JP4468752B2 - 荷電粒子線露光方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
荷電粒子線露光方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
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図1は本発明の実施例1に係る電子線露光装置の要部概略図である。
図1において、電子銃(図示せず)で発生した電子線はクロスオーバ像を形成する(以下、このクロスオーバ像を電子源1と記す)。
本実施例に係るシステム構成図を図2に示す。ブランカーアレイ制御回路21は、ブランカーアレイ7を構成する複数のブランカーを個別に制御する回路であり、偏向器制御回路22は、偏向器10を制御する回路である。電子ビーム形状検出回路23は、半導体検出器14からの信号を処理する回路であり、フォーカス制御回路24は、フォーカスコイル12の焦点距離を調整することにより縮小電子光学系8の焦点位置を制御する回路であり、ステージ駆動制御回路25は、ステージ13の位置を検出する不図示のレーザ干渉計と共同してステージ13を駆動制御する制御回路である。主制御系26は、上記複数の制御回路を制御し、電子ビーム露光装置全体を管理する。
を露光する為に、偏向制御回路22に命じ、偏向器10によって、複数の電子ビームを偏向させる。
次に上記説明した電子線露光装置を利用したデバイスの製造方法の例を実施例2として説明する。 図6は微小デバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ2(EBデータ変換)では設計した回路パターンに基づいて露光装置の露光制御データを作成する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記用意した露光制御データが入力された露光装置とウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
Claims (5)
- 複数の荷電粒子線を基板上の異なる位置に入射させ、前記複数の荷電粒子線を偏向する偏向器によって定められる各荷電粒子線の要素露光領域内で荷電粒子線を偏向させるとともに、各荷電粒子線の前記基板上への照射を制御することで、前記基板上の複数の要素露光領域内にパターンを露光する荷電粒子線露光方法であって、
前記複数の要素露光領域のうち隣接する第1要素露光領域と第2要素露光領域とを重複させて多重露光領域を設定する工程と、
前記多重露光領域のみに存在するパターン、及び、前記多重露光領域と前記第1要素露光領域又は前記第2要素露光領域における前記多重露光領域以外の領域とにまたがって存在するパターンは多重露光せず、前記多重露光領域と前記第1要素露光領域及び前記第2要素露光領域における前記多重露光領域以外の領域とにまたがって存在するパターンは多重露光する工程と、
を有することを特徴とする荷電粒子線露光方法。 - ゲートパターンを注目パターンとして設定する工程と、
前記多重露光領域の幅が前記注目パターンの長辺以上となるように、前記多重露光領域を設定する工程と、を有することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子線露光方法。 - 請求項1または2に記載の荷電粒子線露光方法を用いてデバイスを製造する工程を有することを特徴とするデバイス製造方法。
- 複数の荷電粒子線を基板上の異なる位置に入射させる照射手段と、
各荷電粒子線を各要素露光領域内で偏向させる偏向手段と、
各荷電粒子線の前記基板への照射を制御する照射制御手段と、
前記基板上の複数の要素露光領域のうち隣接する第1要素露光領域と第2要素露光領域とを重複させて多重露光領域を設定するとともに、前記多重露光領域のみに存在するパターン、及び、前記多重露光領域と前記第1要素露光領域又は前記第2要素露光領域における前記多重露光領域以外の領域とにまたがって存在するパターンは多重露光せず、前記多重露光領域と前記第1要素露光領域及び前記第2要素露光領域における前記多重露光領域以外の領域とにまたがって存在するパターンは多重露光するように制御する手段と、
を備える荷電粒子線露光装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線露光装置を用いて、基板を露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程と、を備えるデバイス製造方法。
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