイバ41、及び光ファイバ41を固定し光導波路板20の端面を覆うように接合される光ファイバ固定ブロック42、43を備えている。光ファイバ41は、所定の横方向間隔で並べられ、上下の光ファイバ固定ブロック42、43に挟まれて固定され、また、接着剤44により固着されている。
【0025】
封止ブロック30によって封止された状態の光導波路板20(以下、封止光導波路板と呼ぶ)の寸法や材質についてさらに説明する。図2は封止光導波路板50の外観、及び光導波路を横切る方向の断面を示す。この封止光導波板50は、長さ寸法dが20mmであり、幅寸法wが4.5mmである。光分岐前において、図2(b)のA−A断面に示すように、コア23が4ヶ所ある。また、光分岐後では、図2(c)のB−B断面に示すように、コア23が8ヶ所あり、それぞれのコア23の真上にON/OFF切替用のヒータ24が配置されている。
【0026】
シリコン基板21の厚み寸法d1は0.525mmであり、クラッド22の厚み寸法d2は30μmである。コア23は断面が1辺7μmの正方形をしており、そのコア23の上面を覆うクラッド(上部クラッド層)の厚み寸法d3は10μmである。すなわち、コア23は、厚みd3=10μmを介して、ヒータ24により加熱される。ヒータ24は、幅10μm、厚さ0.2μmの金(Au)線により構成されている。
【0027】
また、封止ブロック30と光導波路板20との接合は、接着剤層22aにより行われており、その材質はクラッド部と同じ材質のもであり、厚みは約10μmである。封止ブロック30の材料として、例えばパイレックス(登録商標)ガラスが用いられる。
【0028】
次に、光導波路板20の製造から光モジュール1の製造まで製造工程に沿って説明する(図3乃至図9)。まず、シリコン基板素材28上に光導波路が形成される。図3は多数個の光導波路板20を一括して形成した光導波路ウエハ27を示す。光導波路ウエハ27は、例えば、シリコン基板素材28の表面に、リソグラフィ技術や薄膜形成技術を用いて、光導波路のクラッド22、コア23、及び光スイッチ用のヒータ24等を形成したものである。図示された光導波路ウエハ27は、26個の光導波路板20が得られる構成になっている。
【0029】
さらに詳細に説明すると、シリコン基板素材28は、単結晶基板であり、その結晶の劈開面、例えば結晶方位(1、0、0)面に平行な方向に切り欠き29、いわゆるオリフラ(オリエンテーションフラット)を有するシリコン基板が好適に用いられる。シリコン基板の結晶方位の切り欠きは、シリコン基板に鋭利な刃物で傷をつけ、衝撃を加える等の方法により容易に形成できる。このような切り欠き29の方向を基準にして、シリコン基板素材28上にポリマ光導波路を形成し、切り欠き29に平行な方向の光導波路板20を作製する。光導波路を構成するポリマ材料としては、フッ素を含むポリイミド系樹脂が、フッ素を含まないものに比べ光の透過性が高く屈折率が低い等の特徴を有することから、好適に用いられる。例えば、特開平4−235506号公報に示されているように、表面が酸化シリコン膜で被覆されたシリコン基板の上に屈折率の異なる2種類のフッ素を含むポリイミド膜を形成してパターニングを行い光導波路を作製する。
【0030】
続いて、光導波路ウエハ27の表面に補強ブロック素材の位置決めが行われる。図4は補強ブロック素材32aの位置決め方法を示す。補強ブロック32を有する光導波路板20を一括して作製するため、後工程で切断される長尺の補強ブロック素材32aを光導波板20の光入射及び光出射部付近の光導波路ウエハ27の表面に位置決めして接着する。
【0031】
位置決めは、位置決めブロック60を用いて行われる。この位置決めブロック60は、光導波路ウエハ27の外周形状と嵌合する内部形状の位置決め部位61、62を有し、さらに各補強ブロック素材32aの端部形状のそれぞれに嵌合する内部形状の位置決め部位63を有している。更に、補強ブロック素材32aの間に、光導波路のパターンを覆うように、追加の位置決めブロック64を配置しても良い。この追加の位置決めブロック64の材質として、密着性確保とUV照射時の保護の効果をかねて、有色不透明のシリコンゴムを利用することが望ましい。補強ブロック素材32aは、石英やパイレックス(登録商標)ガラス等の光学ガラスが用いられる。
【0032】
補強ブロック素材32aの接着のために、まず、光導波路形成面を上にした光導波路ウエハ27を位置決めブロック60の位置決め部位61により形成された凹部に載置する。このとき、光導波路ウエハ27の切り欠き29と位置決め部位62とにより光導波路ウエハ27の回転方向の位置が固定される。
【0033】
そして、補強ブロック素材32aの接着面に、例えば、接着剤としてUVO−114(エポキシテクノロジー社製)等のUV硬化性接着剤(エポキシ系)を塗布して、位置決めブロック60に載置された光導波路ウエハ27の表面上に、接着面を下にして載置する。このとき、各補強ブロック素材32aは、位置決め部位63によって所定の位置に位置決めされる。
