JP4515160B2 - Wiring board with built-in capacitor, capacitor element with built-in wiring board - Google Patents

Wiring board with built-in capacitor, capacitor element with built-in wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP4515160B2
JP4515160B2 JP2004173555A JP2004173555A JP4515160B2 JP 4515160 B2 JP4515160 B2 JP 4515160B2 JP 2004173555 A JP2004173555 A JP 2004173555A JP 2004173555 A JP2004173555 A JP 2004173555A JP 4515160 B2 JP4515160 B2 JP 4515160B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dielectric resin
electrode plate
resin layer
wiring
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004173555A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005353868A (en
Inventor
賢司 笹岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2004173555A priority Critical patent/JP4515160B2/en
Publication of JP2005353868A publication Critical patent/JP2005353868A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4515160B2 publication Critical patent/JP4515160B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、内蔵するデバイスとしてキャパシタを有する配線板(キャパシタ内蔵配線板)および配線板内蔵型キャパシタ素子において、特に、キャパシタの静電容量を増大するのに好適なキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子に関する。   The present invention relates to a wiring board having a capacitor as a built-in device (capacitor built-in wiring board) and a capacitor element with a built-in wiring board, and particularly suitable for increasing the capacitance of the capacitor and the wiring board built-in. Type capacitor element.

従来のキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子として、例えば下記非特許文献1に記載のものがある。この配線板およびキャパシタ素子の構造は、その誘電体として高比誘電率の樹脂層を使用し、この高比誘電率樹脂層の上下を配線層で挟む構造になっている。上下の配線層は、所定にパターニングされることによりキャパシタとしての両電極になる。この構造では、キャパシタの誘電体となる樹脂層としてより高比誘電率の材料を使用することにより、静電容量の増大を図ることができる。
島田、他2名、「RFモジュール向けキャパシタ内蔵配線板の開発」、エレクトロニクス実装学会誌、2002年、第5巻、第7号、p.636−640
Examples of conventional capacitor built-in wiring boards and wiring board built-in capacitor elements include those described in Non-Patent Document 1 below. The wiring board and capacitor element have a structure in which a resin layer having a high relative dielectric constant is used as a dielectric, and the upper and lower sides of the high relative dielectric constant resin layer are sandwiched between wiring layers. The upper and lower wiring layers become both electrodes as a capacitor by predetermined patterning. In this structure, the capacitance can be increased by using a material having a higher relative dielectric constant as the resin layer serving as the dielectric of the capacitor.
Shimada et al., “Development of wiring board with built-in capacitor for RF module”, Journal of Japan Institute of Electronics Packaging, 2002, Vol. 5, No. 7, p. 636-640

しかしながら、有機材料のプリント配線板のプロセスで使用できるような高比誘電率の材料を用いてさらに静電容量を増大させようとすると、通常は、キャパシタとしての面積、すなわちその両電極の面積を増大させる必要があり、他の配線パターンを形成する領域を圧迫する。よって、配線板として小型化が要求される用途では、キャパシタとして利用できる実際の面積が限られるのが普通である。このため、キャパシタ内蔵配線板として、近年の電子機器の小型軽量化への貢献が限定されている。   However, when trying to increase the capacitance further by using a material having a high dielectric constant that can be used in the process of an organic material printed wiring board, the area as a capacitor, that is, the area of both electrodes is usually reduced. It is necessary to increase the area, and the area where another wiring pattern is formed is pressed. Therefore, in applications that require miniaturization as a wiring board, the actual area that can be used as a capacitor is usually limited. For this reason, contribution to the reduction in size and weight of electronic devices in recent years is limited as a capacitor built-in wiring board.

本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、内蔵するデバイスとしてキャパシタを有する配線板(キャパシタ内蔵配線板)および配線板内蔵型キャパシタ素子において、キャパシタの静電容量をさらに増大することが可能なキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and further increases the capacitance of the capacitor in a wiring board having a capacitor as a built-in device (capacitor-containing wiring board) and a capacitor element with a built-in wiring board. An object is to provide a capacitor built-in wiring board and a wiring board built-in capacitor element.

上記の課題を解決するため、本発明に係るキャパシタ内蔵配線板は、配線板としての板基材である第1の誘電体樹脂層と、前記第1の誘電体樹脂層上に位置する第1の電極板と、前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第2の電極板と、前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第2の電極板とは電気的に独立の第1の配線パターンと、前記第1の誘電体樹脂層上に、前記第2の電極板および前記第1の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第2の誘電体樹脂層と、前記第2の誘電体樹脂層の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第3の電極板と、前記第2の誘電体樹脂層上の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第3の電極板とは電気的に独立の第2の配線パターンと、前記第2の誘電体樹脂層上に、前記第3の電極板および前記第2の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第3の誘電体樹脂層と、前記第3の誘電体樹脂層の、前記第3の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第4の電極板と、前記第1の配線パターンを中継して前記第1、第3の電極板を電気的につなげるように、前記第1、第2の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第1、第2の層間接続体と、前記第2の配線パターンを中継して前記第2、第4の電極板を電気的につなげるように、前記第2、第3の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第3、第4の層間接続体と、を具備し、前記第2の電極板が、前記第1の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置し、前記第3の電極板が、前記第3の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置していることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a capacitor built-in wiring board according to the present invention includes a first dielectric resin layer that is a board substrate as a wiring board, and a first dielectric resin layer positioned on the first dielectric resin layer. An electrode plate, a second electrode plate located on a surface of the first dielectric resin layer opposite to a surface on which the first electrode plate is located, and the first dielectric resin layer A first wiring pattern electrically independent of the second electrode plate, located on a surface of the dielectric resin layer opposite to the surface on which the first electrode plate is located; The second dielectric resin layer, which is a board substrate as the wiring board, is laminated on the first dielectric resin layer so as to sandwich the second electrode plate and the first wiring pattern. A third electrode plate located on the surface of the second dielectric resin layer opposite to the surface on which the second electrode plate is located; and A second wiring pattern which is located on a surface opposite to the surface on which the second electrode plate is located on the dielectric resin layer, and is electrically independent from the third electrode plate And a third dielectric resin, which is a board substrate as the wiring board, laminated on the second dielectric resin layer so as to sandwich the third electrode plate and the second wiring pattern. A layer, a fourth electrode plate located on the surface of the third dielectric resin layer opposite to the surface on which the third electrode plate is located, and the first wiring pattern First and second interlayer connectors that respectively penetrate the first and second dielectric resin layers so as to relay and electrically connect the first and third electrode plates, and the second Through the second and third dielectric resin layers so that the second and fourth electrode plates are electrically connected by relaying the wiring pattern. And the second electrode plate has a convex shape on the side of the second dielectric resin layer, not on the side of the first dielectric resin layer. The third electrode plate is located in a convex shape on the second dielectric resin layer side, not on the third dielectric resin layer side .

また、本発明に係る配線板内蔵型キャパシタ素子は、配線板としての板基材である第1の誘電体樹脂層と、前記第1の誘電体樹脂層上に位置する第1の電極板と、前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第2の電極板と、前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第2の電極板とは電気的に独立の第1の配線パターンと、前記第1の誘電体樹脂層上に、前記第2の電極板および前記第1の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第2の誘電体樹脂層と、前記第2の誘電体樹脂層の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第3の電極板と、前記第2の誘電体樹脂層上の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第3の電極板とは電気的に独立の第2の配線パターンと、前記第2の誘電体樹脂層上に、前記第3の電極板および前記第2の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第3の誘電体樹脂層と、前記第3の誘電体樹脂層の、前記第3の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第4の電極板と、前記第1の配線パターンを中継して前記第1、第3の電極板を電気的につなげるように、前記第1、第2の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第1、第2の層間接続体と、前記第2の配線パターンを中継して前記第2、第4の電極板を電気的につなげるように、前記第2、第3の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第3、第4の層間接続体と、を具備し、前記第2の電極板が、前記第1の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置し、前記第3の電極板が、前記第3の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置していることを特徴とする。 In addition, the capacitor element with a built-in wiring board according to the present invention includes a first dielectric resin layer which is a board substrate as a wiring board, and a first electrode plate positioned on the first dielectric resin layer. A second electrode plate located on a surface of the first dielectric resin layer opposite to the surface on which the first electrode plate is located; and the first dielectric resin layer A first wiring pattern located on a surface opposite to the surface on which the first electrode plate is located and electrically independent from the second electrode plate; A second dielectric resin layer, which is a board substrate as the wiring board, laminated on the dielectric resin layer so as to sandwich the second electrode plate and the first wiring pattern; A third electrode plate located on a surface of the second dielectric resin layer opposite to the surface on which the second electrode plate is located, and the second dielectric resin. A second wiring pattern located on a surface opposite to the surface on which the second electrode plate is located and electrically independent from the third electrode plate; A third dielectric resin layer, which is a board substrate as the wiring board, laminated on the dielectric resin layer so as to sandwich the third electrode plate and the second wiring pattern; and A fourth electrode plate located on a surface of the dielectric resin layer 3 opposite to the surface on which the third electrode plate is located, and the first wiring pattern being relayed to the first electrode pattern. 1. First and second interlayer connectors that respectively penetrate the first and second dielectric resin layers and the second wiring pattern are relayed so as to electrically connect the first and third electrode plates. And the second and fourth dielectric resin layers penetrate the third and third dielectric resin layers respectively so as to electrically connect the second and fourth electrode plates. The second electrode plate is located not on the first dielectric resin layer side but on the second dielectric resin layer side, and is located on the second dielectric resin layer side. The electrode plate is located in a convex shape on the second dielectric resin layer side, not on the third dielectric resin layer side .

すなわち、キャパシタ内蔵配線板、配線板内蔵型キャパシタ素子いずれも、キャパシタとしての電極板の各間には誘電体樹脂層が板基材として存在する。そして、複数の層間接続体が、この誘電体樹脂層それぞれを貫通してこれらの電極板を層方向互い違いに電気的に別のノードとするように層間接続している。よって、キャパシタとしての電極板の両極は、その対向面積が電極板の積層数に応じて増加できる構造である。したがって、面積を増加させることなくキャパシタの静電容量をさらに増大することが可能である。   That is, in both the capacitor built-in wiring board and the wiring board built-in type capacitor element, a dielectric resin layer exists as a plate base material between each electrode plate as a capacitor. A plurality of interlayer connection bodies penetrate through the dielectric resin layers and connect the electrode plates so that they are electrically separated from each other in the layer direction. Therefore, both electrodes of the electrode plate as a capacitor have a structure in which the facing area can be increased according to the number of stacked electrode plates. Therefore, it is possible to further increase the capacitance of the capacitor without increasing the area.

本発明によれば、内蔵するデバイスとしてキャパシタを有する配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子において、デバイスとしての面積を増加させることなくキャパシタ電極板の対向面積を実質的に増大して、その静電容量をさらに増大することが可能である。   According to the present invention, in a wiring board having a capacitor as a built-in device and a capacitor element with a built-in wiring board, the facing area of the capacitor electrode plate is substantially increased without increasing the area as the device, and The capacity can be further increased.

本発明の実施態様として、前記第1、第2、第3、第4の層間接続体は、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化している形状である、とすることができる。これは、例えば、電極板の前段階である金属箔の上に導電性組成物からなる導電性バンプを形成して、この形成された導電性バンプを上記誘電体樹脂層に貫通させることで層間接続体とした場合である。 As an embodiment of the present invention, each of the first, second, third, and fourth interlayer connectors is made of a conductive composition and has an axis that coincides with the layer direction. It can be said that it is the shape where the diameter is changing. For example, a conductive bump made of a conductive composition is formed on a metal foil that is a previous stage of an electrode plate, and the formed conductive bump is passed through the dielectric resin layer to form an interlayer. This is the case of a connected body.

また、実施態様として、前記第1、第2、第3、第4の層間接続体は、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化していない形状である、とすることができる。これは、例えば、上記誘電体樹脂層にレーザでビアホールを形成して、この形成されたビアホールに導電性組成物を充填して、さらにその上に金属箔を積層一体化した場合である。 Further, as an embodiment, each of the first, second, third, and fourth interlayer connectors is made of a conductive composition and has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter in the direction of the axis. It can be assumed that the shape is unchanged. This is the case, for example, when a via hole is formed in the dielectric resin layer with a laser, the conductive composition is filled in the formed via hole, and a metal foil is laminated and integrated thereon.

また、実施態様として、前記第1、第2、第3、第4の層間接続体は、それぞれ、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有する柱状または錐台状の形状である、とすることができる。これは、例えば、電極板の前段階である金属板をエッチングしてまたは金属箔上にめっきを施して導電性バンプを形成し、この形成された導電性バンプを上記誘電体樹脂層に貫通させることで層間接続体とした場合である。 As an embodiment, each of the first, second, third, and fourth interlayer connectors is made of metal and has a columnar or frustum shape having an axis that coincides with the layer direction. It can be. For example, the metal plate which is the previous stage of the electrode plate is etched or plated on the metal foil to form conductive bumps, and the formed conductive bumps penetrate the dielectric resin layer. This is a case where an interlayer connection body is obtained.

また、実施態様として、前記第1の電極板を含んでいる配線層と、前記配線層の前記第1の誘電体樹脂層の設けられた側とは反対の側に積層された絶縁層と、前記絶縁層の前記配線層が位置する側とは反対の側に積層された第2の配線層と、前記絶縁層を貫通して前記配線層と前記第2の配線層とを層間接続する第の層間接続体とをさらに具備するようにしてもよい。多層配線層化した構成である。 Further, as an aspect, wherein the first electrode plate comprise are wiring layers, the wiring layer, and the first dielectric side provided with the resin layer and the insulating layer laminated on the opposite side of the insulating layer, the second wiring layer, wherein interlayer connecting said second wiring layer and the wiring layer through an insulating layer laminated on the side opposite to the side where the wiring layer is located And a fifth interlayer connection body. This is a multi-layer wiring structure.

ここで、前記第の層間接続体は、パターンとして除去のない部位の前記配線層と、パターンとして除去のない部位の前記第2の配線層とを層間接続している、とし得る。すなわち、前記第の層間接続体が、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化しているかまたは変化していないかの形状であるような場合がそのひとつである。また、前記第の層間接続体が、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有する柱状または錐台状の形状である場合がもうひとつである。 Here, the fifth interlayer connector may be configured to connect the wiring layer in a portion not removed as a pattern and the second wiring layer in a portion not removed as a pattern. That is, the fifth interlayer connection body is made of a conductive composition and has a shape that has an axis that coincides with the layer direction and whether or not the diameter changes in the direction of the axis. Such is the case. In another case, the fifth interlayer connection body is made of metal and has a columnar or frustum shape having an axis coinciding with the layer direction.

前者は、例えば、第2の配線層の前段階である金属箔の上に導電性組成物からなる導電性バンプを形成して、この形成された導電性バンプを上記絶縁層に貫通させることで第2の層間接続体とした場合である。または上記絶縁層にレーザでビアホールを形成して、この形成されたビアホールに導電性塑性物を充填して、さらにその上に金属箔を積層一体化した場合である。後者は、例えば、第2の配線層の前段階である金属板をエッチングしてまたは金属箔上にめっきを施して導電性バンプを形成し、この形成された導電性バンプを上記絶縁層に貫通させることで第2の層間接続体とした場合である。   In the former, for example, a conductive bump made of a conductive composition is formed on a metal foil that is a previous stage of the second wiring layer, and the formed conductive bump is passed through the insulating layer. This is a case where the second interlayer connector is used. Alternatively, a via hole is formed in the insulating layer with a laser, the formed via hole is filled with a conductive plastic material, and a metal foil is laminated and integrated thereon. In the latter case, for example, a conductive bump is formed by etching a metal plate, which is a previous stage of the second wiring layer, or plating on a metal foil, and penetrating the formed conductive bump into the insulating layer. This is a case where the second interlayer connector is obtained.

また、前記第の層間接続体は、導電性組成物からなり、かつ、軸の方向が層方向に一致する円柱状の形状である、とし得る。これは例えば、上記絶縁層にレーザでビアホールを形成し、この形成されたビアホールに導電性組成物を充填した場合の構成である。さらに、前記第の層間接続体は、金属からなり、かつ、軸の方向が層方向に一致する円錐台状の形状であり前記円錐台の内部が空である、とすることもできる。これは例えば、上記絶縁層にレーザにより円錐台状のビアホールを形成し、さらにこの形成されたビアホールの内壁面にめっきで導電層を形成した場合である。 Further, the fifth interlayer connection body may be formed of a conductive composition and has a cylindrical shape whose axial direction matches the layer direction. This is, for example, a configuration in which a via hole is formed in the insulating layer with a laser and the formed via hole is filled with a conductive composition. Furthermore, the fifth interlayer connection body may be made of a metal, has a truncated cone shape in which the axial direction coincides with the layer direction, and the inside of the truncated cone is empty. This is the case, for example, when a frustoconical via hole is formed in the insulating layer by a laser, and a conductive layer is formed on the inner wall surface of the formed via hole by plating.

また、前記第の層間接続体は、前記配線層のうち前記第1の電極板である部位を、前記第2の配線層への層間接続における接続部位としているとしてもよい。これによれば、電極板が層間接続のためのランドとしても機能し、配線パターンの配置効率の向上に寄与できる。 In the fifth interlayer connector, a portion of the wiring layer that is the first electrode plate may be used as a connection portion in the interlayer connection to the second wiring layer. According to this, the electrode plate also functions as a land for interlayer connection, which can contribute to the improvement of the wiring pattern placement efficiency.

以上を踏まえ、以下では本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子の製造過程を模式的断面で示す工程図である。図2、図3は、それぞれ、前の図の続図であって、本発明の一実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子の製造過程を模式的断面で示す工程図である。各図においては(a)から順に工程が進行する。これらの図において同一相当のものには同一符号を付してある。   Based on the above, embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram schematically showing a manufacturing process of a capacitor built-in wiring board and a wiring board built-in capacitor element according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 and FIG. 3 are continuations of the previous drawings, respectively, and are process diagrams schematically showing the manufacturing process of the capacitor built-in wiring board and the wiring board built-in capacitor element according to one embodiment of the present invention. is there. In each figure, the process proceeds in order from (a). In these drawings, the same reference numerals are given to the same components.

