JP4904126B2 - 精製ボラジン化合物の製造方法、および精製ボラジン化合物 - Google Patents
精製ボラジン化合物の製造方法、および精製ボラジン化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4904126B2 JP4904126B2 JP2006294641A JP2006294641A JP4904126B2 JP 4904126 B2 JP4904126 B2 JP 4904126B2 JP 2006294641 A JP2006294641 A JP 2006294641A JP 2006294641 A JP2006294641 A JP 2006294641A JP 4904126 B2 JP4904126 B2 JP 4904126B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- borazine
- borazine compound
- compound
- purified
- atmosphere
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
本段階では、まず、ボラジン化合物を準備する。
続いて、上記で準備したボラジン化合物を濾過する。これにより、ボラジン化合物がさらに精製され、精製ボラジン化合物の製造が完了する。
冷却器を備えた反応容器に、露点−70℃以下に管理された窒素ガスで置換しながら、脱水処理したアミン塩であるモノメチルアミン塩酸塩(33.5g)、および溶媒であるトリグライム(98.6g)を仕込み、反応系を100℃まで昇温した。
上記の実施例1と同様の手法によりN,N’,N”−トリメチルボラジンを合成し、蒸留により精製した。
Claims (1)
- 蒸留により精製された液体状のN−アルキルボラジン化合物を準備するボラジン化合物準備段階と、
準備された前記N−アルキルボラジン化合物を、雰囲気中の塩素イオン濃度が、超純水(25℃での電気伝導率が0.0055mS/mの水)に8L/分の流速で10m3の雰囲気気体を捕集して測定された塩素イオン濃度を捕集した雰囲気中に含まれる濃度に換算した値として求められ、100ng/m3以下である雰囲気条件下にて樹脂製のフィルタを用いて濾過する濾過段階と、
を有する精製ボラジン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006294641A JP4904126B2 (ja) | 2006-10-30 | 2006-10-30 | 精製ボラジン化合物の製造方法、および精製ボラジン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006294641A JP4904126B2 (ja) | 2006-10-30 | 2006-10-30 | 精製ボラジン化合物の製造方法、および精製ボラジン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008110939A JP2008110939A (ja) | 2008-05-15 |
JP4904126B2 true JP4904126B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=39443672
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006294641A Expired - Fee Related JP4904126B2 (ja) | 2006-10-30 | 2006-10-30 | 精製ボラジン化合物の製造方法、および精製ボラジン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4904126B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3335076B2 (ja) * | 1996-06-14 | 2002-10-15 | 株式会社トクヤマ | 容器の洗浄方法 |
JP4504671B2 (ja) * | 2003-12-18 | 2010-07-14 | 株式会社日本触媒 | アルキルボラジン化合物およびその製造方法 |
US8846148B2 (en) * | 2005-11-17 | 2014-09-30 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Composition for chemical vapor deposition film-formation and method for production of low dielectric constant film |
-
2006
- 2006-10-30 JP JP2006294641A patent/JP4904126B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008110939A (ja) | 2008-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4722504B2 (ja) | N−アルキルボラジンおよびその製造方法 | |
TWI525039B (zh) | 氫矽烷類的製備方法 | |
JP2012062300A (ja) | 超高純度電子級化学試薬生産方法 | |
US9764961B2 (en) | Cyclohexasilane | |
JP2013505199A (ja) | モノシランの精製方法 | |
CN110606490A (zh) | 一种高纯四氟化硅的合成及纯化方法 | |
CN103998375B (zh) | 高纯度氯代聚硅烷的制造方法 | |
JP4904032B2 (ja) | 精製ボラジン化合物の製造方法 | |
JP4904126B2 (ja) | 精製ボラジン化合物の製造方法、および精製ボラジン化合物 | |
JP4562169B2 (ja) | Hf系酸化物ゲート絶縁膜のプリカーサーの精製方法 | |
CN110606797A (zh) | 一种高转化率的一氟甲烷的制备方法 | |
JP5143397B2 (ja) | ボラジン化合物の保存方法およびボラジン化合物保存用容器 | |
WO2013118552A1 (ja) | ホルムアルデヒドガス製造方法、及びホルムアルデヒドガス製造装置 | |
JP5001526B2 (ja) | ボラジン化合物の製造方法 | |
WO2010074037A1 (ja) | ルテニウム化合物、その製造方法、それを用いたルテニウム含有薄膜製造方法及びルテニウム含有薄膜 | |
JP4904030B2 (ja) | ボラジン化合物の製造方法 | |
CN108250230B (zh) | 一种二异丙胺硅烷的精制方法 | |
JP5373265B2 (ja) | N−アルキルボラジンの製造方法 | |
JP5373259B2 (ja) | N−アルキルボラジンの製造方法 | |
JP4904029B2 (ja) | ボラジン化合物の保存方法 | |
JP5215600B2 (ja) | N−アルキルボラジンの製造方法 | |
JP2008239492A (ja) | 高純度ボラジン化合物の製造方法、および高純度ボラジン化合物 | |
JP4904042B2 (ja) | ボラジン化合物の製造方法 | |
JP5546723B2 (ja) | N−アルキルボラジンの製法 | |
JP4498152B2 (ja) | トリメチルシランの精製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090513 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100412 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110125 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110328 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110705 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111004 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20111117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111213 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120106 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4904126 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150113 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |