JP4425747B2 - 仮想接面測定用の干渉計装置 - Google Patents
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Description
前記測定光は、前記第1の小被検面からの反射光と前記第2の小被検面からの反射光との光路長差よりも短い可干渉距離を有する低可干渉光であり、
前記第1の小被検面を測定対象とする第1の測定時には該第1の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とが干渉するように光路長を調整し、前記第2の小被検面を測定対象とする第2の測定時には該第2の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とが干渉するように光路長を調整する光路長調整手段と、
前記光検出面上に分割設定された複数の検出単位領域の各々に、前記第1の測定時には前記第1の小被検面の像の少なくとも一部分が形成されるようにし、前記第2の測定時には前記第2の小被検面の像の少なくとも一部分が形成されるようにする像形成調整手段と、
前記検出単位領域ごとに平均化されて検出された各光強度に基づき、前記第1の測定時には前記第1の仮想接面の形状に対応した第1の干渉縞情報を得、前記第2の測定時には前記第2の仮想接面の形状に対応した第2の干渉縞情報を得る干渉縞情報取得手段とを備え、
前記干渉光学系の光路中において、前記第1および第2の小被検面のうち測定対象とする方の小被検面からの反射光が前記光検出面に到達することは許容し測定対象としない方の小被検面からの反射光が前記光検出面に到達することは抑制する、および/または前記測定対象とする方の小被検面からの反射光と合波される前記基準面からの反射光が前記光検出面に到達することは許容し前記測定対象としない方の小被検面からの反射光と合波される前記基準面からの反射光が前記光検出面に到達することは抑制する不要光除去手段を備えていることを特徴とする。
まず図1および図2に基づいて、本発明の一実施形態に係る仮想接面測定用の干渉計装置の構成について概略的に説明する。図1は本発明の一実施形態に係る仮想接面測定用の干渉計装置の概略構成図、図2は図1に示すコントローラの概略構成図である。
第1の測定では、図1に示す各金属配線55の上面55aの高さ位置の均一性を測定する。まず、基準板21を移動して、各金属配線55の上面55aからの反射光と上記基準板21の基準面21aからの反射光とが干渉するように光路長を調整する。
第2の測定では、図1に示す各金属配線55の間から臨む導電層54の各導電層小域面54bの高さ位置の同一平面性をフォトレジスト材57経由で測定する。まず、基準板21を移動して、各導電層小域面54bからの反射光と上記基準板21の基準面21aからの反射光とが干渉するように光路長を調整する。この第2の測定においては、上記各フォトレジスト材57の上面57aからの反射光も生じ、基準面21aからの反射光と合波されることになるが、測定光の可干渉距離が各導電層小域面54bからの反射光と各フォトレジスト材57の上面57aからの反射光との光路長差よりも短いので、各フォトレジスト材57の上面57aからの反射光と基準面21aからの反射光との干渉は起きない。
11 光源
13 拡大レンズ
15 コリメータレンズ
17 ビームスプリッタ
19 遮光マスク
19a 開口
19b 透明板
19c 吸収型NDコート
21 基準板
21a 基準面
22 載置台
23 集光レンズ
25 結像レンズ
27 光検出面
29 撮像手段
31 コントローラ
33 モニタ装置
35 入力装置
37 像形成調整部
39 干渉縞情報取得部
41 検出単位領域
43 上面像
45 基板像
50 被検体
51 (被検体の)基板
53 絶縁層
54 導電層
54a メッキ用導電層小域面
54b 導電層小域面
55 金属配線
55a (金属配線の)上面
57 フォトレジスト材
57a (フォトレジスト材の)上面
61 支持ピン
Claims (4)
- 第1の基準仮想面上に第1の配置パターンで位置するように形成された第1の小被検面と前記第1の基準仮想面と略平行な第2の基準仮想面上に第2の配置パターンで位置するように形成された第2の小被検面とを有する被検体、および干渉計の基準面に測定光を照射し、前記第1または第2の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とを合波して干渉光を得る干渉光学系と、前記干渉光の光強度分布を検出する光検出面とを備えた干渉計装置であって、
前記測定光は、前記第1の小被検面からの反射光と前記第2の小被検面からの反射光との光路長差よりも短い可干渉距離を有する低可干渉光であり、
前記第1の小被検面を測定対象とする第1の測定時には該第1の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とが干渉するように光路長を調整し、前記第2の小被検面を測定対象とする第2の測定時には該第2の小被検面からの反射光と前記基準面からの反射光とが干渉するように光路長を調整する光路長調整手段と、
前記光検出面上に分割設定された複数の検出単位領域の各々に、前記第1の測定時には前記第1の小被検面の像の少なくとも一部分が形成されるようにし、前記第2の測定時には前記第2の小被検面の像の少なくとも一部分が形成されるようにする像形成調整手段と、
前記検出単位領域ごとに平均化されて検出された各光強度に基づき、前記第1の測定時には前記第1の小被検面と接する第1の仮想接面の形状に対応した第1の干渉縞情報を得、前記第2の測定時には前記第2の小被検面と接する第2の仮想接面の形状に対応した第2の干渉縞情報を得る干渉縞情報取得手段とを備え、
前記干渉光学系の光路中において、前記第1および第2の小被検面のうち測定対象とする方の小被検面からの反射光が前記光検出面に到達することは許容し他の部分からの反射光が前記光検出面に到達することは抑制する、および/または前記小被検面からの反射光と合波される前記基準面からの反射光が前記光検出面に到達することは許容し前記測定対象としない方の小被検面からの反射光と合波される前記基準面からの反射光が前記光検出面に到達することは抑制する不要光除去手段を備えていることを特徴とする仮想接面測定用の干渉計装置。 - 前記干渉縞情報取得手段は、前記各光強度に基づき前記第1および第2の仮想接面の前記各検出単位領域に対応する各部分の位相をそれぞれ求め、これら各位相に基づき前記第1および第2の仮想接面の全体的な位相分布を求め、これにより前記第1および第2の干渉縞情報を得るように構成されていることを特徴とする請求項1記載の仮想接面測定用の干渉計装置。
- 前記不要光除去手段が、前記測定対象とする方の小被検面からの反射光または該反射光と合波される前記基準面からの反射光が前記光検出面に到達することを許容する開口を、前記測定対象とする方の小被検面の配置パターンに対応した位置に備えていることを特徴とする請求項1または2記載の仮想接面測定用の干渉計装置。
- 前記不要光除去手段が、前記干渉光学系の光路に対して出し入れ可能に構成されていることを特徴とする請求項1から3のうちのいずれか1項記載の仮想接面測定用の干渉計装置。
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