JP4514146B2 - 周期分極反転光導波路素子の製造方法 - Google Patents

周期分極反転光導波路素子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4514146B2
JP4514146B2 JP2005157794A JP2005157794A JP4514146B2 JP 4514146 B2 JP4514146 B2 JP 4514146B2 JP 2005157794 A JP2005157794 A JP 2005157794A JP 2005157794 A JP2005157794 A JP 2005157794A JP 4514146 B2 JP4514146 B2 JP 4514146B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
region
axis
crystal film
metal oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005157794A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006330623A (ja
Inventor
方省 赤澤
勝 嶋田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP2005157794A priority Critical patent/JP4514146B2/ja
Publication of JP2006330623A publication Critical patent/JP2006330623A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4514146B2 publication Critical patent/JP4514146B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Description

本発明は、光通信や光エレクトロニクスなどにおいて第2高調波発生素子として用いられる周期分極反転光導波路素子の製造方法に関するものである。
LiNbO3やLiTaO3などの結晶の大きな非線形光学効果を利用した波長変換素子が実用化されている。特に、周期的に分極方向が反転したドメイン(分極の揃った領域)を配列することにより、1次光とこの2倍の周波数の光(SHG光)の擬位相整合を取ることを原理とする周期分極反転素子は、安価な短波長光源としての地位を確立している。このような第2高調波を発生させる周期分極反転素子の多くにおいては、これまで、LiNbO3やLiTaO3などのZカットの結晶がベースとして用いられてきた。
これらの結晶を用いて周期的に分極が反転した状態を形成するために、初期の頃には、Ti原子の拡散(非特許文献1参照)やプロトン交換(非特許文献2,非特許文献3参照)が利用されていた。また、この後、電界印加により周期的に分極が反転した状態を形成する方法も開発されている(非特許文献4,非特許文献5,非特許文献6参照)。最近では、制御性の良さや結晶自体の性質に与える影響を最小にする目的から、後者の技術が主に使用されている。
ZカットのLiNbO3基板やLiTaO3基板を用いると、結晶の+c面に櫛形電極、-c面にべた電極を密着させ、所定の電圧を印加すれば、容易に上述した周期分極反転構造が得られる。このようにして周期分極反転構造を形成した後、TiやZn原子を拡散して表面から結晶の内部に所定深さまで拡散させ、屈折率を高くしてコアの部分を形成することで、光導波路を形成する。このようにして得られた周期分極反転光導波路では、各ドメインの分極方向は、基板表面に対して垂直な方向(Z方向)となっている。従って、上記光導波路に入射させる光の偏光方向をZ方向と一致させること、即ちTMモードの光を入射すると、非線形光学定数d33を利用できて大きな非線形光学効果が得られ、大きなSHG光の発生が得られるようになる。
ところが、通常市販されているレーザーダイオードから出射する光は、レーザーダイオードが形成されている基板表面に平行な方向に偏光したTEモードの光である。従って、TMモードの入射光を用いる周期分極反転光導波路が形成されることになるZカットの基板を用いたのでは、レーザーダイオードと周期分極反転波長変換素子を共通の基板上に作製することが困難である。
このような問題を解決するための1つの方法として、XカットやYカットの基板を用いることが考えられる。これらの基板を使用すると、c軸方向は基板表面に平行である。表面から数μmの深さに表面と平行な方向に分極軸が並んだ周期分極反転構造を作製した例(非特許文献7,非特許文献8参照)や、3°オフYカット基板もしくは87°オフZカット基板を用い、表面からより深い領域まで到達する周期分極反転構造を作製した例が報告されている(非特許文献9参照)。
E.J.Lim, M.M.Fejer, and R.L.Byer, "SECOND-HARMONIC GENERATION OF GREEN Light IN PERIODICALLY POLED PLANAR LITHIUM NIOBATE WAVEGUIDE", ELECTRONICS LETTERS, Vol.25, No.3, pp.174-175, 1989. K.Mizuuchi and K.Yamamoto, "Highly efficient quasi-phase-matched second-harmonic generation using a first-order periodically domain-inverted LiTaO3 waveguide", Appl. Phys. Lett., Vol.60, No.11, pp.1283-1285, 1992. K.Yamamoto, K.Mizuuchi, Y.Kitaoka, and M.Kato,"High power blue light generation by frequency doubling of a laser diode in a periodically domain-invented LiTaO3 waveguide", Appl. Phys. Lett., Vol.62, No.21, pp.2600-2601, 1993. M.Yamada, N.Nada, M.Saitoh, and K.Watanabe, "First-order quasi-phase matched LiNbO3 waveguide periodically poled by applying an external field for efficient blue second-harmonic generation", Appl. Phys. Lett., Vol.62, No.5, pp.435-436, 1993. J.Webjorn, V.Pruneri, P.St.J.R.M.Barr and D.C.Hanna, "quasi-phase-matched blue light generation in bulk lithium niobate, electrically poled via periodic liquid electroads", ELECTRONICS LETTERS, Vol.30, No.11, pp.894-895, 1994. A.Kuroda, S.Kurimura and Y.Uesu, "Domain inversion in ferroelectric MgO:LiNbO3 by apprying electric fields", Appl. Phys. Lett., Vol.69, No.11, pp.1565-1567, 1996. K.Mizuuchi, K.Yamamoto and H.Sato, "Fabrication of periodic domain inversion in an x-cut LiTaO3", Appl. Phys. Lett., Vol.62, No.16, pp.1860-1862, 1993. S.Sonoda, I.Tsuruma, and M.Hatori, "Second harmonic generation in electric poled X-cut MgO-doped LiNbO3 waveguides", Appl. Phys. Lett., Vol.70, No.23, pp.3078-3080, 1997. S.Sonoda, I.Tsuruma, and M.Hatori, "Second harmonic generation in a domain-inverted MgO-doped LiNbO3 waveguide by using a polarization axis inclined substrate", Appl. Phys. Lett., Vol.71, No.21, pp.3048-3050, 1997.
しかしながら、オフカットの基板を用いる場合、斜めの方向に電界をかけてポーリングすることになるため、印加する電界の方向の制御性があまりよくない。このため、XカットやYカットの基板を用いる場合、作製されるコア部分の形状の再現性に乏しく、またポーリングされる深さも制御しにくいという問題点があった。このように、従来の技術では、製造しやすいZカット基板を用いた周期分極反転光導波路素子では、入手しやすいレーザーダイオードより得られる光(TEモード光)を効率よく利用できず、一方、TEモード光が効率よく利用できる周期分極反転光導波路素子は、製造が容易ではないという問題があった。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、入手しやすい光源の光であっても効率よく利用可能な周期分極反転光導波路素子が、従来より容易に製造できるようにすることを目的とする。
発明に係る周期分極反転光導波路素子の製造方法は、主表面の法線方向が結晶のa軸とされたサファイアからなる基板の上にアモルファス状の金属酸化物からなる金属酸化物薄膜が形成された状態とする第1工程と、金属酸化物薄膜を加熱して、基板の上にa軸に配向した金属酸化物の結晶からなる結晶膜が形成された状態とする第2工程と、結晶膜の上に配置された第1電極と第2電極とを用い、分極の方向がc軸の一方の方向とされた領域が結晶膜に形成された状態とする第3工程と、結晶膜の上に配置された第3電極と第4電極とを用い、c軸に沿った他方の向き分極された部分を所定の間隔を開けて領域に形成することで、c軸に沿った一方の向き分極された第1ドメインと、c軸に沿った他方の向き分極された第2ドメインとが領域に形成された状態とする第4工程と、結晶膜の領域を加工して基板の上にa軸の方向に配向した金属酸化物の結晶からなるコアが形成された状態とする第5工程とを少なくとも備え、第3工程は、結晶膜の上に、対向する各辺が互いに平行な直線形状である第1電極と第2電極を、各辺が一方の向きと垂直になるように、領域を挟んで配置する工程と、第1電極と第2電極に電圧を印加し、結晶膜の領域に電界が印加された状態とすることにより、領域に分極の方向が一方の向きとされた領域を形成する工程とを含み、第4工程は、結晶膜の上に、第1電極と第2電極の直線形状の各辺の一方を直線形状のままとし、他方を櫛形形状に置き換えた形状の第3電極と第4電極を、領域を挟んで配置する工程と、第3電極と第4電極に電圧を印加し、結晶膜の領域における電極間の短い箇所のみに分極の方向を一方の向きから他方の向きに反転させる電界が印加された状態とすることにより、領域の電極間の短い箇所に第2ドメインが形成され、領域の電極間の長い箇所に第1ドメインが形成された状態とする工程とを含み、金属酸化物は、LiNbO3,LiTaO3,MgOが添加されたLiNbO3,及びMgOが添加されたLiTaO3の少なくとも1つから構成され、コアは、c軸に沿った一方の向き分極された第1ドメインと、c軸に沿った他方の向き分極された第2ドメインとが、コアよりなる光導波路の導波方向に交互に配列された状態に形成されるようにしたものである。
以上説明したように、本発明によれば、主表面の法線方向が結晶のa軸とされたサファイアからなる基板の上に、a軸の方向に配向した状態で、LiNbO3,LiTaO3,MgOが添加されたLiNbO3,及びMgOが添加されたLiTaO3の少なくとも1つから構成されたコアを形成するようにしたので、入手しやすい光源の光であっても効率よく利用可能な周期分極反転光導波路素子が、従来より容易に製造できるようになるという優れた効果が得られる。
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態における周期分極反転光導波路素子の構成例を概略的に示す斜視図である。図1に示す周期分極反転光導波路素子は、サファイア(酸化アルミニウム結晶)A面基板101と、この上に形成されてa軸方向に配向したLiNbO3の結晶からなるコア102とから構成されたものである。コア102は、例えばリッジ状に形成されて所定の方向に延在し、コア102は、断面の形状が幅2μm,高さ1μm程度に形成されている。
従って、コア102は、この延在方向(m軸)及びサファイアA面基板101の法線方向(a軸)の両方に垂直な基板平面方向がc軸とされている。また、コア102は、図1の紙面においてc軸に沿った右方向(一方の向き)に分極されたドメイン121と、c軸に沿った左方向(他方の向き)に分極されたドメイン122とが、交互に配列されて構成され、周期分極反転構造とされている。コア102の幅や、コア102よりなる光導波路の光の導波方向のドメイン121,ドメイン122の長さ(配列周期)は、導波する光の基本波と第2高調波の位相が、擬似的に整合するように設定されていればよい。なお、サファイアA面基板101がクラッドとなる。サファイアA面基板101とLiNbO3との屈折率差は充分に大きく、コア102よりなる光導波路においては、伝播する光を効率的に閉じこめることが可能である。
図1に示す周期分極反転光導波路素子によれば、各ドメイン121,ドメイン122の分極方向は、基板表面に対して水平な方向となっている。従って、図1に示す素子によれば、コア102による光導波路に入射させる光の偏光方向を基板表面に対して水平な方向と一致させること、即ちTEモードの光を入射すると、非線形光学定数d33を利用できて大きな非線形光学効果が得られ、大きなSHG光の発生が得られるようになる。このため、入手しやすいレーザーダイオードより得られる光(TEモード光)を効率よく利用できるようになる。
次に、図1に示す素子の製造方法例について説明する。まず、図2(a)に示すように、主表面の法線方向が結晶のa軸とされたサファイアA面基板101を用意し、用意したサファイアA面基板101の上に、例えば酸素を供給しながら成膜を行う反応性スパッタ法によりアモルファス状態のLiNbO3からなる膜厚1μm程度の金属酸化物薄膜201が形成された状態とする。例えば、LiNbO3をターゲット(焼結体ターゲット)として備えたECRプラズマスパッタ装置(以下「ECRスパッタ装置」)を用い、反応性ガスとして酸素が供給されている状態とし、基板温度を例えば250℃以下という低温にしてスパッタリングすることにより、アモルファス状態のLiNbO3からなる金属酸化物薄膜201が形成されるようになる。
なお、ECRスパッタ装置を用いた成膜時に供給する酸素の分圧を変えると、形成している金属酸化物薄膜201におけるLi,Nb及びO組成が変化する。LiとNbとOとの組成比を1:1:3にするためには、最適な酸素の分圧で成膜を行えばよい。なお、最適な酸素分圧は、プラズマを生成するためのマイクロ波のパワー、ターゲットへ投入するRFパワー、装置(成膜室)の排気速度などにより決定され、個々の装置によって異なる。一例を挙げると、マイクロ波のパワーが500W、ターゲットへ投入するRFパワーを500W、排気速度が毎秒1000リットルの条件下では、酸素分圧を10-2Paとすればよい。
次に、形成した金属酸化物薄膜201を、例えば320℃、より好適には400℃以上に加熱して結晶化させ、図2(b)に示すように、サファイアA面基板101の上に、a軸に配向したLiNbO3からなる結晶膜202が形成された状態とする。この加熱は、例えば真空中で行えばよい。ここで、加熱により結晶化された結晶膜202においては、図2(b’)の平面図に太い矢印で示すように、180°異なる分極方向の複数のドメインが存在している。
次に、図2(c),図2(c’)に示すように、電極221及び電極222が、結晶膜202の上に配置(密着)された状態とし、電極221を負,電極222を正とし、両電極間に結晶膜202の分極の方向を反転させるために必要な電界(抗電界)以上の電界が印加された状態とする。図2(c)に示すように、両電極からの電界(電気力線)の一部がサファイアA面基板101に及び、電極間の領域の結晶膜202においては、電極222から電極221に向かう方向に分極の方向が揃い、均一にポーリング(分極処理)された状態となる。
ここで、電極221及び電極222について説明する。例えば、公知のリソグラフィー技術により、各電極形成領域に開口部を備えたレジストパターンが、結晶膜202の上に形成された状態とし、この上から金属材料を堆積(蒸着)して金属膜が形成された状態とし、この後レジストパターンを除去(リフトオフ)することで、電極221及び電極222が形成された状態が得られる。また、電極221及び電極222が形成されたマスク(電極治具)を別途に用意し、この基板の電極形成面を結晶膜202に押し付けることでも、図2(c)に示す、結晶基板202の上に電極221及び電極222が配置(密着)された状態が得られる。
前者の、結晶膜202に直接電極が形成された状態とする場合、ポーリングの後に、各電極が除去された状態とする必要がある。しかし、基板のたわみや結晶膜202の膜厚に分布が発生していても、結晶膜202と各電極との位置関係が正確に固定されるため、確実なポーリングが可能となる。これに対し、電極治具を利用する場合は、結晶膜202に対する各電極の着脱が容易であり、電極が再利用が可能であるが、電極治具の各電極形成面や、サファイアA面基板101に高い平坦性が要求されるようになる。
以上のようにして、結晶膜202の分極方向を揃えた後、図3(d),図3(d’)に示すように、櫛形電極223及び電極224が、結晶膜202の上に配置(密着)された状態とする。ここで、図3(d’)に示すように、櫛形電極223と電極224との間では、電極間の短い箇所と電極間の長い箇所とが等しい間隔で交互に配列されている。図3(d)は、電極間の短い箇所の断面を示している。
このように各電極が配置された状態で、電極224を負,櫛形電極223を正とし、電極間の短い箇所における結晶膜202の分極の方向を反転させるために必要な電界(抗電界)以上の電界が、両電極間に印加された状態とする。このポーリングにより、電極間の短い箇所では、分極の方向が180°変更され、電極間の長い箇所では、分極の方向が変更されない。この結果、分極の方向が180°異なる2つのドメインが、等しい間隔で交互に配列された状態が得られる。
上述したように周期分極反転構造が得られたら、結晶膜202の上より櫛形電極223及び電極224が除去された状態とした後、結晶膜202を加工することで、図3(e),図3(e’)に示すように、サファイアA面基板101の上にコア102が形成された状態とする。例えば、まず、公知のリソグラフィー技術を用いてコア102となる領域にメタルパターンが形成された状態とする。図3(d’)において、電極224から櫛形電極223のより近い部分までの帯状の領域が、コア102となる領域である。
次に、形成されたメタルパターンをマスクとしてフッ化炭素や三フッ化メタンなどのエッチングガスを用いたドライエッチングにより結晶膜202を選択的にエッチングすることで、コア102が形成可能である。このドライエッチングによれば、酸化アルミニウムがほとんどエッチングされないので、サファイアA面基板101の表面が露出した段階で、ほぼ自動的にエッチングを停止させることができる。
ここで、従来より、サファイアC面基板の上にc軸配向したLiNbO3膜を形成する技術が提案されている。この場合、形成したLiNbO3膜をポーリングしようとすると、基板の法線方向に電界が印加された状態とすることになるが、サファイア基板はきわめて絶縁性が高いため、この基板の法線方向に電界を印加して分極を行うことは、非常に困難である。これに対し、サファイアA面基板101の上にa軸配向して形成された結晶膜202によれば、基板の平面方向に電界を印加すればポーリングできるため、容易にポーリングすることが可能である。また、結晶膜202は、膜厚1μm程度にサファイアA面基板101の上に形成されているため、結晶膜202の深さ方向に界面までがポーリングの対象となり、深さ方向に均一なポーリングが容易に可能である。
なお、上述では、コア102がLiNbO3から構成されている場合について説明したが、これに限るものではなく、コア102がLiTaO3から構成されていてもよい。また、MgOが添加されたLiNbO3及びMgOが添加されたLiTaO3からコア102が形成されていてもよい。例えば、LiTaO3の焼結体ターゲットを用いた前述同様の反応性スパッタ法により、サファイアA面基板101の上にアモルファス状態のLiTaO3からなる金属酸化物薄膜201の形成が可能である。また、アモルファス状態のLiTaO3からなる金属酸化物薄膜201を400℃以上に加熱することで、サファイアA面基板101の上にa軸配向したLiTaO3の結晶からなる結晶膜202が形成可能である。
また、所望の量のMgOが添加されたLiNbO3の焼結体ターゲットを用いた前述同様の反応性スパッタ法により、サファイアA面基板101の上にMgOが添加されたアモルファス状態のLiNbO3からなる金属酸化物薄膜201の形成が可能である。また、MgOが添加されたアモルファス状態のLiNbO3からなる金属酸化物薄膜201を400℃以上に加熱することで、サファイアA面基板101の上に、MgOが添加されたLiNbO3のa軸配向した結晶からなる結晶膜202が形成可能である。同様に、所望の量のMgOが添加されたLiTaO3の焼結体ターゲットを用いた前述同様の反応性スパッタ法により、サファイアA面基板101の上にMgOが添加されたアモルファス状態のLiTaO3からなる金属酸化物薄膜201の形成が可能である。また、MgOが添加されたアモルファス状態のLiTaO3からなる金属酸化物薄膜201を400℃以上に加熱することで、サファイアA面基板101の上に、MgOが添加されたLiTaO3のa軸配向した結晶からなる結晶膜202が形成可能である。
本発明の実施の形態における周期分極反転光導波路素子の構成例を概略的に示す斜視図である。 図1に示す素子の製造方法例について説明する説明図である。 図1に示す素子の製造方法例について説明する説明図である。
符号の説明
101…サファイア(酸化アルミニウム結晶)A面基板、102…コア、121,122…ドメイン、201…金属酸化物薄膜、202…結晶膜、221,222…電極、223…櫛形電極、224…電極。

Claims (1)

  1. 主表面の法線方向が結晶のa軸とされたサファイアからなる基板の上にアモルファス状の金属酸化物からなる金属酸化物薄膜が形成された状態とする第1工程と、
    前記金属酸化物薄膜を加熱して、前記基板の上に前記a軸に配向した前記金属酸化物の結晶からなる結晶膜が形成された状態とする第2工程と、
    前記結晶膜の上に配置された第1電極と第2電極とを用い、分極の方向がc軸に沿った一方の向きとされた領域が前記結晶膜に形成された状態とする第3工程と、
    前記結晶膜の上に配置された第3電極と第4電極とを用い、前記c軸に沿った他方の向き分極された部分を所定の間隔を開けて前記領域に形成することで、c軸に沿った一方の向きに分極された第1ドメインと、c軸に沿った他方の向き分極された第2ドメインとが前記領域に形成された状態とする第4工程と、
    前記結晶膜の前記領域を加工して前記基板の上に前記a軸の方向に配向した金属酸化物の結晶からなるコアが形成された状態とする第5工程と
    を少なくとも備え、
    前記第3工程は、
    前記結晶膜の上に、対向する各辺が互いに平行な直線形状である第1電極と第2電極を、前記各辺が前記一方の向きと垂直になるように、前記領域を挟んで配置する工程と、
    前記第1電極と前記第2電極に電圧を印加し、前記結晶膜の前記領域に電界が印加された状態とすることにより、前記領域に分極の方向が前記一方の向きとされた領域を形成する工程とを含み、
    前記第4工程は、
    前記結晶膜の上に、前記第1電極と前記第2電極の直線形状の前記各辺の一方を直線形状のままとし、他方を櫛形形状に置き換えた形状の第3電極と第4電極を、前記領域を挟んで配置する工程と、
    前記第3電極と前記第4電極に電圧を印加し、前記結晶膜の前記領域における電極間の短い箇所のみに分極の方向を前記一方の向きから前記他方の向きに反転させる電界が印加された状態とすることにより、前記領域の前記電極間の短い箇所に前記第2ドメインが形成され、前記領域の前記電極間の長い箇所に前記第1ドメインが形成された状態とする工程とを含み、
    前記金属酸化物は、LiNbO3,LiTaO3,MgOが添加されたLiNbO3,及びMgOが添加されたLiTaO3の少なくとも1つから構成され、
    前記コアは、c軸に沿った一方の向きに分極された第1ドメインと、c軸に沿った他方の向き分極された第2ドメインとが、前記コアよりなる光導波路の導波方向に交互に配列された状態に形成される
    ことを特徴とする周期分極反転光導波路素子の製造方法。
JP2005157794A 2005-05-30 2005-05-30 周期分極反転光導波路素子の製造方法 Expired - Fee Related JP4514146B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005157794A JP4514146B2 (ja) 2005-05-30 2005-05-30 周期分極反転光導波路素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005157794A JP4514146B2 (ja) 2005-05-30 2005-05-30 周期分極反転光導波路素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006330623A JP2006330623A (ja) 2006-12-07
JP4514146B2 true JP4514146B2 (ja) 2010-07-28

Family

ID=37552331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005157794A Expired - Fee Related JP4514146B2 (ja) 2005-05-30 2005-05-30 周期分極反転光導波路素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4514146B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022112261A (ja) * 2021-01-21 2022-08-02 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 光学素子、光学装置、および、光学素子の製造方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05232538A (ja) * 1992-02-21 1993-09-10 Pioneer Electron Corp 波長変換素子およびその製造方法
JP2000106036A (ja) * 1998-09-28 2000-04-11 Fuji Xerox Co Ltd 強誘電体薄膜、及びその製造方法
JP2000241842A (ja) * 1999-02-19 2000-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光波長変換素子および短波長光発生装置
JP2002040500A (ja) * 2000-07-24 2002-02-06 Hitachi Metals Ltd 光波長変換素子およびその作製方法
JP2002162658A (ja) * 2000-11-22 2002-06-07 Fuji Photo Film Co Ltd 光導波路素子及び光波長変換装置
JP2004059341A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> LiNbO3配向性薄膜形成方法
JP2004244703A (ja) * 2003-02-17 2004-09-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> LiNbO3配向性薄膜形成方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05232538A (ja) * 1992-02-21 1993-09-10 Pioneer Electron Corp 波長変換素子およびその製造方法
JP2000106036A (ja) * 1998-09-28 2000-04-11 Fuji Xerox Co Ltd 強誘電体薄膜、及びその製造方法
JP2000241842A (ja) * 1999-02-19 2000-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光波長変換素子および短波長光発生装置
JP2002040500A (ja) * 2000-07-24 2002-02-06 Hitachi Metals Ltd 光波長変換素子およびその作製方法
JP2002162658A (ja) * 2000-11-22 2002-06-07 Fuji Photo Film Co Ltd 光導波路素子及び光波長変換装置
JP2004059341A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> LiNbO3配向性薄膜形成方法
JP2004244703A (ja) * 2003-02-17 2004-09-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> LiNbO3配向性薄膜形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006330623A (ja) 2006-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5036220A (en) Nonlinear optical radiation generator and method of controlling regions of ferroelectric polarization domains in solid state bodies
Sonoda et al. Second harmonic generation in electric poled X-cut MgO-doped LiNbO 3 waveguides
US6952307B2 (en) Electric field poling of ferroelectric materials
JPH08220578A (ja) 分極反転領域の製造方法ならびにそれを利用した光波長変換素子及びその製造方法
US7170671B2 (en) High efficiency wavelength converters
US6926770B2 (en) Method of fabricating two-dimensional ferroelectric nonlinear crystals with periodically inverted domains
JP4646333B2 (ja) 高調波発生装置
JP2000066050A (ja) 光導波路部品の製造方法及び光導波路部品
JP4514146B2 (ja) 周期分極反転光導波路素子の製造方法
JPH07261213A (ja) 分極反転層形成方法及び光波長変換素子
JP3303346B2 (ja) ニオブ酸リチウム及びタンタル酸リチウムの分極制御方法とこれによる光導波路デバイスの製造方法及び光導波路デバイス
JPH06186603A (ja) 分極反転層形成方法
JP3296500B2 (ja) 波長変換素子およびその製造方法
Fejer Nonlinear optical frequency conversion: material requirements, engineered materials, and quasi-phasematching
JP3885939B2 (ja) 光導波路デバイスの製造方法
JP3884197B2 (ja) 分極反転構造の作製方法
WO2002103450A1 (fr) Dispositif de conversion de longueur d&#39;onde et de calcul optique
JP4764964B2 (ja) 微小周期分極反転構造形成方法及び微小周期分極反転構造
JP6019618B2 (ja) 周期的分極反転構造の形成方法及び波長変換素子の形成方法
Parameswaran et al. Highly efficient SHG in buried waveguides formed using annealed and reverse proton exchange in PPLN
JPH10161167A (ja) 光デバイス
JPH04264534A (ja) 波長変換素子の製造方法
Kwon et al. Domain reversal of periodically poled LiNbO3 with a shorter domain inverted period
Johnston Fabrication and characterisation of poled ferroelectric optical crystals
JP3526155B2 (ja) 導波路型光変調素子

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070809

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100202

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100402

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100506

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100507

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 4

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees