JP4505483B2 - 表面特性を決定する装置および方法 - Google Patents
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Description
表面特性を決定する装置(1)であって、
解析されるべき表面(8)上に放射を放つ少なくとも第一の放射デバイス(3)と、
該少なくとも1つの放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である少なくとも第一の測定信号を出力する少なくとも第一の放射検出デバイス(5)と、
該少なくとも1つの放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である少なくとも第二の測定信号を出力する少なくとも1つのさらなる放射検出デバイス(7)と
を備え、
該第一の放射検出デバイス(5)は、該表面によって反射される該放射の方向に対して、第一の所定の角度β1によってオフセットされ、
該さらなる放射検出デバイス(7)は、該表面によって反射される該放射の方向に対して、さらなる所定の角度γ1によってオフセットされ、
該さらなる所定の角度γ1の値と該第一の所定の角度β1の値との間の比が、少なくとも1.5:1であることを特徴とする、装置(1)。
上記さらなる所定の角度γ1の値と上記第一の所定の角度β1の値との間の比が、少なくとも2であり、好ましくは、少なくとも2.5であり、より好ましくは、少なくとも3.0であり、特に好ましくは、約4.0であることを特徴とする、項目1に記載の装置。
上記装置(1)は、上記表面(8)の異なるエリアが解析され得るように、該表面に対して移動され得、
該表面の第一のエリアで記録された第一の測定信号とさらなる測定信号と、該表面の第二のエリアで記録された第一の測定信号とさらなる測定信号とを少なくとも部分的に比較して、この比較に基づいて、該表面の状態に関する少なくとも1つの特徴的な値を出力するプロセッサデバイスが、提供されることを特徴とする、項目1または項目2に記載の装置。
上記測定信号の間の関係は、記録され、この関係は、好ましくは、差または比であることを特徴とする、項目3に記載の装置。
上記表面(8)によって反射される上記放射を吸収する吸収デバイス(11)が、提供されることを特徴とする、項目1〜項目4のいずれか1項に記載の装置。
上記少なくとも1つの放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、上記表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である少なくとも第二の測定信号を出力する、第二の放射検出デバイス(15)が、提供されることを特徴とする、項目1〜項目5のいずれか1項に記載の装置。
上記第二の放射検出デバイス(15)は、上記表面によって反射される上記放射に対して第二の角度β2で配置され、この角度は、上記第一の所定の角度β1と本質的に等しく、相対することを特徴とする、項目6に記載の装置。
上記さらなる測定信号を、少なくとも上記第一の測定信号または上記第二の測定信号と比較して、この比較の特徴的な値を出力するプロセッサデバイスが提供されることを特徴とする、項目7に記載の装置。
表面特性を決定する装置(1)であって、
解析されるべき表面(8)上に放射を放つ少なくとも第一の放射デバイス(3)と、
該少なくとも1つの放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である少なくとも第一の測定信号を出力する少なくとも第一の放射検出デバイス(5)と、
該少なくとも1つの放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である少なくとも第二の測定信号を出力する少なくとも第二の放射検出デバイス(15)と
を備え、
該第一の放射検出デバイス(5)は、該表面によって反射される該放射の方向に対して、第一の所定の角度β1によってオフセットされ、
該第二の放射検出デバイス(15)は、該表面によって反射される該放射に対して、第二の所定の角度β2によってオフセットされ、
該角度β1およびβ2は、本質的に等しく、該表面によって反射される該放射の方向に対して互いに相対することを特徴とする、装置(1)。
上記放射デバイス(3)によって放たれる上記放射が上記表面(8)上に衝突する前に、該放射の強度を測定する強度測定デバイスが、提供されることを特徴とする、項目1〜項目9のいずれか1項に記載の装置。
少なくとも1つの放射検出デバイスは、該放射検出デバイス上に衝突する上記放射の局所的に分解された受け取りが可能であることを特徴とする、項目1〜項目10のいずれか1項に記載の装置。
表面特性を決定する方法であって、
解析されるべき表面(8)上に放射を放つステップと、
第一の放射検出デバイス(5)によって、該表面上に放たれ、該表面によって反射される該放射の少なくとも一部を検出し、この反射される放射に特徴的な第一の信号を出力するステップと、
第二の放射検出デバイス(15)によって、該表面上に放たれ、該表面によって反射される該放射の少なくとも一部を検出し、この反射される放射に特徴的な第二の信号を出力するステップと、
該第一の信号を該第二の信号と比較するステップであって、少なくとも1つの信号は、該表面に対して、該放射デバイス(3)の幾何学的位置を考慮して修正されることを特徴とする、ステップと
を包含する、方法。
項目1〜項目11のいずれか1項に記載の装置が、項目12に記載の方法を実行するために使用されることを特徴とする、方法。
表面特性を決定する方法であって、
解析されるべき表面(8)上に放射を放つステップと、
第一の放射検出デバイス(5)によって、該表面上に放たれ、該表面によって反射される該放射の少なくとも一部を検出し、この反射される放射に特徴的な第一の信号を出力するステップと、
さらなる放射検出デバイス(7)によって、該表面上に放たれ、該表面によって反射される該放射の少なくとも一部を検出し、この反射される放射に特徴的なさらなる信号を出力するステップと、
該第一の信号を該さらなる信号と比較し、この比較の特徴的な値を出力するステップと
を包含する、方法。
上記第一の信号および上記さらなる信号は、各場合において、上記表面の2つの異なるエリアに出力され、
少なくとも1つの表面特性、またはこの特性における変化は、該第一の信号と該さらなる信号との比較から決定されることを特徴とする、項目14に記載の方法。
本発明は、解析されるべき表面(8)上に放射を放つ少なくとも第一の放射デバイス(3)と、該少なくとも1つの放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である少なくとも第一の測定信号を出力する、少なくとも第一の放射検出デバイス(5)と、該少なくとも1つの放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である少なくとも第二の測定信号を出力する、少なくとも第二の放射検出デバイス(15)とを備えている、表面特性を決定する装置(1)に関する。本発明によると、該第一の放射検出デバイス(5)は、該表面によって反射される該放射の方向に対して、第一の所定の角度β1によってオフセットされ、さらなる放射検出デバイス(7)は、該表面によって反射される該放射の方向に対して、さらなる所定の角度γ1によってオフセットされ、該さらなる所定の角度γ1の値と該第一の所定の角度β1の値との間の比が、少なくとも1.5:1である。
3 放射デバイス
5 第一の放射検出デバイス
6 プロセッサデバイス
7 さらなる放射検出デバイス
8 表面
10 光学ブロック
11 吸収デバイス
12、17 レンズ
13 光源
14 絞り
15 第二の放射検出デバイス
16 強度測定デバイス
20 筐体
21 下部筐体領域の開口部
23 表示デバイス
25 装置のホイール
31、33 信号
36a、36b フレーク(ピグメント)
41、42 スペクトル
I0、I1、I2 強度
P、P3 矢印
d1、d2 層の厚さ
α1 放射角
β1、β2、γ1 放射検出器デバイスの角度
M メジアン垂線
Claims (12)
- フレークを含む表面の表面特性を決定する装置(1)であって、
解析されるべき表面(8)上に放射を放つ第一の放射デバイス(3)と、
該放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である第一の測定信号を出力する第一の放射検出デバイス(5)と、
該放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴であるさらなる測定信号を出力する1つのさらなる放射検出デバイス(7)と
を備え、
該第一の放射検出デバイス(5)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、第一の所定の角度β1だけオフセットされ、
該さらなる放射検出デバイス(7)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、さらなる所定の角度γ1だけオフセットされ、
該さらなる所定の角度γ1の値と該第一の所定の角度β1の値との間の比が、少なくとも1.5:1であり、
該装置(1)が、該表面(8)の異なるエリアが解析され得るように、該表面(8)に対して移動され得ることと、
該表面の第一のエリアで記録された第一の測定信号とさらなる測定信号と、該表面の第二のエリアで記録された第一の測定信号とさらなる測定信号とを部分的に比較して、この比較に基づいて、該表面の状態に関する少なくとも1つの特徴的な値を出力することにより測定偏差の異なる原因を決定するプロセッサデバイスが、提供されることとを特徴とする、装置(1)。 - 前記表面(8)によって反射される前記放射を吸収する吸収デバイス(11)が、提供されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、前記表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である第二の測定信号を出力する第二の放射検出デバイス(15)が、提供されることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の装置。
- 前記第一の測定信号と前記第二の測定信号の間の関係は、差または比であることを特徴とする、請求項3に記載の装置。
- 前記第二の放射検出デバイス(15)は、前記表面によって反射される前記放射に対して第二の角度β2で配置され、この角度は、前記第一の所定の角度β1と本質的に等しく、相対することを特徴とする、請求項3に記載の装置。
- フレークを含む表面の表面特性を決定する装置(1)であって、
解析されるべき表面(8)上に放射を放つ第一の放射デバイス(3)と、
該放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である第一の測定信号を出力する第一の放射検出デバイス(5)と、
該放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴である第二の測定信号を出力する第二の放射検出デバイス(15)と
を備え、
該第一の放射検出デバイス(5)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、第一の所定の角度β1だけオフセットされ、
該第二の放射検出デバイス(15)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、第二の所定の角度β2だけオフセットされ、
該角度β1およびβ2は、本質的に等しく、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して互いに相対し、
該装置は、
該放射デバイス(3)によって放たれ、次いで、該表面(8)によって散乱および/または反射される放射の少なくとも一部を受け、該反射および/または散乱された放射の特徴であるさらなる測定信号を出力する1つのさらなる放射検出デバイス(7)をさらに備え、
該さらなる放射検出デバイス(7)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、さらなる所定の角度γ1だけオフセットされ、該さらなる所定の角度γ1の値と該第一の所定の角度β1の値との間の比が、少なくとも1.5:1であり、
該装置(1)が、該表面(8)の異なるエリアが解析され得るように、該表面に対して移動され得ることと、
該表面の第一のエリアで記録された第一の測定信号とさらなる測定信号と、該表面の第二のエリアで記録された第一の測定信号とさらなる測定信号とを部分的に比較して、この比較に基づいて、該表面の状態に関する少なくとも1つの特徴的な値を出力することにより測定偏差の異なる原因を決定するプロセッサデバイスが、提供されることとを特徴とする、装置(1)。 - 前記放射デバイス(3)によって放たれる前記放射が前記表面(8)上に衝突する前に、該放射の強度を測定する強度測定デバイスが、提供されることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つの放射検出デバイスは、該放射検出デバイス上に衝突する前記放射の局所的な強度を検出することを特徴とする、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の装置。
- フレークを含む表面の表面特性を決定する方法であって、
第一の放射デバイスによって、解析されるべき表面(8)上に放射を放つステップと、
第一の放射検出デバイス(5)によって、該表面上に放たれ、該表面によって反射される該放射の少なくとも一部を検出し、この反射される放射に特徴的な第一の信号を出力するステップと、
さらなる放射検出デバイス(7)によって、該表面上に放たれ、該表面によって反射される該放射の少なくとも一部を検出し、この反射される放射に特徴的なさらなる信号を出力するステップであって、該第一の放射検出デバイス(5)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、第一の所定の角度β1だけオフセットされ、該さらなる放射検出デバイス(7)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、さらなる所定の角度γ1だけオフセットされ、該さらなる所定の角度γ1の値と該第一の所定の角度β1の値との間の比が、少なくとも1.5:1である、ステップと、
移動デバイスを用いて、該装置を該表面に対して移動させるステップと、
プロセッサにより、該表面の第一のエリアで記録された該第一の信号および該さらなる信号と該表面の第二のエリアで記録された該第一の信号および該さらなる信号を比較し、この比較の特徴的な値を出力することにより測定偏差の異なる原因を決定するステップと
を包含する、方法。 - 前記第一の信号および前記さらなる信号は、各場合において、前記表面の2つの異なるエリアに出力され、
少なくとも1つの表面特性、またはこの特性における変化は、該第一の信号と該さらなる信号との比較から決定されることを特徴とする、請求項9に記載の方法。 - 第二の放射検出デバイス(15)によって、前記表面上に放たれ、該表面によって反射される前記放射の少なくとも一部を検出し、この反射される放射に特徴的な第二の信号を出力するステップをさらに包含し、該第二の放射検出デバイス(15)は、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して、第二の所定の角度β2だけオフセットされ、前記角度β1およびβ2は、本質的に等しく、該表面によって反射される該放射の正反射方向に対して互いに相対する、請求項9に記載の方法。
- 請求項9〜請求項11のいずれか1項に記載の方法であって、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の装置が、該方法を実行するために使用されることを特徴とする、方法。
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