【0034】
続いて、補強ブロック素材32aの平面度保持のための処置が行われる。図5は平面板65による平面出しを示す。位置決めブロック60に嵌合する外周形状を有する平面板65を、補強ブロック素材32aの上面に設置する。平面板65の材質は、UV光透過性の石英やパイレックス(登録商標)ガラス等の光学ガラスが用いられる。補強ブロック素材32aに押し付ける側の平面板65の平面度は20μm以下である。
【0035】
続いて、補強ブロック素材32aが固着される。図6は補強ブロック素材32aの固着の様子を示す。平面板65を補強ブロック素材32aの上面に設置した状態でその上方から紫外線ランプLの紫外線UVを照射し、補強ブロック素材32aを光導波路ウエハ27の表面(ポリマ導波路)に固着する。接着剤としてUVO−114を用いる場合、例えば照射強度100mW/cm2、照射時間1分の条件でUV光を照射することにより、補強ブロック素材32aとポリマ導波路を固着することができる。また、このときの各補強ブロック素材32a間の平面度は平面板65の平行度と同じ20μm以下となる。
【0036】
続いて、光導波路ウエハ27からの光導波路板20の切出し(ダイシング)が行われる。図7はダイシングの様子を示す。補強ブロック素材32aが固着した光導波路ウエハ27の光導波路の形成されていないシリコン基板面を下にして、UVテープ66に固定する。このUVテープ66は強力な粘着力を有し、またUV光を照射すると粘着力が急激に弱くなる性質を持った粘着テープであり、シリコン基板28の切削加工中には強力な粘着力で基板を確実に固定し、加工終了後にはUV光照射により粘着力を弱めて容易に剥離することができる。
【0037】
光導波路ウエハ27の光導波路のパターン等を基準にしながら固定された光導波路ウエハ27をダイサ67を用いてダイシングして、補強ブロック32を備えた状態の光導波路板20の切出しを行う。ダイシングには、例えば、ブレード#800を用い、回転速度30,000rpm、送り速度2mm/sec以下の条件とすることで補強ブロック32及び光導波路板20のチッピング発生を抑制して切出しを行うことができる。この結果、切削面における表面粗さは30nm以下となる。また、光導波路板20の両端面を研磨した場合、表面粗さを5nm以下まで小さくできる。
【0038】
続いて、光導波路板20への封止ブロック30の固着が行われる。図8は封止ブロック30による導波路面の封止の様子を示す。封止ブロック30は、図8(a)に示すように、補強ブロック32の間に嵌合する外形寸法を有し、また、その内部には凹部31を有する。別途製作されたこのような封止ブロック30を、UV硬化接着剤、又は熱硬化接着剤により、光導波路板20の導波路面側に固着する。封止ブロック30の側面には、その内部空間を外部に連通させる連通孔11が設けられており、固着工程の際の空洞内の気体の熱膨張による固着不具合の発生を防ぐことができる。
【0039】
この連通孔11は封止ブロック30の固着が完了した時点で樹脂12によって封止される。すなわち、内部空間部と連通する孔にUV硬化接着剤を滴下し、UV照射により連通孔を封止する。その際、UV光照射による熱膨張が生じないように、例えば約5mW/cm2のUV照射強度で15分間の照射が行われて固着される。
【0040】
また、封止ブロック30は、図8(b)(c)に示すように、その幅aが、光導波路板20の幅bよりも狭く形成されており、光導波路板20のヒータへ通電するための電極25が封止ブロック30の側面に現れるようになっている。以上に説明した光導波路モジュール1の光回路板20では、補強ブロック32を光回路板の両端に別途設ける場合の製作工程を示したが、後述するように、封止ブロック30が補強ブロックを兼ねるようにすることもできる。封止ブロック30が補強ブロック32を兼ねるようにする場合、製造工程が減少して作業性が向上する。
【0041】
続いて、光導波路板20に光ファイバアレイ40が接合される。図9は光導波路板20と光ファイバアレイ40との接合の様子、及び接合されてできあがった光導波路モジュールを示す。光導波路板20への光ファイバアレイ40の接合において、光導波路板20のコア23と光ファイバアレイ40の光ファイバ41のコアとを光結合させるための光ファイバ調芯の工程が重要である。加工精度及び調芯精度の不具合によりコア間の位置ずれが1μm存在すると0.2dBの光伝達損失が発生ことになる。調芯機(自動・手動)を用いて光軸調芯が行われる。
【0042】
コア間の調芯が済むと、光ファイバアレイ40と光導波路板20とが固着される。固着は、UV硬化接着剤及び紫外線ランプLからのUV光を用いて行われる。UV硬化接着剤UVO−114(Epo−Tek)を用いる場合、下記条件によってUV光を照射することにより、光ファイバレイ40と光導波路板20との固着が完了する。すなわち、照射条件は、照射強度100mW/cm2、照射時間1分間である。以上で、光導波路モジュール1の製造についての一連の説明は終わる。
【0043】
次に、前記光導波路モジュールの実装について説明する。図10乃至図12はモジュール基板への実装と二重封止された光導波モジュールを示す。まず、図10(a)に示すように、光導波路モジュール1が、金属等の耐湿材質のモジュール基板70に、例えば、熱伝導性の接着剤を用いて接合される。光導波路モジュール1のヒータ電極と給電のための端子ピン71とは、ワイヤーボンデイング等によって電気接続される。
【0044】
続いて、封止ブロック30と光導波路板20との固着部の側面73、及び光ファイバレイ40と光導波路板20との固着部の側面74が耐湿性樹脂により封止される。これにより、光導波路板20の導波路を形成するポリマ層が電極取り出しのため側面で露出していた部分が封止され、ポリマ露出部分が完全に封止されるので、耐湿熱性が向上する。
【0045】
続いて、入出力用の光ファイバを除く光導波路モジュールの全体が、図10(c)に示すように、金属又はガラス材質等の耐湿材質のカバー75とモジュール基板70とで覆われ、さらにカバー75とモジュール基板70の接合部分の隙間を封止剤で封止して二重封止状態とされる(図11)。このように、二重封止構造とすることにより、耐湿性が更に向上する。また、図11(a)に示すように、カバー75から光ファイバ41取り出す部分における光ファイバ41の被覆を除去し、図11(b)に示すように、除去部46の部分で光ファイバ41を封止樹脂76により樹脂封止する。これにより光ファイバの被覆からの透湿を防止でき、耐湿熱性が向上する。
【0046】
上述により二重封止された光モジュールは、図12に示すような断面構造になっている。耐湿材質のモジュール基板70とカバー75によって光導波路モジュールが封止されているため、モジュール基板70とカバー75の封止樹脂77、及びその封止厚み寸法c、さらに、前記光ファイバ出入り部分における封止を万全とすることで耐湿性が向上する。封止厚み寸法cは、例えば2mmとされる。この場合の耐湿試験について後述される。
【0047】
次に、封止ブロックの他の形状の3つの例を説明する(図13,図14、図15)。これらの3つの封止ブロックは、前出のものと異なり、補強ブロックを兼ねた構造をしている。従って、補強ブロックの長手方向寸法と、光導波路板の長手寸法は等しくなっている。また、これらの全てが、導波路を封止した状態で、ヒータ及びコアの部分で空洞が形成されるようになっている。この空洞の効果について再度述べると、ヒータ上部の空洞からなる熱抵抗によりヒータで発生した熱の逃げを抑制でき、導波路チップの特性を低下させることなく熱効率良くコアによるスイッチング動作を実現できる。また、コアの上に封止ブロックの空洞が配置され、従って導波路上に物体が配置されないことにより、光学ガラス(屈折率調整品)が不要であり、また光学接着剤(屈折率調整品)が不要という効果がある。また、コアの上部には封止樹脂が配されないため、光が導波する際には封止層の影響を受けることがなく、導波光に歪等が生じない。
【0048】
まず、第1番目の図13に示す封止ブロック30は、幅方向寸法が光導波路板20よりも大きいものである。その断面形状は、図13(a)(b)に示すように、略コの字型をしており、コの字状の凹部37に光導波路板20が嵌合するようになっている。そのコの字状の凹部37の中央付近に凹部31が形成されており、光導波路板20のポリマ導波路部を封止したときに、前述の封止ブロックと同様に、ヒータ部近傍に密閉した空洞31が形成されるようになっている。
【0049】
この封止ブロック30は、光導波路板20よりも幅が広いため、ヒータ通電用の電極への電気接続のために、封止ブロック側面に電極を臨むための刳り貫き開口36が設けられている。
【0050】
また、この封止ブロック30は、光導波路板20の側面を覆うように光導波路板20を封止するので、光導波路板20のポリマによる導波路部分の全体が覆われて、耐湿性が向上する。外気と連通する空間である刳り貫き36の部分のポリマは、電極を形成する金属層で保護されている。
【0051】
続いて、第2番目の図14に示す封止ブロック30は、最初に図1において説明した、補強ブロック32を有する場合の封止ブロック30から、補強ブロック32を用いないようにして、その分長くしたものとなっている。この封止ブロック30の幅aは、前述のように、ヒータの電極25の部分が外部に出るように光導波路板20の幅bよりも狭くなっている。また、この封止ブロック30を用いると補強ブロック32の部品点数が減るため、図1に示すものに比べてより少ない工程で製造することができる。その他の点については、上述のいずれかと同じである。
【0052】
最後の、第3番目の図15に示す封止ブロック30は、その幅が光導波路板20の幅と同じものである。従って、ヒータへの電流供給のために、電極25部分だけが封止ブロックから臨まれるように刳り貫き開口38が設けられている。この構造の封止ブロック30は、前出の第1番目の封止ブロックに比べて刳り貫き開口38がより浅く、単純になっており、その分製作が容易である。
【0053】
次に、補強ブロックについて、又は耐湿性向上のための封止ブロックがこれを兼ねて補強ブロックを構成しているものについて、その補強ブロックの効果を説明する。図16は光導波路板20の端面処理における補強ブロックの効果を示している。光導波路板20の端面処理は、光ファイバアレイの光ファイバのコアと導波路板20のコア23とを光損失なく光結合させるために重要である。封止ブロック30を固着した状態で端面処理(ダイシング、垂直面出し、及び端面研磨)した光導波路板20は、図16(a2)に示すように、端面Qから放出される光を観測した場合、透明なクラッド22及びその上部に光81が見られ、不透明のシリコン基板21側には光は観測されない。
【0054】
ところが、封止ブロックなしで端面処理した光導波路板20は、図16(b2)に示すように、本来不透明のシリコン基板21側にも光82が観測される。これは、この後者の場合、端面処理において、ポリマ導波路板の部分が加工時に損傷を受けることによって、光の出射方向が広がり、光が多方面に散乱されるからである。それに対して、前者の光導波路板20は、封止ブロック30が、シリコン基板との間にポリマ層を剛体的に挟み込んだ状態で加工(ダイシング等)するようになるので、ポリマ層の加工歪みを低減でき、従って端面からの出射光の歪が抑制される。
【0055】
次に、封止ブロックに設けられる連通孔について説明する。図17は封止ブロックの連通孔の形状と封止状態を示す。このような連通孔13(及び図1における連通孔11)は、封止ブロックの固着時における空洞内のガス抜きが目的であり、最終的に、固着終了時に連通孔をUV硬化樹脂や半田で固着して空洞が気密封止される。図1に示した横穴式の連通孔11と異なり、図17に示すように封止ブロック30の上部に設けた連通孔13に対して上部から封止をする場合、図17(a)〜(c)に示すザグリ状の連通孔13や図17(d)に示す逆円錐形状の連通孔13が用いられる。このように、連通孔13の下部の径が絞られていて、管路抵抗が付与されていると、硬化前のUV硬化樹脂12や半田が垂れ落ちにくく好適である。図17(c)に示すように、連通孔13の開口がザグリ14を有し、その下部が管路抵抗の大きい細孔15からなる場合、UV硬化樹脂の溜まりを確実に設けられ、樹脂量が管理できるため気密の信頼性が向上する。また、このザグリ14を有する連通孔13は、図17(d)に示す斜面16を有する円錐形状の連通孔13よりも、自重によるUV硬化樹脂の垂れ落ちが生じにくいという利点がある。
【0056】
次に、光導波路モジュールの恒温高湿槽(85℃、85%RH)連続投入試験の結果について説明する。図18は投入時間t(時間)の経過に対する光損失増加量α(dB)で表した耐湿評価試験結果である。折れ線eは、図1乃至図12で説明した二重封止された光導波モジュールに対する試験結果である。また、折れ線dは、光導波路板への封止ブロックによる封止を行わずにモジュール基板とカバーによる封止だけを行った光導波モジュールに対する試験結果である。この結果は、本発明に係る封止ブロックを用いて二重封止を行った光導波路モジュールの光損失増加量αが、封止ブロックによる封止を行わない光導波路モジュールの光損失増加量αよりも少なく、明らかに封止ブロックによる耐湿効果があることを示している。
【0057】
以上説明した光導波路モジュールにおいて、封止ブロックの全て、及び光ファイバアレイについて、これらを透明な材質の部材、例えばガラスで構成することができる。封止ブロック及び光ファイバ固定ブロックを透明部材で構成すると、内部のコア及び光ファイバが可視化され、目視又は撮像により確認しながらの作業が可能となり、コアと光ファイバの調芯作業が容易となる。
【0058】
なお、本発明は、上記構成に限られることなく種々の変形が可能である。例えば、上述の実施例において、封止ブロックは光導波路板と接合することにより密閉された空洞を形成するが、封止ブロックと光導波路板と光ファイバアレイとを接合して初めて密閉された空洞が形成される構成であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係る光導波路モジュールの分解斜視図。
【図2】 (a)は同上光導波路モジュールの封止導波路板の斜視図、(b)は(a)におけるA−A断面図、(c)は(a)におけるB−B断面図。
【図3】 同上光導波路モジュールの製造工程におけるシリコンウエハ上の光導波路板の斜視図。
【図4】 同上製造工程におけるシリコンウエハ上の光導波路板への補強ブロック素材の位置決めを説明する斜視図。
【図5】 同上製造工程における光導波路板への補強ブロック素材の位置決めを説明する斜視図。
【図6】 同上製造工程における光導波路板への補強ブロック素材の接着を説明する斜視図。
【図7】 同上製造工程におけるシリコンウエハからの光導波路板のダイシングを説明する斜視図。
【図8】 (a)は同上製造工程における補強ブロックを付けた光導波路板への封止ブロック接合を示す斜視図と封止ブロックのC−C断面図、(b)は(a)における接合の結果を示す封止光導波路板の斜視図、(c)は同封止光導波路板の斜視図と一部破断正面図。
【図9】 (a)は同上製造工程における封止光導波路板と光ファイバアレイの固着の様子を説明する斜視図、(b)は同上製造工程により製造された光導波路モジュールの斜視図。
【図10】 (a)は本発明の一実施形態に係る光導波路モジュールをモジュール基板に配設した斜視図、(b)は(a)における光導波路モジュールの接合部に封止樹脂を施した斜視図、(c)は(b)における光導波路モジュールをカバーで覆う様子を示す斜視図。
【図11】 (a)は本発明の一実施形態に係る光導波路モジュールをモジュール基板とカバーで封止する様子を示す斜視図、(b)は(a)における封止により完成した二重封止構造の光導波路モジュールの斜視図。
【図12】 同上二重封止構造の光導波路モジュールの断面図。
【図13】 (a)は本発明の一実施形態に係る他の封止ブロックによる光導波路板の封止の様子を示す斜視図及び断面図、(b)は(a)において製造された封止光導波路板の斜視図。
【図14】 (a)は本発明の一実施形態に係るさらに他の封止ブロックによる光導波路板の封止の様子を示す斜視図及び断面図、(b)は(a)において製造された封止光導波路板の斜視図。
【図15】 (a)は本発明の一実施形態に係るさらに他の封止ブロックによる光導波路板の封止の様子を示す斜視図及び断面図、(b)は(a)において製造された封止光導波路板の斜視図。
【図16】 (a1)は本発明の一実施形態に係る封止光導波路板の端面処理の様子を示す斜視図、(a2)は(a1)に示す端面処理がなされた封止光導波路板による光散乱を示す図、(b1)は本発明の一実施形態に係る光導波路板の他の端面処理の様子を示す斜視図、(b2)は(b1)に示す端面処理がなされた光導波路板による光散乱を示す図。
【図17】 (a)は本発明の一実施形態に係る封止ブロックの連通孔を示す斜視図、(b)は(a)における連通孔部分の断面図、(c)(d)は連通孔の形状と封止状態を示す断面図。
【図18】 本発明の一実施形態に係る光導波路モジュールの耐湿試験結果を示すグラフ。
【図19】 (a)は従来の耐湿封止技術を説明する光導波路モジュールの軸方向断面図、(b)は同光導波路モジュールの軸種直方向断面図。
【図20】 従来、及び本発明の一実施形態に係る1×2TOスイッチの概念を説明する斜視図。
【符号の説明】
1 光導波路モジュール
20 光導波路板
21 シリコン基板
22 クラッド
23 コア
24 ヒータ
30 封止ブロック
31 凹部(空洞)
40 光ファイバアレイ
41 光ファイバ
42、43 光ファイバ固定ブロック
50 封止光導波路
70 モジュール基板
75 カバー
Claims (4)
- シリコン基板、前記シリコン基板の片側表面に配置されたクラッド、端面以外の部位で前記クラッドに覆われ端面で入出射する光を内部で導波させるコア、及び前記クラッド表面に配置され前記コア内部に導波した光を減衰又は偏向制御するためのヒータを備えた光導波路板と、
前記クラッドにおけるシリコン基板が位置する側と反対側の表面を覆い、前記クラッドに面する側に凹部を有し、前記ヒータの上部に前記凹部による密閉空間となる空洞を形成する状態で前記クラッドに接合される封止ブロックと、
前記光導波路板の端面で前記コアの端面と光学的に結合する光ファイバ、及び前記光ファイバを固定し前記光導波路板の端面を覆うように接合される光ファイバ固定ブロックを有する光ファイバアレイと、
前記クラッドにおける前記封止ブロックが位置する側と同じ側の表面に接着され、前記端面と共にダイシングされて端面処理された補強ブロックと、を備え、
前記端面及び前記補強ブロックは前記コアの両端にあって、その補強ブロックの間に前記封止ブロックが嵌合するように配置されていることを特徴とする光導波路モジュール。 - 前記封止ブロックは、前記空洞部と外部とを連通させるための連通孔を有し、その連通孔は前記封止ブロックが前記クラッドに接合された後に封止されることを特徴とする請求項1に記載の光導波路モジュール。
- 前記封止ブロック及び光ファイバ固定ブロックが、透明な材質の部材で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路モジュール。
- 前記シリコン基板及び光ファイバアレイの下にモジュール基板を配設し、前記モジュール基板に接合される金属又はガラス材質のカバーにより前記光導波路板と封止ブロックと光ファイバアレイとを覆って封止したことを特徴とする請求項1に記載の光導波路モジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003181787A JP4525006B2 (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 光導波路モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003181787A JP4525006B2 (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 光導波路モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005017648A JP2005017648A (ja) | 2005-01-20 |
JP4525006B2 true JP4525006B2 (ja) | 2010-08-18 |
Family
ID=34182382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003181787A Expired - Fee Related JP4525006B2 (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 光導波路モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4525006B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006322999A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Matsushita Electric Works Ltd | 光導波路モジュール |
JP2007293131A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 光導波路ユニットおよび光導波路モジュール |
WO2009066728A1 (ja) * | 2007-11-20 | 2009-05-28 | Rohm Co., Ltd. | 光制御装置、半導体ウェハ及び光制御システム |
WO2017094629A1 (ja) * | 2015-12-02 | 2017-06-08 | 京セラコネクタプロダクツ株式会社 | 光導波路基板及びその製造方法、光コネクタシステム、並びにアクティブ光ケーブル |
JP2021043263A (ja) | 2019-09-06 | 2021-03-18 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光変調装置及び光変調装置の製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0588041A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバの光学接続回路 |
JPH05341143A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-24 | Hitachi Cable Ltd | 表面実装型双方向伝送用モジュール |
JPH0667041A (ja) * | 1991-08-05 | 1994-03-11 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波回路モジュールおよび該モジュールを有する導波型光部品 |
JPH0735955A (ja) * | 1993-07-19 | 1995-02-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 平面型回路用実装部品 |
JPH0961651A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ハイブリッド光集積回路 |
JPH10253856A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Kyocera Corp | 光伝送モジュール用パッケージならびに光伝送モジュール |
JP2003043428A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Fujikura Ltd | 熱光学効果光部品 |
-
2003
- 2003-06-25 JP JP2003181787A patent/JP4525006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0667041A (ja) * | 1991-08-05 | 1994-03-11 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波回路モジュールおよび該モジュールを有する導波型光部品 |
JPH0588041A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバの光学接続回路 |
JPH05341143A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-24 | Hitachi Cable Ltd | 表面実装型双方向伝送用モジュール |
JPH0735955A (ja) * | 1993-07-19 | 1995-02-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 平面型回路用実装部品 |
JPH0961651A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ハイブリッド光集積回路 |
JPH10253856A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Kyocera Corp | 光伝送モジュール用パッケージならびに光伝送モジュール |
JP2003043428A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Fujikura Ltd | 熱光学効果光部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005017648A (ja) | 2005-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4502323B2 (ja) | 光学装置 | |
JP4050402B2 (ja) | 光電子装置およびその製造方法 | |
US20040184702A1 (en) | Optical waveguide device, manufacturing method thereof, and optical communication apparatus | |
JPH08286074A (ja) | 光ファイバ・アレーを光集積回路アッセンブリと整合するための機器と方法 | |
KR20070024440A (ko) | 광도파로 기판 및 그 제조 방법 | |
JPH08286069A (ja) | 光ファイバ・アレー/光集積回路接続アッセンブリと、接続アッセンブリを保護するためのエンクロージャ | |
JPH11326641A (ja) | 光ファイバ波長フィルタおよびその製造方法 | |
JP3631622B2 (ja) | 光導波路と光ファイバとの接続構造および接続方法 | |
JP4525006B2 (ja) | 光導波路モジュール | |
JP7372578B2 (ja) | 光モジュール | |
JP2000131556A (ja) | 光導波路と光ファイバとの接続構造および接続方法 | |
WO2003083542A1 (fr) | Dispositif optique et son procede de fabrication | |
CN113994245B (zh) | 具有未完成端面的光纤阵列单元 | |
JP4474940B2 (ja) | 光導波路モジュール | |
EP1378777A2 (en) | Optical waveguide device, manufacturing method thereof, and optical communication apparatus | |
JP2008122762A (ja) | 光導波路パッケージ、光導波路パッケージ用筐体、光導波路パッケージの製造方法、および光導波路パッケージの特性調整方法 | |
JP2001356246A (ja) | 光モジュールおよびその製造方法 | |
JP4161723B2 (ja) | 光デバイス及びその製造方法 | |
KR100536141B1 (ko) | 수동 광결합 구조 및 그 제작방법 | |
JP4380166B2 (ja) | 光デバイスの製造方法 | |
JPH08286070A (ja) | 光ファイバ・アレー/光集積回路接続アッセンブリで使用される光ファイバ・アレーを作るための方法 | |
JP2008197380A (ja) | 多チャンネル光路変換素子とその作製方法 | |
JP2006145902A (ja) | 光伝送用チップおよびその製造方法 | |
JPH11295547A (ja) | ファイバアレイ | |
CA2491403C (en) | Waveguides assembled for transverse-transfer of optical power |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060316 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090428 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090629 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100511 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100524 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |