JP4504100B2 - 配向アパタイト焼結体の製造方法 - Google Patents
配向アパタイト焼結体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4504100B2 JP4504100B2 JP2004159052A JP2004159052A JP4504100B2 JP 4504100 B2 JP4504100 B2 JP 4504100B2 JP 2004159052 A JP2004159052 A JP 2004159052A JP 2004159052 A JP2004159052 A JP 2004159052A JP 4504100 B2 JP4504100 B2 JP 4504100B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sintered body
- plane
- apatite
- oriented
- compression direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
Pa以上30MPa以下の圧力下で粉体にパルス状電圧を印加し、900℃以上1100℃以下
の温度で焼結させる方法が知られている(たとえば、特許文献3参照)。
して加熱し、900℃以上1200℃以下で焼結させ、圧縮方向に対してa面が垂直にかつc面
が平行に配向したアパタイト焼結体を得ることを特徴とする配向アパタイト焼結体の製造方法を提供する。
加して加熱し、900℃以上1200℃以下で焼結させる。得られるアパタイト焼結体は、圧縮
方向に対してa面が垂直にかつc面が平行に配向したものとなる。配向性を有するアパタイト焼結体が磁場を用いずに簡単に製造される。
合にも結晶面の配向は起こらない。加熱温度については、900℃未満では焼結が進まず、1200℃を超えるとアパタイトの分解が生ずる。
焼した後、真空中、80MPaの圧力下でパルス状電圧を100分印加し、焼結させた。焼
結条件は、昇温速度50℃/min、焼結温度1200℃、保持時間10分、降温速度5℃/minとした。図1(a)は圧縮方向に垂直な面のXRDパターンであり、図1(b)は、圧縮方向に平行な面のXRDパターンである。これらのXRDパターンから確認されるように、得られた焼結体では、(h,0,0)面、(0,0,l)面ともに良く配向している。この焼結体の相対密度は99.7%以上であった。また、図2に示したように、焼結体は、波長1μmで約80%の透過率を示しており、透明度の高い水酸アパタイト焼結体であることが分かった。
aの圧力下で1000℃で焼結した。図5(a)は圧縮方向に垂直な面のXRDパターンであり、図5(b)は、圧縮方向に平行な面のXRDパターンである。これらのXRDパターンから確認されるように、得られた焼結体では、(h,0,0)面、(0,0,l)面ともに良く配向している。また、図6に示したように、焼結体は、波長1μmで約80%の透過率を示しており、透明度の高い水酸アパタイト焼結体であることが分かった。
vol9, pp. 113-123によるものである。
ここで、f(a):a面配向率、f(c):c面配向率、P:得られた焼結体についての[(h,0,0)面の強度の和]/[(h,0,0)面の強度の和+その他の面の強度の和]、P0:無配向焼結体につ
いての[(h,0,0)面の強度の和]/[(h,0,0)面の強度の和+その他の面の強度の和]である。
P0 = (12+10+60)/(12+10+40+12+18+100+60+60+25+20+20) = 0.22
P = (18+13+100)/(18+13+0.4+0.3+30+7+0.5+100+0.4+31+0.4) = 0.65
f(a) = [(0.65-0.22)/(1-0.22)]×100 = 55.5
となる。算出した結果を表1に示す。
Claims (1)
- アパタイト粉末を10MPa以上80MPa以下に圧縮すると同時に、アパタイト粉末にパルス状電圧を100分以上印加して加熱し、900℃以上1200℃以下で焼結させ、圧縮方向に対してa面が垂直にかつc面が平行に配向したアパタイト焼結体を得ることを特徴とする配向アパタイト焼結体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004159052A JP4504100B2 (ja) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | 配向アパタイト焼結体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004159052A JP4504100B2 (ja) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | 配向アパタイト焼結体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005336023A JP2005336023A (ja) | 2005-12-08 |
JP4504100B2 true JP4504100B2 (ja) | 2010-07-14 |
Family
ID=35489990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004159052A Expired - Fee Related JP4504100B2 (ja) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | 配向アパタイト焼結体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4504100B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5710982B2 (ja) | 2008-12-25 | 2015-04-30 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 透光性多結晶材料及びその製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0280361A (ja) * | 1988-09-15 | 1990-03-20 | Asahi Optical Co Ltd | 配向性リン酸カルシウム系化合物成形体及び焼結体並びにそれらの製造方法 |
JPH0340981A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-21 | Tdk Corp | セラミックスチューブおよびその製造方法 |
JPH06263520A (ja) * | 1993-03-16 | 1994-09-20 | Kyocera Corp | 酸化物超電導体の製造方法 |
JPH10251057A (ja) * | 1997-01-08 | 1998-09-22 | Asahi Optical Co Ltd | リン酸カルシウム系セラミックスの焼結方法 |
JP2003026473A (ja) * | 2001-05-08 | 2003-01-29 | Murata Mfg Co Ltd | セラミックの製造方法 |
JP2003111832A (ja) * | 2001-10-09 | 2003-04-15 | Univ Osaka | 硬組織代替材料及びその製造方法 |
JP2003183708A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-07-03 | Sumitomo Coal Mining Co Ltd | 通電電極用の冷却装置及び通電電極と冷却装置の組立体 |
-
2004
- 2004-05-28 JP JP2004159052A patent/JP4504100B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0280361A (ja) * | 1988-09-15 | 1990-03-20 | Asahi Optical Co Ltd | 配向性リン酸カルシウム系化合物成形体及び焼結体並びにそれらの製造方法 |
JPH0340981A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-21 | Tdk Corp | セラミックスチューブおよびその製造方法 |
JPH06263520A (ja) * | 1993-03-16 | 1994-09-20 | Kyocera Corp | 酸化物超電導体の製造方法 |
JPH10251057A (ja) * | 1997-01-08 | 1998-09-22 | Asahi Optical Co Ltd | リン酸カルシウム系セラミックスの焼結方法 |
JP2003026473A (ja) * | 2001-05-08 | 2003-01-29 | Murata Mfg Co Ltd | セラミックの製造方法 |
JP2003111832A (ja) * | 2001-10-09 | 2003-04-15 | Univ Osaka | 硬組織代替材料及びその製造方法 |
JP2003183708A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-07-03 | Sumitomo Coal Mining Co Ltd | 通電電極用の冷却装置及び通電電極と冷却装置の組立体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005336023A (ja) | 2005-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103951420B (zh) | 一种陶瓷手机壳及其制备方法 | |
JP6344844B2 (ja) | 炭化ホウ素/ホウ化チタンコンポジットセラミックス及びその作製法 | |
JP4833082B2 (ja) | 焼結性ナノ粉末セラミック材料およびその製造方法 | |
JP5930317B2 (ja) | 高強度強靱性ZrO2‐Al2O3系固溶体セラミックスの作製法 | |
BR0311587B1 (pt) | procedimento para a fabricação de corpos moldados metálicos altamente porosos. | |
WO2006106873A1 (ja) | 炭化チタン粉末および炭化チタン-セラミックス複合粉末とその製造方法ならびにその炭化チタン粉末の焼結体および炭化チタン-セラミックス複合粉末の焼結体とその製造方法 | |
Yeong et al. | Fabricating densified hydroxyapatite ceramics from a precipitated precursor | |
JP2006271435A (ja) | セラミック製歯科補綴物の製造方法 | |
JP4386695B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 | |
JP4504100B2 (ja) | 配向アパタイト焼結体の製造方法 | |
JP5406565B2 (ja) | 酸化アルミニウム焼結体、その製法及び半導体製造装置部材 | |
Shen et al. | Ordered coalescence of nanocrystals: a path to strong macroporous nanoceramics | |
Lyamina et al. | Medical Ceramics from Powders of the System Al 2 O 3–ZrO 2–Y 2 O 3 Obtained on an Installation of Nanospray Drying | |
Mirhadi | Microwave sintering of nano size powder β-TCP bioceramics | |
US20160068443A1 (en) | Methods for producing a silicon-containing zirconia calcined body and a silicon-containing zirconia sintered body | |
Veljković et al. | Sintering behaviour of nanosized HAP powder | |
JP2011213522A (ja) | 高度に透明なアルミナセラミック及びその製造方法 | |
JP6281900B2 (ja) | 機能性焼結緻密膜の形成方法およびナノ粒子合成方法 | |
KR101507931B1 (ko) | 나노 이방체를 이용한 다공체의 제조 방법 | |
KR100810048B1 (ko) | 금속 실리사이드-SiC 복합재료의 제조방법 | |
JP3899402B2 (ja) | ダイヤモンド−チタンカーバイド複合焼結体の製造方法 | |
CN113518767A (zh) | 烧结体 | |
KR101725535B1 (ko) | 루테늄 폐 타겟의 재생방법 | |
Petrakova et al. | Compaction of hydroxyapatite nanopowders by hydrostatic pressing | |
JP5245081B2 (ja) | 高硬度高密度立方晶窒化ホウ素系焼結体およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070322 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090924 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100420 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140430 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |