JP4504671B2 - アルキルボラジン化合物およびその製造方法 - Google Patents
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で表されるハロゲン化ボラジン化合物と、グリニャール試薬とを反応させて、化学式2:
で表されるアルキルボラジン化合物を合成する段階と、合成された前記アルキルボラジン化合物を、3回以上、昇華精製または蒸留精製する段階とを含む、アルキルボラジン化合物の製造方法である。
で表されるハロゲン化ボラジン化合物と、グリニャール試薬とを反応させて、化学式2:
で表されるアルキルボラジン化合物を合成する段階と、合成された前記アルキルボラジン化合物を、水を用いて洗浄する段階とを含む、アルキルボラジン化合物の製造方法である。
3L5つ口丸底フラスコに、モノメチルアミン塩酸塩(468g;6.931mol)、およびクロロベンゼン(2000mL)を全量入れた。このフラスコ内に、三塩化ホウ素(870g;7.389mol)をガスボンベから直接取り出し、−70℃で液化させながら、20時間かけて滴下した。滴下後、125〜135℃で60時間熟成し、ハロゲン化ボラジン化合物であるB,B’,B”−トリクロロ−N,N’,N”−トリメチルボラジン(TCTMB)の合成反応を終了させた。
日本ダイオネクス株式会社製DX−500を用いて、ハロゲン元素量を測定した。カラムは、分離カラムとしてIonPacAS4A−SC、ガードカラムとしてIonPacAG4A−SCをそれぞれ用いた。溶離液は、1.8mmol/リットルのNa2CO3溶液、および1.7mmol/リットルのNaHCO3溶液をそれぞれ用いた。溶離液の流量は、1.5ml/minとした。試料の注入量は、25μリットルとした。
セイコー電子工業株式会社製SPS4000を用いて、金属元素含有量を測定した。測定は、試料をメタノールで10倍に希釈したサンプルについて行った。装置の設定値は、測定波長が279.553nm、高周波出力が1.80kW、キャリアガス(Ar)の流量が0.6リットル/minとした。
実施例1で得られた固形物Aについて、昇華精製を3回繰り返し、HMBを得た。HMBについて、不純物含有量の測定を行った。塩素原子および臭素原子の含有量は、1ppmの検出限界以下であったため判別できないが、1ppmを大きく下回ると推測される。マグネシウムの含有量は、0.03ppmであった。昇華精製の条件および結果を表1に示す。
実施例1で得られた固形物Aについて、昇華精製を2回繰り返し、HMBを得た。HMBについて、不純物含有量の測定を行った。塩素原子の含有量は、115.1ppmであった。臭素原子の含有量は、10ppm以下であった。マグネシウムの含有量は、0.61ppmであった。昇華精製の条件および結果を表1に示す。
実施例1で得られた固形物Aについて、昇華精製を1回だけ行い、HMBを得た。HMBについて、不純物含有量の測定を行った。塩素原子の含有量は、152.8ppmであった。臭素原子の含有量は、7.1ppmであった。マグネシウムの含有量は、5.07ppmであった。昇華精製の条件および結果を表1に示す。
実施例1および実施例2に示すように、本発明の製造方法によって、不純物含有量の極めて少ないアルキルボラジン化合物が得られる。
Claims (3)
- 合成された前記アルキルボラジン化合物を、水を用いて洗浄する段階を含み、水を用いた洗浄の後に少なくとも1回の昇華精製または蒸留精製を行う、請求項1に記載のアルキルボラジン化合物の製造方法。
- 合成された前記アルキルボラジン化合物を、反応溶液から分離した後、水を用いて洗浄する、請求項2に記載のアルキルボラジン化合物の製造方法。
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