まず、図1(a)に示すように、厚さ例えば5μmの銅箔13(=キャパシタの電極板になる前段階のもの)を用意し、その主面上の所定位置に導電性組成物からなる円錐形状のバンプ14(例えば底面直径0.1mm、高さ35μm)を例えばスクリーン印刷で形成する。スクリーン印刷では、円柱状の貫通孔が形成された例えばメタル製のスクリーンマスクを用い、ペースト状に調製された導電性組成物をこの貫通孔から銅箔13上に転写する。そして転写後にバンプ14を乾燥する。導電性組成物には、例えば銀粒などの導電性フィラーが樹脂中に分散されたものを用いることができる。   First, as shown in FIG. 1A, a copper foil 13 having a thickness of, for example, 5 μm (= the stage before becoming a capacitor electrode plate) is prepared, and a conductive composition is applied to a predetermined position on the main surface. A conical bump 14 (for example, a bottom diameter of 0.1 mm and a height of 35 μm) is formed by screen printing, for example. In screen printing, for example, a metal screen mask in which cylindrical through holes are formed is used, and the conductive composition prepared in a paste form is transferred onto the copper foil 13 from the through holes. Then, the bump 14 is dried after the transfer. As the conductive composition, for example, a conductive filler such as silver particles dispersed in a resin can be used.

次に、このバンプ付き銅箔上に厚さ例えば20μmで高比誘電率(比誘電率数十:例えば50)の誘電体樹脂シートを配置し、加熱・加圧して、バンプ14を誘電体樹脂シートに貫通させつつ積層して一体化する。これにより、誘電体樹脂シートによる誘電体樹脂層11を貫通してバンプ14の頭部が露出する図1(b)に示すような状態のものを得ることができる。誘電体樹脂層11の上記のような高い比誘電率は、例えば、樹脂中にフィラーとして高比誘電率物質であるチタン酸バリウムの微粒子を分散させた構造により得ることができる。なお、図1(b)におけるバンプ14の頭部の破線部分は、この段階で頭部をつぶして塑性変形させておく場合と、させない場合の両者があり得ることを示す。   Next, a dielectric resin sheet having a thickness of, for example, 20 μm and a high relative dielectric constant (relative dielectric constant of several tens: 50, for example) is placed on the bumped copper foil, and heated and pressed to form the bumps 14 on the dielectric resin. It is laminated and integrated while passing through the sheet. Thereby, the thing of the state as shown in FIG.1 (b) which penetrates the dielectric resin layer 11 by a dielectric resin sheet and the head of the bump 14 is exposed can be obtained. The high dielectric constant as described above of the dielectric resin layer 11 can be obtained by, for example, a structure in which fine particles of barium titanate, which is a high dielectric constant substance, are dispersed as a filler in the resin. In addition, the broken line part of the head part of the bump 14 in FIG. 1B indicates that there are both cases where the head part is crushed and plastically deformed at this stage and when it is not.

次に、図1(b)に示す状態の積層体の誘電体樹脂層11側に対向して銅箔12(=キャパシタの電極板になる前段階のもの:厚さ例えば5μm)を配置し、積層プレスによりこれらを一体化する。この一体化により、誘電体樹脂層11は完全に硬化し、かつ、バンプ14は全体として円錐台状の形状(塑性変形の具合より一般的には軸の方向に径の変化する形状)になり対向する銅箔12に圧接され電気的接続がされる。円錐台の軸の方向は積層方向に一致する。これにより、図1(c)の上側に示すような両面銅張り誘電体樹脂シート1(誘電体樹脂層11を貫通して所定の位置のバンプ14によって銅層12、13間が層間接続されている構造のもの)を得ることができる。   Next, a copper foil 12 (= the stage before becoming an electrode plate of a capacitor: thickness, for example, 5 μm) is arranged facing the dielectric resin layer 11 side of the laminate in the state shown in FIG. These are integrated by a laminating press. As a result of this integration, the dielectric resin layer 11 is completely cured, and the bumps 14 have an overall shape of a truncated cone (generally, a shape whose diameter changes in the axial direction due to plastic deformation). The copper foil 12 facing each other is pressed and electrically connected. The direction of the axis of the truncated cone coincides with the stacking direction. Thereby, the double-sided copper-clad dielectric resin sheet 1 (through the dielectric resin layer 11 as shown in the upper side of FIG. 1C) is connected between the copper layers 12 and 13 by the bumps 14 at predetermined positions. Can be obtained).

以上のような工程により得られた両面銅張り誘電体樹脂シート1を、図1(c)に示すようにこの実施形態では3枚(両面銅張り誘電体樹脂シート1、2、3)用意する。なお、両面銅張り誘電体樹脂シート1、2、3に内在する層間接続体であるバンプ14、24、34は、必ずしも図示するような太細の上下関係でなくてもよく、配置としては上下いずれが太くてもよい。また、符号22、23、32、33は銅箔12、13と同様な銅箔であり、符号21、31は誘電体樹脂層11と同様な誘電体樹脂層である。   In this embodiment, as shown in FIG. 1C, three double-sided copper-clad dielectric resin sheets 1 (double-sided copper-clad dielectric resin sheets 1, 2, and 3) prepared by the above-described steps are prepared. . Note that the bumps 14, 24, and 34, which are interlayer connection bodies inherent in the double-sided copper-clad dielectric resin sheets 1, 2, and 3, do not necessarily have a thick vertical relationship as shown in the figure. Either may be thick. Reference numerals 22, 23, 32, and 33 are copper foils similar to the copper foils 12 and 13, and reference numerals 21 and 31 are dielectric resin layers similar to the dielectric resin layer 11.

次に、図1(d)に示すように、両面銅張り誘電体樹脂シート1、2、3それぞれについてその両側の銅箔(銅層)12、13、22、23、32、33を所定にパターン化しこれらをパターン形成された銅層12a、13a、22a、23a、32a、33aにする。パターン形成された銅層12a、13a等は、図示するように、少なくともバンプ14、24、34との接続部位(ランド)およびキャパシタとしての電極板の部位が残される。これに加えて必要な配線パターンを形成するようにしてももちろんよい。銅箔(銅層)12、13、22、23、32、33のパターン化は、例えば周知のフォトリソグラフィ法を利用しエッチング加工によりなすことができる。   Next, as shown in FIG. 1 (d), the copper foils (copper layers) 12, 13, 22, 23, 32, 33 on both sides of each of the double-sided copper-clad dielectric resin sheets 1, 2, 3 are predetermined. These are patterned to form patterned copper layers 12a, 13a, 22a, 23a, 32a, 33a. As shown in the figure, the patterned copper layers 12a, 13a, etc. leave at least the connection portions (lands) to the bumps 14, 24, 34 and the portions of the electrode plates as capacitors. Of course, a necessary wiring pattern may be formed. The patterning of the copper foil (copper layer) 12, 13, 22, 23, 32, 33 can be performed by etching using, for example, a well-known photolithography method.

次に、図1(e)に示すように、パターン形成された銅層13a上およびパターン形成された銅層32a上の所定位置に、それぞれ導電性組成物からなる円錐形状のバンプ41、51(例えば底面直径0.1mm、高さ40μm)を例えばスクリーン印刷で形成する。導電性組成物、スクリーン印刷については、図1(a)での説明と同様である。   Next, as shown in FIG. 1 (e), conical bumps 41 and 51 (51) made of a conductive composition are respectively formed at predetermined positions on the patterned copper layer 13a and the patterned copper layer 32a. For example, a bottom diameter of 0.1 mm and a height of 40 μm are formed by screen printing, for example. The conductive composition and screen printing are the same as described with reference to FIG.

次に、図2(a)に示すように、パターン形成された銅層を有する誘電体樹脂シートの各間に高比誘電率樹脂シート4、5を配置する。高比誘電率樹脂シート4、5はそれぞれ厚さ例えば30μm、比誘電率は数十(例えば50)である。そして、図2(a)に示すように各シートを位置合わせのうえ、積層方向に加熱プレスして一体化する(図2(b))。これにより、バンプ41、51はそれぞれ高比誘電率樹脂シート4、5を貫通し対向するパターン化された銅層22a、23aに圧接されて電気的接続される。   Next, as shown in FIG. 2A, high relative dielectric constant resin sheets 4 and 5 are disposed between the dielectric resin sheets each having a patterned copper layer. Each of the high dielectric constant resin sheets 4 and 5 has a thickness of, for example, 30 μm and a relative dielectric constant of several tens (for example, 50). And as shown to Fig.2 (a), after aligning each sheet | seat, it heat-presses in the lamination direction and integrates (FIG.2 (b)). As a result, the bumps 41 and 51 are brought into pressure contact with and electrically connected to the patterned copper layers 22a and 23a that pass through and face the high relative dielectric constant resin sheets 4 and 5, respectively.

図2(b)で重要な点は、バンプ41、51およびバンプ14、24、34により、キャパシタの電極板となる銅層12a、13a、22a、23a、32a、33aの部位が、層方向互い違いに電気的に別のノードとするように接続されることである。これにより、この実施形態では多層(6層)の電極板を有するキャパシタを備えた積層板を得ることができる。この積層板の厚さ(総厚)は例えば130μmである。   The important point in FIG. 2B is that the copper layers 12a, 13a, 22a, 23a, 32a, and 33a serving as capacitor electrode plates are alternately arranged in the layer direction by the bumps 41 and 51 and the bumps 14, 24, and 34. Is electrically connected to another node. Thereby, in this embodiment, the laminated board provided with the capacitor which has a multilayer (6 layers) electrode board can be obtained. The thickness (total thickness) of this laminated board is, for example, 130 μm.

図2(b)に示すように積層一体化されたとき、パターン形成された銅層13a、22a、23a、32aは、それぞれ高比誘電率樹脂シート4、5側に凸形状となっている。このようにするため、高比誘電率樹脂シート4、5は、両面銅張り誘電体樹脂シート1、2、3の誘電体樹脂層11、21、31と異なり、この加熱プレスにより可塑性を発揮するものを用いるのがより好ましい。これによれば、キャパシタの電極板として機能することになる各銅層13a、22a、23a、32a間の間隔を所定に制御しやすい。このような間隔制御はキャパシタとして静電容量値をばらつきなく作り込むのに重要である。静電容量値は電極間隔に依存する。   When laminated and integrated as shown in FIG. 2B, the patterned copper layers 13a, 22a, 23a, and 32a are convex on the high relative dielectric constant resin sheets 4 and 5, respectively. Therefore, unlike the dielectric resin layers 11, 21, and 31 of the double-sided copper-clad dielectric resin sheets 1, 2, and 3, the high relative dielectric constant resin sheets 4 and 5 exhibit plasticity by this heating press. It is more preferable to use one. According to this, it is easy to control the space | interval between each copper layer 13a, 22a, 23a, 32a which will function as an electrode plate of a capacitor to predetermined. Such interval control is important for making the capacitance value as a capacitor without variation. The capacitance value depends on the electrode spacing.

また、図2(b)に示す積層板は、キャパシタとしての電極板および誘電体を有しているが、同時に配線板としての板基材でもある。その意味で、すでに述べたように、各銅層12a、13a、22a、23a、32a、33aにおけるパターン化は、キャパシタの電極板とするためのパターン化およびバンプ14、24、34、41、51のランドとするためのパターン化のほかに、任意の配線パターンの形成を含むものであってもよい。   The laminated plate shown in FIG. 2B has an electrode plate as a capacitor and a dielectric, but is also a plate substrate as a wiring board. In that sense, as already described, the patterning in each of the copper layers 12a, 13a, 22a, 23a, 32a, 33a is the patterning for forming the electrode plate of the capacitor and the bumps 14, 24, 34, 41, 51. In addition to patterning to form a land, an arbitrary wiring pattern may be included.

また、この図2(b)に示す形態でキャパシタ内蔵配線板として一応の機能を発揮することができる。すなわち、最外のパターン形成された銅層12a、33aが、いわゆる両面基板としての各配線層になっており、この両面の配線層のパターンにおける所定のノード間がキャパシタとして機能する。かつまた、キャパシタとしての電極板が、パターン形成された銅層12a、13a、22a、23a、32a、33aからなっている。このような積層構造により、キャパシタの電極板の対向面積を増大して、その静電容量が平面的な面積で得られる以上に増大され得る。   Moreover, the function shown as a capacitor built-in wiring board can be exhibited in the form shown in FIG. In other words, the outermost patterned copper layers 12a and 33a are each wiring layer as a so-called double-sided board, and a predetermined node in the wiring layer pattern on both sides functions as a capacitor. In addition, the electrode plate as a capacitor is composed of patterned copper layers 12a, 13a, 22a, 23a, 32a, 33a. With such a laminated structure, the facing area of the capacitor electrode plate can be increased, and the capacitance can be increased more than that obtained in a planar area.

なお、以上説明の例では、キャパシタとしての電極板が3層+3層の計6層からなる構造のものを示したが、同様の考えにより、最低では2層+1層の計3層のものから6層を超えるさらに多層のものまで製造することが可能である。例えば計3層の場合には次の手順によることができる。まず、両面銅張り誘電体樹脂シート1と同様なシートを用意しその両面の銅層を所定にパターン形成する。そして、その片側の銅層上の所定位置に、導電性組成物からなる円錐形状のバンプをスクリーン印刷で形成する。次に、このバンプ付き両面銅張り誘電体樹脂シートのバンプ形成面側に高比誘電率の誘電体樹脂シートを対向配置し、加熱・加圧して、バンプを後者の誘電体樹脂シートに貫通させつつ積層して一体化する。次に、この後者の誘電体樹脂シート側に対向して銅箔を配置し、積層プレスによりこれらを一体化する。最後に、積層された銅箔に所定にパターン形成する。   In the example described above, the electrode plate as a capacitor has a structure composed of a total of 6 layers of 3 layers + 3 layers. However, from the same concept, the minimum is 2 layers + 1 layers. It is possible to manufacture even more layers exceeding 6 layers. For example, in the case of a total of three layers, the following procedure can be followed. First, a sheet similar to the double-sided copper-clad dielectric resin sheet 1 is prepared, and the copper layers on both sides thereof are patterned in a predetermined pattern. Then, a conical bump made of a conductive composition is formed by screen printing at a predetermined position on the copper layer on one side. Next, a dielectric resin sheet having a high relative dielectric constant is placed opposite to the bump-forming surface side of the double-sided copper-clad dielectric resin sheet with bumps, and heated and pressurized to allow the bumps to penetrate the latter dielectric resin sheet. Laminate and integrate. Next, a copper foil is arranged facing the latter dielectric resin sheet, and these are integrated by a laminating press. Finally, a predetermined pattern is formed on the laminated copper foil.

また、図2(b)に示す形態で、図1(a)に示したようなスクリーン印刷によるバンプ14、24、34の形成に代えて、次のようなバンプの形成方法を採用することもできる。そのひとつは、金属(例えば銅)の板を用意し、この板をエッチングすることより、柱状、錐台状または錐状の導電性バンプ(いわゆるエッチングバンプ)を形成する方法である。導電性バンプを形成しない領域ではその板の厚み方向にエッチングして薄くし、導電性バンプはそのエッチングが及ばないようにして形成する。   Further, in the form shown in FIG. 2B, the following bump forming method may be adopted instead of forming the bumps 14, 24, and 34 by screen printing as shown in FIG. it can. One of them is a method of forming a columnar, frustum-shaped or conical conductive bump (so-called etching bump) by preparing a metal (for example, copper) plate and etching the plate. In the region where the conductive bump is not formed, the thickness is reduced by etching in the thickness direction of the plate, and the conductive bump is formed so as not to be etched.

または、銅箔13と同程度の厚さの金属箔(例えば銅箔)を用意し、その金属箔上にめっきにより全体として柱状、錐台状または錐状の導電性バンプ(いわゆるめっきバンプ)を形成する方法である。エッチング、めっきのいずれの方法でも、形成された金属のバンプを、スクリーン印刷による導電性バンプ14、24、34の代わりに取り扱うことにより以後の工程に供することができる。すなわち、結果としてほぼ図2(b)に示すような構成・形態になり、層間接続体としてのバンプはその軸の方向が積層方向に一致する。   Alternatively, a metal foil (for example, a copper foil) having a thickness similar to that of the copper foil 13 is prepared, and a columnar, frustum-shaped or conical conductive bump (so-called plated bump) is formed on the metal foil by plating. It is a method of forming. In any of the etching and plating methods, the formed metal bumps can be used for the subsequent steps by handling them instead of the conductive bumps 14, 24, 34 by screen printing. That is, as a result, the configuration and configuration as shown in FIG. 2B are obtained, and the bump as the interlayer connection body has the axis direction coinciding with the stacking direction.

さらに、図2(b)に示す形態で、図1(c)に示したような両面銅張り誘電体樹脂シート1、2、3に代えて、別の製造工程によるほぼ同様の構成のものを用いるようにすることもできる。その工程は、例えば、まず、誘電体樹脂シートを用意し、その所定位置に例えばレーザ加工でビアホールを形成してそのビアホール内に導電性組成物を充填する。そして、この誘電体樹脂シートの両面それぞれに対向して銅箔を配置し積層プレスで一体化するものである。これによる層間接続体は、軸の方向が積層方向に一致する円柱状(すなわち軸の方向に径が変化していない形状)になる。なお、このような層間接続体の形成工程を高比誘電率樹脂シート4、5に適用することでバンプ41、51に代えることもできる。   Furthermore, in the form shown in FIG. 2B, instead of the double-sided copper-clad dielectric resin sheets 1, 2, and 3 as shown in FIG. It can also be used. In this process, for example, first, a dielectric resin sheet is prepared, a via hole is formed at a predetermined position by, for example, laser processing, and the conductive composition is filled in the via hole. And it arrange | positions copper foil facing each of both surfaces of this dielectric resin sheet, and integrates it with a lamination press. Thus, the interlayer connection body has a cylindrical shape whose axis direction coincides with the stacking direction (that is, a shape whose diameter does not change in the axis direction). In addition, it can replace with the bumps 41 and 51 by applying the formation process of such an interlayer connection body to the high relative dielectric constant resin sheets 4 and 5.

図2(b)に示す形態は、上記のように、キャパシタ内蔵配線板としての一態様であるが、引き続きこのキャパシタ内蔵配線板をコア板に用いて配線板として多層化する工程例を図3を参照して説明する。まず、図3(a)に示すように、厚さ例えば18μmの銅箔71、72上の所定の位置に、それぞれ導電性組成物からなるほぼ円錐形状のバンプ73、74を例えばスクリーン印刷により印刷・形成する。スクリーン印刷では、円柱状の貫通孔が形成された例えばメタル製のスクリーンマスクを用い、ペースト状に調製された導電性組成物をこの貫通孔から銅箔71、72上に転写する。そして転写後にバンプ73、74を乾燥する。導電性組成物には、例えば銀粒などの導電性フィラーが樹脂中に分散されたものを用いることができる。   The form shown in FIG. 2 (b) is an embodiment as a capacitor built-in wiring board as described above, but a process example in which the capacitor built-in wiring board is subsequently used as a core board to form a multilayer wiring board is shown in FIG. Will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 3A, substantially conical bumps 73 and 74 made of a conductive composition are printed at predetermined positions on copper foils 71 and 72 having a thickness of 18 μm, for example, by screen printing, for example. ·Form. In screen printing, for example, a metal screen mask in which cylindrical through holes are formed is used, and the conductive composition prepared in a paste form is transferred onto the copper foils 71 and 72 from the through holes. Then, the bumps 73 and 74 are dried after the transfer. As the conductive composition, for example, a conductive filler such as silver particles dispersed in a resin can be used.

次に、このバンプ付き銅箔上に厚さ例えば60μmのガラスエポキシ樹脂からなるプリプレグを配置し、ガラスエポキシ樹脂が軟化し、硬化反応が急速に進行しない程度の温度に加熱しながら加圧して、導電性バンプ73、74をプリプレグに貫通させつつ積層して一体化する。これにより、プリプレグによる絶縁層75、76を貫通して導電性バンプ73、74の頭部が露出する図3(b)に示すような状態のものを得ることができる。図3(b)において導電性バンプ73、74の頭部の破線部分は、この段階で頭部をつぶして塑性変形させておく場合と、させない場合の両者があり得ることを示す。   Next, a prepreg made of glass epoxy resin with a thickness of, for example, 60 μm is disposed on the bumped copper foil, and the glass epoxy resin is softened and pressurized while heating to a temperature at which the curing reaction does not proceed rapidly, The conductive bumps 73 and 74 are laminated and integrated while penetrating the prepreg. Thereby, the thing as shown in FIG.3 (b) which penetrates the insulating layers 75 and 76 by a prepreg and the head of the conductive bumps 73 and 74 is exposed can be obtained. In FIG. 3B, the broken line portions of the head portions of the conductive bumps 73 and 74 indicate that there are both cases where the head portion is crushed and plastically deformed at this stage, and when it is not.

次に、図3(c)に示すように、図2(b)に示したキャパシタ内蔵配線板の両面に、バンプ73、74および絶縁層75、76付きの銅箔71、72をそれぞれ積層して加熱プレスにより一体化する。この一体化により、絶縁層75、76は完全に硬化し、かつ、導電性バンプ73、74は全体として円錐台状の形状(塑性変形の具合より一般的には軸の方向に径の変化する形状)になり対向するパターン形成された銅層12a、33aと圧接され電気的接続される。円錐台の軸の方向は積層方向に一致する。   Next, as shown in FIG. 3C, bumps 73 and 74 and copper foils 71 and 72 with insulating layers 75 and 76 are laminated on both surfaces of the capacitor built-in wiring board shown in FIG. Integrated with a heating press. By this integration, the insulating layers 75 and 76 are completely cured, and the conductive bumps 73 and 74 as a whole have a truncated cone shape (generally, the diameter changes in the axial direction due to plastic deformation). Shape) and pressed and electrically connected to the patterned copper layers 12a and 33a facing each other. The direction of the axis of the truncated cone coincides with the stacking direction.

導電性バンプ73、74は、パターンとして除去のない部位の銅層12a、33aと、パターンとして除去のない部位の銅箔71、72と間の層間接続用のビア(層間接続体)となるが、特に図3(c)に示すように、キャパシタとしての電極板の部位に直接接続される位置に配置されてもよい。このような直接の接続により、パターン形成された銅層12a、33aにキャパシタ用の接続ランドを別途設ける必要がなくなる。これはパターンレイアウト上好ましい。   The conductive bumps 73 and 74 serve as vias (interlayer connection bodies) for interlayer connection between the copper layers 12a and 33a in portions not removed as a pattern and the copper foils 71 and 72 in portions not removed as a pattern. In particular, as shown in FIG. 3C, it may be arranged at a position directly connected to a portion of an electrode plate as a capacitor. Such direct connection eliminates the need to separately provide capacitor connection lands on the patterned copper layers 12a and 33a. This is preferable in terms of pattern layout.

次に、図4に示すように、積層後の最外層である銅箔71、72を周知の例えばフォトリソグラフィ法を利用してエッチング加工し配線パターン(第2の配線層)71a、72aを形成する。これにより、多層化されたキャパシタ内蔵配線板を得ることができる。図4は、本発明の一実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子の模式的構成を示す断面図である。なお、図3に示した工程を、図4に示す配線板にさらに続けることでさらに配線板として多層化することができる。このような多層化はさらに同様に続けることができる。   Next, as shown in FIG. 4, the copper foils 71 and 72 which are the outermost layers after lamination are etched using a well-known photolithography method, for example, to form wiring patterns (second wiring layers) 71a and 72a. To do. Thereby, a multilayered capacitor built-in wiring board can be obtained. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a capacitor built-in wiring board and a wiring board built-in capacitor element according to an embodiment of the present invention. 3 can be further multilayered as a wiring board by further continuing the process shown in FIG. 3 to the wiring board shown in FIG. Such multi-layering can be continued in the same manner.

この実施形態の利点のひとつとして、多層化配線板としてレイアウト上の制限が小さいことが挙げられる。すなわち、配線パターン71a、72a上はその内部側に導電性バンプ73、74が配置されている場合でも配置されていない場合でも全く同じに利用することができる。例えば、その上にさらに導電性バンプを重ねて配置することも容易に実現する。なお、このような利点はないが、導電性バンプ73、74による層間接続に代えて、図3(c)に示す配線板全体に貫通孔を形成しその内壁面に導電層を形成して層間接続体とすることも当然可能である。   One of the advantages of this embodiment is that there are few restrictions on the layout of the multilayer wiring board. That is, the wiring patterns 71a and 72a can be used in the same manner regardless of whether or not the conductive bumps 73 and 74 are arranged on the inner side. For example, it is also easy to arrange conductive bumps on the conductive bumps. Although there is no such advantage, instead of the interlayer connection by the conductive bumps 73 and 74, a through hole is formed in the entire wiring board shown in FIG. Of course, a connection body is also possible.

上記工程により得られた図4に示すような構成のキャパシタ内蔵配線板においてキャパシタの静電容量を測定した。その結果、1mm角あたりで110pFの値を得ることができた。これは、高比誘電率樹脂層が一層である従来のものに比較して約5倍の値であり、図4に示すように高比誘電率樹脂層がキャパシタとして5層(11、4、21、5、31)であることからほぼ理論値通りである。   The capacitance of the capacitor was measured in the capacitor built-in wiring board having the configuration shown in FIG. 4 obtained by the above process. As a result, a value of 110 pF per 1 mm square could be obtained. This is about five times the value of the conventional one having a high relative dielectric constant resin layer. As shown in FIG. 4, the high relative dielectric constant resin layer has five layers (11, 4,. 21, 5, 31), which is almost the same as the theoretical value.

なお、上記の実施形態で、図3(a)に示したようなスクリーン印刷による導電性バンプ73、74の形成に代えて、次のような導電性バンプの形成方法を採用することもできる。そのひとつは、金属(例えば銅)の板を用意し、この板をエッチングすることより、柱状、錐台状または錐状の導電性バンプ(いわゆるエッチングバンプ)を形成する方法である。導電性バンプを形成しない領域ではその板の厚み方向にエッチングして薄くし、導電性バンプはそのエッチングが及ばないようにして形成する。   In the above embodiment, instead of forming the conductive bumps 73 and 74 by screen printing as shown in FIG. 3A, the following method for forming the conductive bumps may be employed. One of them is a method of forming a columnar, frustum-shaped or conical conductive bump (so-called etching bump) by preparing a metal (for example, copper) plate and etching the plate. In the region where the conductive bump is not formed, the thickness is reduced by etching in the thickness direction of the plate, and the conductive bump is formed so as not to be etched.

または、銅箔71、72と同程度の厚さの金属箔(例えば銅箔)を用意し、その金属箔上にめっきにより全体として柱状、錐台状または錐状の導電性バンプ(いわゆるめっきバンプ)を形成する方法である。エッチング、めっきのいずれの方法でも、形成された金属の導電性バンプを、スクリーン印刷による導電性バンプ73、74の代わりに取り扱うことにより以後の工程に供することができる。すなわち、結果として図4に示すような構成・形態になり、層間接続体としての導電性バンプはその軸の方向が積層方向に一致する。   Alternatively, a metal foil (for example, a copper foil) having a thickness similar to that of the copper foils 71 and 72 is prepared, and a conductive bump (so-called plating bump) having a columnar shape, a frustum shape, or a conical shape as a whole by plating on the metal foil. ). In any of the etching and plating methods, the formed metal conductive bumps can be used for the subsequent steps by handling them instead of the conductive bumps 73 and 74 by screen printing. That is, as a result, the configuration and form as shown in FIG. 4 are obtained, and the conductive bump as the interlayer connection body has the axis direction coincident with the stacking direction.

次に、本発明の別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板を図5を参照して説明する。図5は、本発明の別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板の模式的構成を示す断面図であり、すでに説明した部位と同一相当の部位には同一符号を付してある。その部分の説明は省略する。このキャパシタ内蔵配線板は、図示するように、図4の導電性バンプ73、74に代わる層間接続体として、軸の方向が積層方向に一致する円柱状の層間接続体83、84を有するものである。   Next, a capacitor built-in wiring board according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a capacitor built-in wiring board according to another embodiment of the present invention, in which parts corresponding to those already described are denoted by the same reference numerals. The description of that part is omitted. As shown in the figure, this capacitor built-in wiring board has columnar interlayer connectors 83 and 84 whose axial directions coincide with the stacking direction as interlayer connectors instead of the conductive bumps 73 and 74 of FIG. is there.

このような構造は、例えば、次のような工程により製造することができる。図1(a)から図2(b)までに示した工程は同じである。続いて、絶縁層75、76、および配線パターン71a、72aの前段階である銅箔を別々に、またはあらかじめ銅箔がそれぞれ積層されている絶縁層75、76を、図2(b)に示したキャパシタ内蔵配線板の両面に積層し、加圧・加熱プレスにより一体化する。   Such a structure can be manufactured by the following processes, for example. The steps shown in FIGS. 1A to 2B are the same. Subsequently, the insulating layers 75 and 76 and the insulating layers 75 and 76 in which the copper foils, which are the previous stage of the wiring patterns 71a and 72a, are laminated separately or in advance, respectively, are shown in FIG. 2 (b). Laminated on both sides of the capacitor built-in wiring board and integrated by pressing and heating press.

次に、積層後の最外層である銅箔を周知の例えばフォトリソグラフィ法を利用してエッチング加工し配線パターン(第2の配線層)71a、72aを形成する。このとき、層間接続体83、84を形成する部位にも、銅箔のエッチング除去を行う。このエッチングのあと、例えば、形成された配線パターン71a、72aをマスクに絶縁層75、76の所定位置をレーザ加工し、パターン形成された内部の銅層12a、33aに達するビアホールを形成する。さらに、形成されたビアホール内に導電性組成物を充填して図5に示すような構造を得ることができる。この実施形態は、層間接続体83、84の直上を、部品実装ランドやさらに積層する場合の層間接続体の配置位置などとして使用するのがやや困難ではあるが、製造工程として簡易である。   Next, the copper foil which is the outermost layer after lamination is etched using a well-known photolithography method, for example, to form wiring patterns (second wiring layers) 71a and 72a. At this time, the copper foil is also removed by etching at portions where the interlayer connectors 83 and 84 are to be formed. After this etching, for example, predetermined positions of the insulating layers 75 and 76 are laser processed using the formed wiring patterns 71a and 72a as masks to form via holes reaching the patterned copper layers 12a and 33a. Furthermore, a conductive composition can be filled in the formed via hole to obtain a structure as shown in FIG. In this embodiment, it is somewhat difficult to use the part directly above the interlayer connectors 83 and 84 as a component mounting land or an arrangement position of an interlayer connector in the case of further stacking, but the manufacturing process is simple.

次に、本発明のさらに別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板を図6を参照して説明する。図6は、本発明のさらに別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板の模式的構成を示す断面図であり、すでに説明した部位と同一相当の部位には同一符号を付してある。その部分の説明は省略する。このキャパシタ内蔵配線板は、図示するように、図4の導電性バンプ73、74に代わる層間接続体として、図5に示した場合と同様に、軸の方向が積層方向に一致する円柱状(すなわち軸の方向に径が変化していない形状)の層間接続体93、94を有するものである。ただし、図5に示した場合と異なり、外側の配線パターン71、72aの除去のない部位にこれらの層間接続体93、94が接続されている。   Next, a capacitor built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a capacitor built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention, and the same reference numerals are given to the same parts as those already described. The description of that part is omitted. As shown in the figure, this capacitor built-in wiring board is a columnar shape whose axial direction coincides with the laminating direction as shown in FIG. 5 as an interlayer connection body replacing the conductive bumps 73 and 74 of FIG. That is, it has interlayer connection bodies 93 and 94 having a shape whose diameter does not change in the axial direction. However, unlike the case shown in FIG. 5, these interlayer connectors 93 and 94 are connected to the portions where the outer wiring patterns 71 and 72a are not removed.

このような構造は、例えば、次のような工程により製造することができる。図1(a)から図2(b)までに示した工程は同じである。続いて、絶縁層75、76を、図2(b)に示したキャパシタ内蔵配線板の両面に積層し、加圧・加熱プレスにより一体化する。次に、絶縁層75、76の所定位置をレーザ加工し、パターン形成された内部の銅層12a、33aに達するビアホールを形成する。さらに、形成されたビアホール内に導電性組成物93、94を充填する。   Such a structure can be manufactured by the following processes, for example. The steps shown in FIGS. 1A to 2B are the same. Subsequently, the insulating layers 75 and 76 are laminated on both surfaces of the capacitor built-in wiring board shown in FIG. 2B, and are integrated by pressing and heating press. Next, laser processing is performed on predetermined positions of the insulating layers 75 and 76 to form via holes reaching the patterned copper layers 12a and 33a. Further, the conductive compositions 93 and 94 are filled in the formed via holes.

続いて、配線パターン71a、72aの前段階である銅箔を絶縁層75、76上に積層し、加圧・加熱プレスにより一体化する。最後に、積層後の最外層である銅箔を周知の例えばフォトリソグラフィ法を利用してエッチング加工し配線パターン(第2の配線層)71a、72aを形成する。この製造方法は、図4に示した形態より工程がやや複雑化するがこれと同様に、多層化配線板としてレイアウト上の制限が小さい。   Subsequently, a copper foil, which is a previous stage of the wiring patterns 71a and 72a, is laminated on the insulating layers 75 and 76, and integrated by pressing and heating press. Finally, the copper foil, which is the outermost layer after lamination, is etched using a well-known photolithography method, for example, to form wiring patterns (second wiring layers) 71a and 72a. In this manufacturing method, the process is slightly more complicated than the embodiment shown in FIG. 4, but similarly, there are less restrictions on layout as a multilayer wiring board.

または、次のように製造することもできる。図1(a)から図2(b)までは同じにして、続いて、絶縁層75、76を用意しその所定位置にレーザ加工で貫通孔を形成する。そしてその貫通孔に導電性ペーストを充填しておく。続いて、この絶縁層75、76、さらにその外側に配線パターン71a、72aの前段階である銅箔を図2(b)に示したキャパシタ内蔵配線板の両面に配置・積層して加圧・加熱プレスにより一体化する。最後に、積層後の最外層である銅箔を周知の例えばフォトリソグラフィ法を利用してエッチング加工し配線パターン(第2の配線層)71a、72aを形成する。この製造方法は、外側の層を形成するのに積層一体化の工程が1回で済み工程がより簡略になる。   Or it can also manufacture as follows. 1 (a) to 2 (b) are the same, and then insulating layers 75 and 76 are prepared, and through holes are formed at predetermined positions by laser processing. Then, the through hole is filled with a conductive paste. Subsequently, the insulating layers 75 and 76, and the copper foil, which is the previous stage of the wiring patterns 71a and 72a, are disposed and laminated on both sides of the capacitor built-in wiring board shown in FIG. Integration by heating press. Finally, the copper foil, which is the outermost layer after lamination, is etched using a well-known photolithography method, for example, to form wiring patterns (second wiring layers) 71a and 72a. In this manufacturing method, only one lamination and integration process is required to form the outer layer, and the process becomes simpler.

次に、本発明のさらに別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板を図7を参照して説明する。図7は、本発明のさらに別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板の模式的構成を示す断面図であり、すでに説明した部位と同一相当の部位には同一符号を付してある。その部分の説明は省略する。このキャパシタ内蔵配線板は、図示するように、図4の導電性バンプ73、74に代わる層間接続体として、層方向に軸の方向が一致する円錐台状の層間接続体103、104を有するものである。この円錐台状の層間接続体103、104は、その内部が空でありこのため俯瞰して見たときに窪んでいる。   Next, a capacitor built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a capacitor built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention, and the same reference numerals are given to the same parts as those already described. The description of that part is omitted. As shown in the figure, this capacitor built-in wiring board has truncated cone-shaped interlayer connectors 103 and 104 whose axial directions coincide with the layer direction as interlayer connectors instead of the conductive bumps 73 and 74 of FIG. It is. The frustoconical interlayer connectors 103 and 104 are empty inside, and are therefore recessed when viewed from above.

このような構造は、例えば、次のような工程により製造することができる。図1(a)から図2(b)までに示した工程は同じである。続いて、図5に示した実施形態と同様に工程を進め、絶縁層75、76の所定位置をレーザ加工し、パターン形成された内部の銅層12a、33aに達するビアホールを形成する。このレーザ加工に際してビアホールが円錐台状の除去形状となるように加工調整する。   Such a structure can be manufactured by the following processes, for example. The steps shown in FIGS. 1A to 2B are the same. Subsequently, the process proceeds in the same manner as in the embodiment shown in FIG. 5, and predetermined positions of the insulating layers 75 and 76 are laser processed to form via holes reaching the patterned copper layers 12a and 33a. In this laser processing, processing is adjusted so that the via hole has a truncated cone shape.

次に、各ビアホールの内壁に導電性のめっき層(金属層)を形成し、層間接続体103、104とする。この形成には、例えば、周知の、無電解めっきおよび電解めっきの2段階めっき層形成方法を使用することができる。最後に、最外層である銅箔を周知の例えばフォトリソグラフィ法を利用してエッチング加工し配線パターン(第2の配線層)71a、72aを形成する。この実施形態は、図5に示した実施形態と同様に層間接続体103、104の直上を、部品実装ランドやさらに積層する場合の層間接続体の配置位置などとして使用する場合に向かないが、製造工程として簡易である。   Next, a conductive plating layer (metal layer) is formed on the inner wall of each via hole to obtain interlayer connectors 103 and 104. For this formation, for example, a well-known two-step plating layer forming method of electroless plating and electrolytic plating can be used. Finally, the copper foil which is the outermost layer is etched using a known photolithography method, for example, to form wiring patterns (second wiring layers) 71a and 72a. As in the embodiment shown in FIG. 5, this embodiment is not suitable for the case where the portion immediately above the interlayer connection bodies 103 and 104 is used as a component mounting land or an arrangement position of the interlayer connection body when further stacking. It is simple as a manufacturing process.

本発明の一実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子の製造過程を模式的断面で示す工程図。The process drawing which shows the manufacturing process of the capacitor built-in wiring board which concerns on one Embodiment of this invention, and a wiring board built-in type capacitor element in a typical cross section. 図1の続図であって、本発明の一実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子の製造過程を模式的断面で示す工程図。FIG. 2 is a continuation diagram of FIG. 1, and is a process diagram schematically showing a manufacturing process of a capacitor built-in wiring board and a wiring board built-in capacitor element according to an embodiment of the present invention. 図2の続図であって、本発明の一実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子の製造過程を模式的断面で示す工程図。FIG. 3 is a continuation diagram of FIG. 2, and is a process diagram schematically showing a manufacturing process of the capacitor built-in wiring board and the wiring board built-in capacitor element according to one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板および配線板内蔵型キャパシタ素子の模式的構成を示す断面図。1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a capacitor built-in wiring board and a wiring board built-in capacitor element according to an embodiment of the present invention. 本発明の別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板の模式的構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the typical structure of the wiring board with a built-in capacitor which concerns on another embodiment of this invention. 本発明のさらに別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板の模式的構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the typical structure of the wiring board with a built-in capacitor which concerns on another embodiment of this invention. 本発明のさらに別の実施形態に係るキャパシタ内蔵配線板の模式的構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the typical structure of the wiring board with a built-in capacitor which concerns on another embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,2,3…両面銅張り誘電体樹脂シート、4,5…高比誘電率樹脂シート、11,21,31…誘電体樹脂層、12,13,22,23,32,33…銅箔(銅層)、12a,13a,22a,23a,32a,33a…パターン形成された銅層、14,24,34…バンプ(層間接続体)、41,51…バンプ、71,72…銅箔、71a,72a…配線パターン、73,74…導電性バンプ、75,76…絶縁層、83,84…導電性組成物充填による層間接続体、93,94…導電性組成物充填による層間接続体、103,104…めっきによる層間接続体。   1, 2, 3 ... double-sided copper-clad dielectric resin sheet, 4, 5 ... high relative dielectric constant resin sheet, 11, 21, 31 ... dielectric resin layer, 12, 13, 22, 23, 32, 33 ... copper foil (Copper layer), 12a, 13a, 22a, 23a, 32a, 33a ... patterned copper layer, 14, 24, 34 ... bump (interlayer connection), 41, 51 ... bump, 71, 72 ... copper foil, 71a, 72a ... wiring pattern, 73, 74 ... conductive bump, 75, 76 ... insulating layer, 83, 84 ... interlayer connection filled with conductive composition, 93, 94 ... interlayer connection filled with conductive composition, 103, 104 ... Interlayer connection by plating.

Claims (13)

配線板としての板基材である第1の誘電体樹脂層と、
前記第1の誘電体樹脂層上に位置する第1の電極板と、
前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第2の電極板と、
前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第2の電極板とは電気的に独立の第1の配線パターンと、
前記第1の誘電体樹脂層上に、前記第2の電極板および前記第1の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第2の誘電体樹脂層と、
前記第2の誘電体樹脂層の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第3の電極板と、
前記第2の誘電体樹脂層上の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第3の電極板とは電気的に独立の第2の配線パターンと、
前記第2の誘電体樹脂層上に、前記第3の電極板および前記第2の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第3の誘電体樹脂層と、
前記第3の誘電体樹脂層の、前記第3の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第4の電極板と、
前記第1の配線パターンを中継して前記第1、第3の電極板を電気的につなげるように、前記第1、第2の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第1、第2の層間接続体と、
前記第2の配線パターンを中継して前記第2、第4の電極板を電気的につなげるように、前記第2、第3の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第3、第4の層間接続体と、を具備し、
前記第2の電極板が、前記第1の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置し、
前記第3の電極板が、前記第3の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置していること
を特徴とするキャパシタ内蔵配線板。
A first dielectric resin layer which is a board substrate as a wiring board ;
A first electrode plate located on the first dielectric resin layer;
A second electrode plate located on the surface of the first dielectric resin layer opposite to the surface on which the first electrode plate is located;
First electrically independent of the second electrode plate, which is located on the surface of the first dielectric resin layer opposite to the surface on which the first electrode plate is located. Wiring pattern of
A second dielectric resin layer, which is a board substrate as the wiring board, laminated on the first dielectric resin layer so as to sandwich the second electrode plate and the first wiring pattern; ,
A third electrode plate located on the surface of the second dielectric resin layer opposite to the surface on which the second electrode plate is located;
A second electrically independent of the third electrode plate, which is located on the surface of the second dielectric resin layer opposite to the surface on which the second electrode plate is located. Wiring pattern of
A third dielectric resin layer, which is a board substrate as the wiring board, laminated on the second dielectric resin layer so as to sandwich the third electrode plate and the second wiring pattern; ,
A fourth electrode plate located on the surface of the third dielectric resin layer opposite to the surface on which the third electrode plate is located;
First and second interlayers respectively penetrating the first and second dielectric resin layers so as to relay the first wiring pattern and electrically connect the first and third electrode plates. Connected body,
Third and fourth layers that respectively penetrate the second and third dielectric resin layers so as to electrically connect the second and fourth electrode plates through the second wiring pattern. A connection body,
The second electrode plate is located in a convex shape on the second dielectric resin layer side instead of on the first dielectric resin layer side;
The wiring board with a built-in capacitor , wherein the third electrode plate is located in a convex shape on the second dielectric resin layer side, not on the third dielectric resin layer side .
前記第1、第2、第3、第4の層間接続体が、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化している形状であることを特徴とする請求項1記載のキャパシタ内蔵配線板。 Each of the first, second, third, and fourth interlayer connectors is made of a conductive composition, and has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that changes in the direction of the axis. The capacitor built-in wiring board according to claim 1, wherein: 前記第1、第2、第3、第4の層間接続体が、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化していない形状であることを特徴とする請求項1記載のキャパシタ内蔵配線板。 Each of the first, second, third, and fourth interlayer connectors is made of a conductive composition and has an axis that coincides with the layer direction and the diameter does not change in the direction of the axis. The capacitor built-in wiring board according to claim 1, wherein: 前記第1、第2、第3、第4の層間接続体が、それぞれ、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有する柱状または錐台状の形状であることを特徴とする請求項1記載のキャパシタ内蔵配線板。 The first, second, third, and fourth interlayer connectors are each made of metal and have a columnar or frustum shape having an axis that coincides with the layer direction. The capacitor built-in wiring board according to 1. 前記第1の電極板を含んでいる配線層と、
前記配線層の前記第1の誘電体樹脂層の設けられた側とは反対の側に積層された絶縁層と、
前記絶縁層の前記配線層が位置する側とは反対の側に積層された第2の配線層と、
前記絶縁層を貫通して前記配線層と前記第2の配線層とを層間接続する第の層間接続体と
をさらに具備することを特徴とする請求項1記載のキャパシタ内蔵配線板。
A wiring layer including the first electrode plate ;
An insulating layer laminated on the side opposite from said wiring layer, provided with the said first dielectric resin layer side,
A second wiring layer above the insulating layer, the side where the wiring layer is located which is laminated on the opposite side,
The capacitor built-in wiring board according to claim 1, further comprising: a fifth interlayer connection body that connects the wiring layer and the second wiring layer through the insulating layer.
前記第の層間接続体が、パターンとして除去のない部位の前記配線層と、パターンとして除去のない部位の前記第2の配線層とを層間接続していることを特徴とする請求項5記載のキャパシタ内蔵配線板。 6. The fifth interlayer connector connects the wiring layer in a portion not removed as a pattern and the second wiring layer in a portion not removed as a pattern. Capacitor built-in wiring board. 前記第の層間接続体が、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化している形状であることを特徴とする請求項6記載のキャパシタ内蔵配線板。 7. The fifth interlayer connector is made of a conductive composition, and has a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that changes in the direction of the axis. Capacitor built-in wiring board. 前記第の層間接続体が、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化していない形状であることを特徴とする請求項6記載のキャパシタ内蔵配線板。 The fifth interlayer connector is made of a conductive composition and has a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that does not change in the direction of the axis. Capacitor built-in wiring board. 前記第の層間接続体が、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有する柱状または錐台状の形状であることを特徴とする請求項6記載のキャパシタ内蔵配線板。 7. The capacitor built-in wiring board according to claim 6, wherein the fifth interlayer connection body is made of metal and has a columnar or frustum shape having an axis coinciding with the layer direction. 前記第の層間接続体が、導電性組成物からなり、かつ、軸の方向が層方向に一致する円柱状の形状であることを特徴とする請求項5記載のキャパシタ内蔵配線板。 6. The capacitor built-in wiring board according to claim 5 , wherein the fifth interlayer connection body is made of a conductive composition and has a cylindrical shape whose axis direction coincides with the layer direction. 前記第の層間接続体が、金属からなり、かつ、軸の方向が層方向に一致する円錐台状の形状であり前記円錐台の内部が空であることを特徴とする請求項5記載のキャパシタ内蔵配線板。 6. The fifth interlayer connector is made of metal, has a truncated cone shape in which an axial direction coincides with a layer direction, and the inside of the truncated cone is empty. Capacitor built-in wiring board. 前記第の層間接続体が、前記配線層のうち前記第1の電極板である部位を、前記第2の配線層への層間接続における接続部位としていることを特徴とする請求項5記載のキャパシタ内蔵配線板。 6. The fifth interlayer connection body, wherein a portion of the wiring layer that is the first electrode plate serves as a connection portion in an interlayer connection to the second wiring layer. Capacitor built-in wiring board. 配線板としての板基材である第1の誘電体樹脂層と、
前記第1の誘電体樹脂層上に位置する第1の電極板と、
前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第2の電極板と、
前記第1の誘電体樹脂層上の、前記第1の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第2の電極板とは電気的に独立の第1の配線パターンと、
前記第1の誘電体樹脂層上に、前記第2の電極板および前記第1の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第2の誘電体樹脂層と、
前記第2の誘電体樹脂層の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第3の電極板と、
前記第2の誘電体樹脂層上の、前記第2の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する、前記第3の電極板とは電気的に独立の第2の配線パターンと、
前記第2の誘電体樹脂層上に、前記第3の電極板および前記第2の配線パターンを挟むように積層された、前記配線板としての板基材である第3の誘電体樹脂層と、
前記第3の誘電体樹脂層の、前記第3の電極板が位置する側の面とは反対の側の面上に位置する第4の電極板と、
前記第1の配線パターンを中継して前記第1、第3の電極板を電気的につなげるように、前記第1、第2の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第1、第2の層間接続体と、
前記第2の配線パターンを中継して前記第2、第4の電極板を電気的につなげるように、前記第2、第3の誘電体樹脂層をそれぞれ貫通する、第3、第4の層間接続体と、を具備し、
前記第2の電極板が、前記第1の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置し、
前記第3の電極板が、前記第3の誘電体樹脂層の側ではなく前記第2の誘電体樹脂層の側に凸状に位置していること
を特徴とする配線板内蔵型キャパシタ素子。
A first dielectric resin layer which is a board substrate as a wiring board ;
A first electrode plate located on the first dielectric resin layer;
A second electrode plate located on the surface of the first dielectric resin layer opposite to the surface on which the first electrode plate is located;
First electrically independent of the second electrode plate, which is located on the surface of the first dielectric resin layer opposite to the surface on which the first electrode plate is located. Wiring pattern of
A second dielectric resin layer, which is a board substrate as the wiring board, laminated on the first dielectric resin layer so as to sandwich the second electrode plate and the first wiring pattern; ,
A third electrode plate located on the surface of the second dielectric resin layer opposite to the surface on which the second electrode plate is located;
A second electrically independent of the third electrode plate, which is located on the surface of the second dielectric resin layer opposite to the surface on which the second electrode plate is located. Wiring pattern of
A third dielectric resin layer, which is a board substrate as the wiring board, laminated on the second dielectric resin layer so as to sandwich the third electrode plate and the second wiring pattern; ,
A fourth electrode plate located on the surface of the third dielectric resin layer opposite to the surface on which the third electrode plate is located;
First and second interlayers respectively penetrating the first and second dielectric resin layers so as to relay the first wiring pattern and electrically connect the first and third electrode plates. Connected body,
Third and fourth layers that respectively penetrate the second and third dielectric resin layers so as to electrically connect the second and fourth electrode plates through the second wiring pattern. A connection body,
The second electrode plate is located in a convex shape on the second dielectric resin layer side instead of on the first dielectric resin layer side;
The wiring board built-in type capacitor element , wherein the third electrode plate is located on the second dielectric resin layer side instead of the third dielectric resin layer side .
JP2004173555A 2004-06-11 2004-06-11 Wiring board with built-in capacitor, capacitor element with built-in wiring board Expired - Fee Related JP4515160B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004173555A JP4515160B2 (en) 2004-06-11 2004-06-11 Wiring board with built-in capacitor, capacitor element with built-in wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004173555A JP4515160B2 (en) 2004-06-11 2004-06-11 Wiring board with built-in capacitor, capacitor element with built-in wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005353868A JP2005353868A (en) 2005-12-22
JP4515160B2 true JP4515160B2 (en) 2010-07-28

Family

ID=35588067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004173555A Expired - Fee Related JP4515160B2 (en) 2004-06-11 2004-06-11 Wiring board with built-in capacitor, capacitor element with built-in wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4515160B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2367407A1 (en) * 2008-10-30 2011-09-21 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Multilayer wiring substrate and method for producing same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001007250A (en) * 1999-06-25 2001-01-12 Ibiden Co Ltd Package substrate
JP2001168491A (en) * 1999-12-09 2001-06-22 Toshiba Corp Printed wiring board, and manufacturing method therefor
JP2002043506A (en) * 2000-07-31 2002-02-08 North:Kk Wiring circuit board and its manufacturing method and semiconductor integrated circuit device and its manufacturing method
JP2002344106A (en) * 2001-05-16 2002-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Board with built-in circuit components and its manufacturing method
JP2004119483A (en) * 2002-09-24 2004-04-15 Toppan Printing Co Ltd Board having built-in element

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001007250A (en) * 1999-06-25 2001-01-12 Ibiden Co Ltd Package substrate
JP2001168491A (en) * 1999-12-09 2001-06-22 Toshiba Corp Printed wiring board, and manufacturing method therefor
JP2002043506A (en) * 2000-07-31 2002-02-08 North:Kk Wiring circuit board and its manufacturing method and semiconductor integrated circuit device and its manufacturing method
JP2002344106A (en) * 2001-05-16 2002-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Board with built-in circuit components and its manufacturing method
JP2004119483A (en) * 2002-09-24 2004-04-15 Toppan Printing Co Ltd Board having built-in element

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005353868A (en) 2005-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100534966B1 (en) Print wiring substrate and manufacturing method thereof and semiconductor device
JP5188256B2 (en) Capacitor component manufacturing method
JP4935139B2 (en) Multilayer printed wiring board
US7548432B2 (en) Embedded capacitor structure
US20120055706A1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
JP2012028730A (en) Multi layer circuit board and method of manufacturing the same
JP3956851B2 (en) Passive element embedded substrate and manufacturing method thereof
JPWO2007135737A1 (en) Component built-in wiring board, method of manufacturing component built-in wiring board
JP4515160B2 (en) Wiring board with built-in capacitor, capacitor element with built-in wiring board
JP4657870B2 (en) Component built-in wiring board, method of manufacturing component built-in wiring board
JP4536413B2 (en) Capacitor built-in wiring board and method for manufacturing capacitor built-in wiring board
WO2014174710A1 (en) Multi-layer wiring board, manufacturing method for same, and probe-card-use substrate
JP4305088B2 (en) Capacitor and manufacturing method thereof, interposer or printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2007053206A (en) Electronic component and manufacturing method thereof
WO2017069093A1 (en) Multilayer ceramic substrate and method for manufacturing same
JP5761404B2 (en) Manufacturing method of wiring board with built-in electronic components
JP4541051B2 (en) Resistance element built-in wiring board and manufacturing method of resistance element built-in wiring board
JP5448354B2 (en) Wiring board and manufacturing method thereof
KR101018100B1 (en) Multilayer ceramic substrate, Method of forming conductive vias having multi-electrode and Method of fabricating multilayer ceramic substrate using the same
JP4588358B2 (en) Manufacturing method of capacitor built-in wiring board
JP4515477B2 (en) Method for manufacturing wiring board with passive element
JP5516608B2 (en) Manufacturing method of ceramic laminated substrate
JP2009129933A (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP4978709B2 (en) Electronic component built-in wiring board
JP5003226B2 (en) Electrolytic capacitor sheet, wiring board, and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20060215

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20060215

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070423

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091023

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100511

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100512

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees