JP4434933B2 - 排ガスの処理方法及び処理装置 - Google Patents
排ガスの処理方法及び処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4434933B2 JP4434933B2 JP2004351193A JP2004351193A JP4434933B2 JP 4434933 B2 JP4434933 B2 JP 4434933B2 JP 2004351193 A JP2004351193 A JP 2004351193A JP 2004351193 A JP2004351193 A JP 2004351193A JP 4434933 B2 JP4434933 B2 JP 4434933B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- water
- fluorine
- containing compound
- pretreatment unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 162
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 123
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 57
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 42
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 42
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 42
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 29
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 23
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 14
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 8
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 claims description 6
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 19
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 8
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 7
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Description
本発明の好ましい態様は、排ガスを前記反応槽に導入する前に、排ガスを前処理部に導入して排気ガスを水に接触させて排ガスの前処理を行い、排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用して前記加水分解を行うことを特徴とする。
本発明の他の態様は、フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法であって、排ガスを前処理部に導入して排気ガスを水に接触させて排ガスの前処理を行い、前処理された排ガスを反応槽内に導入し、排ガスを前記反応槽内で加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解し、前記反応槽に水または水蒸気を直接供給せずに、排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用して前記加水分解を行い、前記前処理部から搬送される水分の量の調整は、前記前処理部から排出される排ガスの温度又は流量を調整することにより行われることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用して加水分解を行うことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記前処理部に酸素を供給する酸素供給源を更に備えたことを特徴とする。
本発明の他の態様は、フッ素含有化合物を含む排ガスの処理装置であって、排ガスに水を接触させて排ガスの前処理を行う前処理部と、排ガスを加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解させる反応槽とを備え、前記反応槽に水または水蒸気を直接供給せずに、排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用してフッ素含有化合物を加水分解させ、前記前処理部から搬送される水分の量の調整は、前記前処理部から排出される排ガスの温度又は流量を調整することにより行われることを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る排ガス処理装置を示す概略図である。
図1に示すように、排ガス処理装置は、排ガスを水に接触させて該排ガスの前処理を行う前処理部1と、排ガス中に含まれるフッ素含有化合物を加水分解させる反応槽4と、加水分解によって生じたHF等の酸性ガスを排ガスから除去するミストトラップ10と、前処理部1や反応槽4から排出される排水を貯留する排水タンク2と、反応槽4及びミストトラップ10に供給される水を貯留する循環タンク3とを備えている。
フッ素含有化合物を含んだ排ガスは、まず、導入配管30を通って前処理部1に導入され、ここで洗浄水14を注水しつつファン24を回転させながら排ガスと洗浄水14とを混合接触させ、排ガス中のSiF4やNH3等の紛体成分、水溶性成分、及び加水分解性成分を洗浄水14に溶解吸収させる。例えば、排ガス中のSiF4はH2O(洗浄水14)と反応してフッ化水素HFを生成し、このHFを洗浄水14に溶解吸収させる。洗浄水14は、例えば1〜3l/minの流量で導入配管30に流入し、導入配管30の内面に濡れ壁を形成する。この濡れ壁は、SiF4とH2Oとの反応によって生成されたSiO2を洗い流して導入配管30の内面へのSiO2の付着を防止する。なお、洗浄液14が前処理部1に供給される間、酸素源としてのパージエア12が前処理部1内に導入される。前処理部1に供給された洗浄水14は排水33として排水タンク2に戻される。排水タンク2に戻された排水は送水ポンプ20により再び前処理部1に洗浄水14として送られる。このようにして、洗浄水14は排水タンク2と前処理部1との間を循環する。
なお、排ガスに搬送させるべき水分量は、H2OのH原子のモル数が処理対象であるフッ素含有化合物のF原子のモル数の1.2倍以上となるような量であることが好ましい。
このように、前処理部1から搬送される水分量は、洗浄液14の温度の他に排ガス流量に依存するため、排ガス以外に前処理部1に導入されるガス(例えば、パージエア12)の流量を調整することで前処理部1から搬送される水分量を調整することもできる。
SiO2+4HF→SiF4+2H2O
図3は本発明の第2の実施形態に係る排ガス処理装置を示す概略図である。なお、特に説明しない本実施形態の構成及び作用は、上述した第1の実施形態と同様であるので、その重複する説明を省略する。
上述した第1の実施形態の排ガス処理装置を用いて行った排ガス処理の試験結果について以下に説明する。
この試験では、次に示す各種の処理対象ガスを混合したN2ガスを120l/minの流量で前処理部1に導入した。また、酸化用酸素源としてのパージエア12を30l/minの流量で前処理部1に導入した。
CF4 460 ml/min
CHF3 210 ml/min
C4F8 60 ml/min
CO 1150 ml/min
SiF4 60 ml/min
1a 処理室
1b モータ室
2 排水タンク
3 循環タンク
4 反応槽
5 空間部(加熱酸化部)
6 触媒部
7 後処理部
7a スプレー
8 ヒーター
9 迂流板
10 ミストトラップ
11 下スプレー
12 パージエア
13 上スプレー
14,16 洗浄水
15,22,33 排水
17 冷却水
18 市水
19 第1接続配管
20,21 送水ポンプ
24 ファン
25 回転軸
26 軸受
27 隔壁
28 酸素供給源
29 第2接続配管
30 導入配管
31 分岐装置
32 排出配管
34 ドレン配管
35 空気エジェクター
36 分析装置
37 流入配管
38 バイパス配管
39 バイパス弁
41 圧力センサ
42,43 温度センサ
Claims (9)
- フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法であって、
排ガスの迂流路を形成する複数の迂流板が内部に配置された反応槽内に排ガスを導入し、
排ガスを前記反応槽内で加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解し、
前記反応槽に水または水蒸気を直接供給することなく前記加水分解を行うことを特徴とする排ガスの処理方法。 - 前記加水分解は、加熱酸化分解及び/又は触媒による分解であることを特徴とする請求項1に記載の排ガスの処理方法。
- 排ガスを前記反応槽に導入する前に、排ガスを前処理部に導入して排気ガスを水に接触させて排ガスの前処理を行い、
排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用して前記加水分解を行うことを特徴とする請求項1に記載の排ガスの処理方法。 - フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法であって、
排ガスを前処理部に導入して排気ガスを水に接触させて排ガスの前処理を行い、
前処理された排ガスを反応槽内に導入し、
排ガスを前記反応槽内で加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解し、
前記反応槽に水または水蒸気を直接供給せずに、排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用して前記加水分解を行い、
前記前処理部から搬送される水分の量の調整は、前記前処理部から排出される排ガスの温度又は流量を調整することにより行われることを特徴とする排ガスの処理方法。 - フッ素含有化合物を含む排ガスの処理装置であって、
排ガスに水を接触させて排ガスの前処理を行う前処理部と、
排ガスを加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解させる反応槽とを備え、
前記反応槽の内部には、排ガスの迂流路を形成する複数の迂流板が配置され、
前記反応槽に水または水蒸気を直接供給することなくフッ素含有化合物を加水分解させることを特徴とする排ガスの処理装置。 - 前記反応槽は、加熱酸化部と触媒部とを備えることを特徴とする請求項5に記載の排ガスの処理装置。
- 排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用して加水分解を行うことを特徴とする請求項5に記載の排ガスの処理装置。
- 前記前処理部に酸素を供給する酸素供給源を更に備えたことを特徴とする請求項5に記載の排ガスの処理装置。
- フッ素含有化合物を含む排ガスの処理装置であって、
排ガスに水を接触させて排ガスの前処理を行う前処理部と、
排ガスを加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解させる反応槽とを備え、
前記反応槽に水または水蒸気を直接供給せずに、排ガスによって前記前処理部から搬送される水分を利用してフッ素含有化合物を加水分解させ、
前記前処理部から搬送される水分の量の調整は、前記前処理部から排出される排ガスの温度又は流量を調整することにより行われることを特徴とする排ガスの処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004351193A JP4434933B2 (ja) | 2004-12-03 | 2004-12-03 | 排ガスの処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004351193A JP4434933B2 (ja) | 2004-12-03 | 2004-12-03 | 排ガスの処理方法及び処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006159017A JP2006159017A (ja) | 2006-06-22 |
JP4434933B2 true JP4434933B2 (ja) | 2010-03-17 |
Family
ID=36661606
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004351193A Active JP4434933B2 (ja) | 2004-12-03 | 2004-12-03 | 排ガスの処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4434933B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107106976A (zh) * | 2014-11-14 | 2017-08-29 | 埃地沃兹日本有限公司 | 除害装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5165861B2 (ja) * | 2006-06-26 | 2013-03-21 | 昭和電工株式会社 | 過弗化物の処理方法及び処理装置 |
JP7068101B2 (ja) * | 2018-08-22 | 2022-05-16 | キオクシア株式会社 | ファンスクラバおよびファンスクラバの制御方法 |
CN117019399B (zh) * | 2023-07-24 | 2024-04-05 | 广州华科环保工程有限公司 | 一种多组分有机废气集中收集后分类预处理的一体化设备 |
-
2004
- 2004-12-03 JP JP2004351193A patent/JP4434933B2/ja active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107106976A (zh) * | 2014-11-14 | 2017-08-29 | 埃地沃兹日本有限公司 | 除害装置 |
US10618004B2 (en) | 2014-11-14 | 2020-04-14 | Edwards Japan Limited | Abatement device |
CN107106976B (zh) * | 2014-11-14 | 2020-09-25 | 埃地沃兹日本有限公司 | 除害装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006159017A (ja) | 2006-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7191785B2 (en) | Substrate processing apparatus for resist film removal | |
JP4211227B2 (ja) | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 | |
US7494628B2 (en) | Apparatus for abatement of by-products generated from deposition processes and cleaning of deposition chambers | |
JP6570794B2 (ja) | 排ガスの減圧除害装置 | |
KR20140015245A (ko) | 배기 시스템 | |
US20090104100A1 (en) | Method for detoxifying hcd gas and apparatus therefor | |
KR20060053164A (ko) | 배기가스 분해처리장치 | |
JP2010519012A (ja) | Pfc及びhfcのようなフッ素化合物を含む流出物を処理するための方法 | |
JP4434933B2 (ja) | 排ガスの処理方法及び処理装置 | |
KR100834519B1 (ko) | 배기가스 배관내 고체 생성물 부착방지방법 및 장치, 및그 장치를 구비한 배기가스처리장치 | |
JP3215081B2 (ja) | 半導体製造排ガスの除害装置及び除害方法 | |
JP5004453B2 (ja) | 排ガスの処理方法及び処理装置 | |
TW200535911A (en) | Method for cleaning film-forming apparatuses | |
TW200946253A (en) | Method for cleaning electronic parts and cleaning system | |
JP4915564B2 (ja) | 湿式空気清浄装置 | |
CN111048441A (zh) | 除害装置、除害装置的配管部的更换方法及除害装置的配管的清洗方法 | |
JP2007029790A (ja) | 過弗化物含有排ガスの処理方法及び処理装置 | |
JP3544329B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5368003B2 (ja) | 濾過式集塵機およびそれを用いた排ガス除害装置 | |
JPH05192534A (ja) | 半導体排ガス除害方法とその装置 | |
JP2005152745A (ja) | 湿式排煙脱硫方法及び装置 | |
WO2022092086A1 (ja) | 排ガス処理設備 | |
JP2702564B2 (ja) | オゾン水処理装置 | |
JP4210395B2 (ja) | ドライエッチング排ガス処理装置 | |
TW200904511A (en) | Semiconductor exhaust gas treating device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080725 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4434933 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140108 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |