JP4407898B2 - Ndフィルタの製造方法、該ndフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ - Google Patents
Ndフィルタの製造方法、該ndフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ Download PDFInfo
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Description
また、特許文献1、特許文献2、特許文献3に開示されているようにマイクロ写真法による濃度が変化するタイプのフィルタの作製が提案されている。また、特許文献4には、真空蒸着法により楕円形グラデーションフィルタの製造方法が開示されている。
さらに、上記高画質対応の対策として、単一濃度のNDフィルタを複数の絞り羽根に接着して、駆動させることにより、単一濃度フィルタでも複数重なった部分と重ならない部分とから、濃度変化させる方法も考えられる。
また、上記の特許文献4のものにおいては、微少領域(例えば3mmの範囲で透過率3%から80%までの変化等)での濃度変化ができないという欠点がある。さらに、単一濃度のNDフィルタを複数の絞り羽根に接着して、駆動させる方法では、NDフィルタの枚数が増えることによるコストupになること、及び絞り羽根に複数枚NDフィルタが存在することにより厚くなってしまい、近年の小型・省スペース化に対応できない等の欠点がある。
すなわち、本発明のNDフィルタの製造方法は、回転機構により、基板に固定されたスリットマスクと蒸着源とのうちの一方を公転させ、他方を固定して、該基板上にグラデーション濃度分布を形成するNDフィルタの製造方法であって、
前記グラデーション濃度分布を形成する際、前記回転機構の単位時間当たりの角速度を変化させて、固定された前記他方を含む平面内であって前記回転機構の回転軸に直交する方向の速度成分が等速となるように、前記回転機構を制御する工程を有し、各濃度において透過率の分光特性がフラットとなる濃度分布を得ることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタの製造方法は、前記基板上に、少なくとも2種類以上の膜を成膜する構成を採ることができる。
また、本発明のNDフィルタの製造方法は、前記マスクを、最表層以外の膜の成膜時に用い、最表層の成膜時には該マスクを用いずに成膜する構成を採ることができる。
また、本発明のNDフィルタの製造方法は、前記基板に最表層まで成膜された後に、100℃から130℃の温度で、空気中で熱処理する構成を採ることができる。
また、本発明の光量絞り装置は、相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのNDフィルタとを備えた光量絞り装置において、前記NDフィルタに、上記したいずれかに記載の製造方法によって製造されたNDフィルタを用いて構成されていることを特徴としている。
また、本発明のカメラは、光学系と、該光学系を通過する光量を制限する光量絞り装置を上記した光量絞り装置によって形成した構成と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴としている。
また、部分的に膜厚が変化する時に発生する、反射防止条件の変化による反射率増大も抑えられ、これにより光量の均一性の向上した光量絞り装置及びそれによるカメラが得られ、高画質化への対応が可能となる。
本実施の形態で目的としている濃度分布は、透過率が順次小、若しくは大になるようなグラデーション濃度分布である。この様な濃度分布は、グラデーション濃度分布を必要とする各種フィルタ等の用途を考慮すると、一般的な仕様であると考えられる。具体的には、例えば図8(a)で示すような理想型グラデーションの透過特性を持つ分布である。この仕様を満足するフィルタを作成するためには、図8(b)で示すような濃度分布を得る必要がある。濃度と膜厚はリニアの関係にあるため、言い換えれば、図5で示すような理想型グラデーションの膜厚分布を得る必要があると言える。
また、成膜される膜の膜厚は基板の位置と蒸着源、及び基板に設けたスリットマスクの幾何学的位置関係により決定される。よって、蒸着傘を固定し蒸着源を回転させるのと、蒸着源を固定し蒸着傘を回転させるのとは、膜厚分布を考えた場合においては同様の事である。従ってここでは説明の簡略化の為、蒸着傘を固定し、蒸着源を回転させる事として以下に説明を続ける。
蒸着源の回転角θを等速で制御した場合、図4で示す様なX−Z平面上で考えると、蒸着源はX軸上を図4に示す様に移動することになる。つまり、原点付近と、原点から最も離れた場所とでは、X軸上では単位時間Δt秒あたりに移動する距離が異なると言う事である。
この場合、原点付近での移動スピードが最も速くなる。言い換えれば、蒸着源が1周する間にX軸上の原点付近に留まっている時間が、割合的に最も短くなると言う事になる。従って、図2のように基板位置を配置し、基板上成膜側にマスクを設けた成膜方法で成膜を実施すると、膜厚分布に関して、蒸着源が原点から離れ±S0地点に近づくにつれ、成膜基板はマスクを設けた事による回り込みの影響を、より大きく受ける事になる。このことから、図6で示したシミュレーション結果のように角速度が一定であると、スリットマスクを用いた成膜の場合、膜厚分布の裾部分、つまり低濃度部が膨らんで立ち上がることになる。
また、前記したとおり、成膜される膜の膜厚は、基板の位置と蒸着源、及び基板に設けたスリットマスクの幾何学的位置関係により決定されるため、ここでは簡略化のため、蒸着傘を固定し、蒸着源を制御したことと仮定して説明してきたが、実際の実施形態として、蒸着傘を固定し蒸着源を制御する構成を採ることも可能である。
まず、材質厚75μmのPET基材上に、真空蒸着法により図16に示す膜構成のうち第1層から最表層手前までを形成した。
マスクの形状は、図15で示す様な直線のスリットマスクを使用した。
成膜基板は図2の位置から成膜を開始させた。
また、図1で示した蒸着源の角速度制御と同様に、蒸着傘の角速度は単位時間毎でX軸上を等速で移動するように制御した。
また、膜生成法として、膜厚を比較的容易に制御でき、かつ可視域の波長域で散乱が非常に小さいことから、真空蒸着法を選択した。
また、基材の材質としては、耐熱性(ガラス転移点Tg)が高く、可視域の波長域で透明性が高く、また吸水率が低い、PETを選択した。
ここで、第1層から最表層まで、図15で示す様な直線のスリットマスクを用い、全層を膜厚変化させ成膜すると、反射防止条件が合わなくなり、反射率の上昇が起き、画質上では“ゴースト現象”や“フレア現象”が発生してしまう。この事を考慮し、最表層ではスリットマスクを外し基板全面の膜厚が等しくなる様に成膜した。
このような現象が起きる要因としては、真空蒸着時の基板温度が低いことがあげられる。
膜の封止密度は成膜時の基板温度が大きく影響し、温度が低いと封止密度が低くなり、水分・酸素等を透過しやすく、そのため吸収膜であるTixOy自体の酸化が促進されること、及びそれを保護するAl2O3膜等の誘電体膜の保護効果が少ないことの両方の影響から透過率が上昇するものと考えられる。熱処理を行うと環境安定性が向上するのは、“エージング効果”であると考えられる。
しかし、今回のように基板がプラスチックの場合、基板が熱収縮を起こさない温度で成膜する必要があり、その基板温度は150℃未満に制約される。
膜厚分布は図5に示す様にシミュレーションの結果とほぼ同等な結果が得られた。
但し第1層から第8層までの分布である。最表層は一定膜厚である。
この時の距離と膜厚の構成は、図9、図10に示すようになった。
実施例1と同様に、まず材質厚75μmのPET基材上に、真空蒸着法により図16に示す膜構成のうち第1層から最表層手前までを形成した。
最表層は光学膜厚n×d(nは、屈折率dは機械膜厚)で1/4λ λ:540nm成膜した。この最表層の膜の屈折率nは可視域の波長域で1.5以下のものを選んだ。具体的にはMgF2を使用した。
マスクの形状は、図15で示す様な直線のスリットマスクを使用した。
成膜基板は図2の位置から成膜を開始させた。
また、図3および図4で示した蒸着源の角速度制御と同様に、蒸着傘の角速度は等速で制御した。
また、基材の材質は、耐熱性(ガラス転移点Tg)が高く、可視域の波長域で透明性が高く、また吸水率が低い、PETを選択した。
ここで、第1層から最表層まで、図15で示す様な直線のスリットマスクを用い、全層を膜厚変化させ成膜すると、反射防止条件が合わなくなり、反射率の上昇が起き、画質上では“ゴースト現象”や“フレア現象”が発生してしまう。この事を考慮し、最表層ではスリットマスクを外し基板全面の膜厚が等しくなる様に成膜した。
また、環境安定性を調べるため、上記実施例と同様に、前記プラスチックNDフィルタを60℃85%240時間の放置試験を行ったところ、上記実施例と同様の結果が得られた。
膜厚分布は図6示すシミュレーションの結果とほぼ同等な結果が得られた。但し第1層から第8層までの分布である。最表層は一定膜厚である。
この時の距離と膜厚の構成は、図10、図11に示すようになった。
このように、角速度を等速で制御すると、実施例および比較例で示した条件で成膜した場合、膜厚分布、つまり濃度分布の低濃度部が膨らんで立ち上がってしまい、図8(b)で示すような、一般的に理想とされるグラデーション濃度分布を得る事はできない。
2:絞り羽根
3:基板
4:基材
5:基板治具
176A、176B、176C、176D:撮影光学系を構成するレンズ
177:固体撮像素子
178:ローパスフィルタ
171:NDフィルタ
172、173:絞り羽根
174:絞り羽根支持板
15:蒸着傘
16:蒸着源
17:スリットマスク
18:スリットマスクの幅
19:基板とスリットマスクとの距離
20:蒸着源の軌跡
Claims (6)
- 回転機構により、基板に固定されたスリットマスクと蒸着源とのうちの一方を公転させ、他方を固定して、該基板上にグラデーション濃度分布を形成するNDフィルタの製造方法であって、
前記グラデーション濃度分布を形成する際、前記回転機構の単位時間当たりの角速度を変化させて、固定された前記他方を含む平面内であって前記回転機構の回転軸に直交する方向の速度成分が等速となるように、前記回転機構を制御する工程を有し、各濃度において透過率の分光特性がフラットとなる濃度分布を得ることを特徴とするNDフィルタの製造方法。 - 前記基板上に、少なくとも2種類以上の膜を成膜することを特徴とする請求項1に記載のNDフィルタの製造方法。
- 前記マスクは、最表層以外の膜の成膜時に用いられ、最表層の成膜時には該マスクを用いずに成膜することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のNDフィルタの製造方法。
- 前記基板に最表層まで成膜された後に、100℃から130℃の温度で、空気中で熱処理することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のNDフィルタの製造方法。
- 相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのNDフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記NDフィルタが、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって製造されたNDフィルタによって構成されていることを特徴とする光量絞り装置。 - 光学系と、該光学系を通過する光量を制限する請求項5に記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴とするカメラ。
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