JP4403451B2 - ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 - Google Patents
ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4403451B2 JP4403451B2 JP2003354298A JP2003354298A JP4403451B2 JP 4403451 B2 JP4403451 B2 JP 4403451B2 JP 2003354298 A JP2003354298 A JP 2003354298A JP 2003354298 A JP2003354298 A JP 2003354298A JP 4403451 B2 JP4403451 B2 JP 4403451B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrochloric acid
- water
- mass
- zirconium chloride
- alkali
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 title claims description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 137
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 67
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 29
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 28
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 25
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 24
- 238000002386 leaching Methods 0.000 claims description 23
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 19
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 11
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 6
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 claims description 6
- 238000001879 gelation Methods 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 74
- 239000000047 product Substances 0.000 description 32
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 27
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 20
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 7
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910006501 ZrSiO Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GMPGPBJCDOECLM-UHFFFAOYSA-N [Na].[Si](O)(O)(O)O.[Si](O)(O)(O)O Chemical compound [Na].[Si](O)(O)(O)O.[Si](O)(O)(O)O GMPGPBJCDOECLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- VZJJZMXEQNFTLL-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;zirconium;octahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.[Zr].ClOCl VZJJZMXEQNFTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 1
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- QRTRRDMHGTZPBF-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);zirconium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O QRTRRDMHGTZPBF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/04—Halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
本発明は、ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法に関する。
ジルコニウム塩化物水溶液は、オキシ塩化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、塩基性硫酸ジルコニウム等の各種ジルコニウム化合物の製造原料である。この中でも、特にオキシ塩化ジルコニウム（以下、「ＺＯＣ」と記載する場合がある。）は、ジルコニア質セラミックスの出発原料として有用である。
ジルコニウム塩化物水溶液は、一般にジルコンサンドをアルカリ剤と共に加熱溶融するか又は水熱処理し、得られた反応混合物を水により浸出処理して主としてケイ酸アルカリを水に溶解させた後、ろ過により水酸化ジルコニウムを主成分とする水浸出ケーキを得、これを塩酸により抽出処理してジルコニウム塩化物水溶液を得るとともに、残存シリカ分を不溶解化させた後、ろ過することにより製造される。
この製造方法の改良技術として、例えば、水浸出ケークを６０〜１００℃の温度範囲で濃塩酸に溶解後、０．２〜１．０ｇ／ｌのゼラチンを添加してゲル状シリカ分を凝集沈澱させ、ろ別してシリカ分を分離する方法が知られている。しかしながら、この製造方法では、含水シリカ（ゲル状シリカ、不溶性シリカ）のろ過性が悪い、塩化物水溶液中に溶解シリカ分が残存する等の問題がある。また、不溶性シリカはゲル状であるため高容積であり、且つ、ジルコニウム分も相当量含むため、ジルコニウム分の回収率が低くなる原因となっている。
上記問題点の改善技術が、例えば、特許文献１及び特許文献２に開示されている。特許文献１には、ｉ）微粒子ケイ酸ジルコニウムとアルカリとを混合し、沸点以上で水熱処理する工程、ｉｉ）水熱処理工程で得られたスラリーを固液分離し、分離液をｉ）工程に返送し分離された固形分を水中に分散して加熱処理する工程、ｉｉｉ）加熱処理されたスラリーを固液分離して得られた固形分を水中に分散し、酸により中和する工程、ｉｖ）中和後のスラリーを固液分離して得られた固形分を塩酸処理し、可溶分を溶出させる工程、ｖ）塩酸処理後のスラリーを固液分離し、分離液としてオキシ塩化ジルコニウムの酸性水溶液を得る工程、ｖｉ）上記酸性水溶液を濃縮し、オキシ塩化ジルコニウム８水塩を晶析させて得る工程、を含むオキシ塩化ジルコニウムの製造方法が開示されている。
特許文献２には、ジルコンサンドのアルカリ処理物を水で浸出処理し、ろ過して得た水浸出ケークを塩酸によって抽出してジルコニウム塩化物水溶液を製造する方法において、該ケークに水を加えてスラリーとし、該スラリーを撹拌しつつこれに塩酸を、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が９〜１６ｗｔ％となり、かつ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜７ｗｔ％となるように加え、次いでろ過することを特徴とする、ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法が開示されている。
そして、これらの文献が開示する技術により、含有シリカの少ない塩化ジルコニウム水溶液及びオキシ塩化ジルコニウムが得られている。
しかしながら、これらの文献が開示する技術にも、さらなる改善の余地がある。例えば、特許文献１の技術では、アルカリ分解後の分散ケーキの塩酸中和を経て固液分離後、再分散して塩酸抽出している。そのため、ろ過工程が３回もあり、工程時間が長く、しかも収率が低いという問題がある。特許文献２の技術では、アルカリ分解後の分散ケーキに塩酸を定量でゆっくりと添加して中和し、中性で保持後、再度塩酸添加を経て固液分離し、塩化ジルコニウム水溶液を得ている。これにより得られる塩化ジルコニウム水溶液は、含有シリカ分が少なく高収率であるものの、塩酸添加・ジルコニウム抽出に長時間を要するという問題がある。さらに、特許文献１及び２の技術に共通して、塩化ジルコニウム水溶液を得るために要する工程時間が長く、生産効率が悪いという問題がある。
特開平３−２６５５１９
特許第３４２７２１１
本発明は、従来法よりも短時間で、ジルコンサンドのアルカリ処理物から、シリカ分の含有量が低く抑えられたジルコニウム塩化物水溶液を製造する方法を提供することを主な目的とする。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のジルコニウム塩化物水溶液の製造方法が上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記のジルコニウム塩化物水溶液の製造方法に係る。
１．下記工程を有するジルコニウム塩化物水溶液の製造方法：
（１）ジルコンサンドのアルカリ処理物を水により浸出処理後、ろ過することにより水浸出ケーキを得る工程１、
（２）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させるか、又は水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより、乾燥中間体を得る工程２、
（３）乾燥中間体に塩酸を加えて懸濁液を得る工程であって、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となるように塩酸を加える工程３、
（４）懸濁液をろ過することによりジルコニウム塩化物水溶液を得る工程４。
２．工程２において、スラリーを１００〜３００℃でスプレードライして水分率０〜１５質量％の乾燥中間体を得る、上記項１記載の製造方法。
３．工程２において、ゲル状物を６０〜１５０℃で撹拌しながら乾燥させて水分率０〜１５質量％の乾燥中間体を得る、上記項１記載の製造方法。
１．下記工程を有するジルコニウム塩化物水溶液の製造方法：
（１）ジルコンサンドのアルカリ処理物を水により浸出処理後、ろ過することにより水浸出ケーキを得る工程１、
（２）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させるか、又は水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより、乾燥中間体を得る工程２、
（３）乾燥中間体に塩酸を加えて懸濁液を得る工程であって、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となるように塩酸を加える工程３、
（４）懸濁液をろ過することによりジルコニウム塩化物水溶液を得る工程４。
２．工程２において、スラリーを１００〜３００℃でスプレードライして水分率０〜１５質量％の乾燥中間体を得る、上記項１記載の製造方法。
３．工程２において、ゲル状物を６０〜１５０℃で撹拌しながら乾燥させて水分率０〜１５質量％の乾燥中間体を得る、上記項１記載の製造方法。
本発明の製造方法によれば、ジルコンサンドのアルカリ処理物から、シリカ分の含有量が低く抑えられたジルコニウム塩化物水溶液を効果的且つ効率的に製造できる。
特に、本発明の製造方法の好適な実施形態によれば、ジルコンサンドのアルカリ処理物からジルコニウム塩化物水溶液を製造するのに要する時間を、従来法の１／３程度に短縮できるため、ジルコニウム塩化物水溶液の生産効率（工程能力）を大幅に向上できる。
また、ジルコニウム抽出率が高く、シリカを含むろ過物（固体）の体積も従来法の１／５〜１／３程度に小さくできる。
本発明のジルコニウム塩化物水溶液の製造方法は、下記工程１〜４を有する：
（１）ジルコンサンドのアルカリ処理物を水により浸出処理後、ろ過することにより水浸出ケーキを得る工程１、
（２）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させるか、又は水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより、乾燥中間体を得る工程２、
（３）乾燥中間体に塩酸を加えて懸濁液を得る工程であって、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となるように塩酸を加える工程３、
（４）懸濁液をろ過することによりジルコニウム塩化物水溶液を得る工程４。
（１）ジルコンサンドのアルカリ処理物を水により浸出処理後、ろ過することにより水浸出ケーキを得る工程１、
（２）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させるか、又は水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより、乾燥中間体を得る工程２、
（３）乾燥中間体に塩酸を加えて懸濁液を得る工程であって、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となるように塩酸を加える工程３、
（４）懸濁液をろ過することによりジルコニウム塩化物水溶液を得る工程４。
以下、本発明の製造方法について、各工程に分けて説明する。
〔工程１〕
工程１では、ジルコンサンドのアルカリ処理物を水により浸出処理後、ろ過することにより水浸出ケーキを得る。
〔工程１〕
工程１では、ジルコンサンドのアルカリ処理物を水により浸出処理後、ろ過することにより水浸出ケーキを得る。
ジルコンサンドのアルカリ処理物（以下、「アルカリ処理物」と略記する場合がある。）としては特に限定されないが、一般にジルコンサンド（Ｚｒ砂）と苛性ソーダ及び／又は炭酸ソーダとの混合物を高温加熱処理（アルカリ融解）するか又は水熱処理することにより得られたものが使用できる。
アルカリ処理物の成分は、アルカリ処理の条件により変動するが、概ねジルコン酸ソーダ、ケイジルコン酸ソーダ、ケイ酸ソーダ及び未反応のジルコンサンドの少なくとも１種である。下記に、アルカリ処理により起こり得ると推定される反応を例示する。
１）ＺｒＳｉＯ4＋６ＮａＯＨ→Ｎａ2ＺｒＯ3＋Ｎａ4ＳｉＯ4＋３Ｈ2Ｏ
２）ＺｒＳｉＯ4＋２ＮａＯＨ→Ｎａ2ＺｒＳｉＯ5＋Ｈ2Ｏ
３）ＺｒＳｉＯ4＋２Ｎａ2ＣＯ3→Ｎａ2ＺｒＯ3＋Ｎａ2ＳｉＯ3＋２ＣＯ2↑
４）ＺｒＳｉＯ4＋Ｎａ2ＣＯ3→Ｎａ2ＺｒＳｉＯ5＋ＣＯ2↑
本発明の製造方法は、どのような条件でアルカリ処理して得られたジルコンサンドのアルカリ処理物にも好適に適用できる。即ち、上記例示した範囲に含まれるアルカリ処理物にも、それ以外のアルカリ処理物にも好適に適用できる。
１）ＺｒＳｉＯ4＋６ＮａＯＨ→Ｎａ2ＺｒＯ3＋Ｎａ4ＳｉＯ4＋３Ｈ2Ｏ
２）ＺｒＳｉＯ4＋２ＮａＯＨ→Ｎａ2ＺｒＳｉＯ5＋Ｈ2Ｏ
３）ＺｒＳｉＯ4＋２Ｎａ2ＣＯ3→Ｎａ2ＺｒＯ3＋Ｎａ2ＳｉＯ3＋２ＣＯ2↑
４）ＺｒＳｉＯ4＋Ｎａ2ＣＯ3→Ｎａ2ＺｒＳｉＯ5＋ＣＯ2↑
本発明の製造方法は、どのような条件でアルカリ処理して得られたジルコンサンドのアルカリ処理物にも好適に適用できる。即ち、上記例示した範囲に含まれるアルカリ処理物にも、それ以外のアルカリ処理物にも好適に適用できる。
アルカリ処理物を水により浸出処理する方法としては、アルカリ処理物に含まれるケイ酸アルカリを水に溶解させることができる方法であれば特に限定されない。例えば、アルカリ処理物を水に浸漬する方法、アルカリ処理物と水とを混合する方法等が挙げられる。水の量はケイ酸アルカリを十分に溶解できる量であれば特に限定されない。水の温度も特に限定されず、アルカリ処理物の種類、浸出処理方法、水の量等に応じて適宜設定できる。
浸出処理後は、処理物（アルカリ処理物と水との混合物）をろ過し、ケイ酸アルカリを溶解した水を分離することにより、水浸出ケーキ（脱水ケーキ）を得る。水浸出ケーキの組成は、下記のようにアルカリ処理物の組成により異なる。
例えば、上記式１）及び３）により得られたアルカリ処理物であれば、水による浸出処理によりジルコン酸ソーダが加水分解を受けて水酸化ジルコニウム及び苛性ソーダが生成する。浸出処理に用いる水の量は、ジルコン酸ソーダを十分に加水分解できる量であれば特に限定されない。ろ過によって、ケイ酸ソーダ及び過剰のアルカリが除去されて水酸化ジルコニウムを主成分として含む水浸出ケーキが得られる。ろ過方法は特に限定されず、例えば、フィルタープレス、減圧吸引ろ過機、プレコート加圧ろ過機等を用いた通常のろ過方法でよい。ろ過機は回分式又は連続式のいずれも使用できる。
上記式２）及び４）により得られたアルカリ処理物であれば、水による浸出処理によりケイ酸ソーダ及び過剰のアルカリが水に溶解する。浸出に用いる水の量は、ケイ酸ソーダ及び過剰のアルカリを十分に溶解できる量であれば特に限定されない。ろ過によって、ケイ酸ソーダ及び過剰のアルカリが除去されてケイジルコン酸ソーダを主成分として含む水浸出ケーキが得られる。ろ過方法は上記と同じである。
水浸出ケーキは、一般に水酸化ジルコニム、ケイジルコン酸ソーダ、ジルコン酸ソーダ及び未反応ジルコンサンドの少なくとも１種を含んでいる。その概略の組成は限定的ではないが、概ねＺｒＯ2：３０〜５０質量％、Ｎａ2Ｏ：３〜１０質量％、ＳｉＯ2：１〜８質量％程度である。
水浸出ケーキの含水率は特に限定されないが、通常１０〜５０質量％、好ましくは１５〜４０質量％程度である。
尚、本発明の製造方法では、上記例示した範囲外の水浸出ケーキを得て、それを後工程に供してジルコニウム塩化物水溶液を得てもよい。
〔工程２〕
工程２では、水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させるか、又は水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより、乾燥中間体を得る。いずれの場合においても、勿論、塩酸に水浸出ケーキを加えてもよい。
〔工程２〕
工程２では、水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させるか、又は水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより、乾燥中間体を得る。いずれの場合においても、勿論、塩酸に水浸出ケーキを加えてもよい。
このように、工程２では、
イ）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させることにより乾燥中間体を得てもよく、又は
ロ）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより乾燥中間体を得てもよい。
イ）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させることにより乾燥中間体を得てもよく、又は
ロ）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより乾燥中間体を得てもよい。
上記どちらの方法でも、塩酸濃度は特に限定されないが、水により希釈して用いることが好ましい。その場合の濃度は、通常５〜１６％、好ましくは８〜１５％程度となるようにすればよい。塩酸濃度が５％未満及び１６％超過の場合には、どちらもジルコニウム抽出率が低下するため好ましくない（図１参照）。
添加する塩酸量は特に限定されないが、通常はＨＣｌ／ＺｒＯ2モル比が１．５〜２．５程度、好ましくは２〜２．２程度である。モル比１．５未満の場合には、本発明の製造方法により得られた塩化ジルコニウム水溶液を原料として製造されるＺＯＣ中のＳｉＯ2／ＺｒＯ2（即ち、不純物であるＳｉＯ2の含有量）量は低くなるものの、ジルコニウム抽出率（収率）が低下するため好ましくない。モル比２．５を超える場合には、本発明の製造方法により得られた塩化ジルコニウム水溶液を原料として製造されるＺＯＣ中のＳｉＯ2／ＺｒＯ2量は低くなり、ジルコニウム抽出率も向上するが、過剰の塩酸が残るため経済的でない（図２参照）。
イ）の場合において、ゲル状物を乾燥させる方法としては、シリカゾルを均一に乾燥できる乾燥方法が望ましい。従って、ゲル状物を静置させて乾燥させる方法は、表面と中心部分が不均一乾燥されるため、後の塩酸抽出においてジルコニウム収率が低くなるおそれがある。即ち、シリカゾルを均一に乾燥できる方法が望ましく、例えば、パドル式、流動床式、ナウター式等の乾燥方法が採用できる。尚、ゲル状物は撹拌（即ち、かき混ぜ）しながら乾燥させることが好ましい。
乾燥温度は特に限定されず、通常６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１１０℃程度である。乾燥温度が低すぎる場合には、乾燥が不十分になるおそれがある。乾燥温度が高すぎる場合には、後の塩酸抽出時のＺｒ抽出率が低下するおそれがある。
乾燥により得られる乾燥中間体の含水率は特に限定されないが、通常０〜１５質量％、好ましくは２〜８質量％程度である。含水率が１５質量％を超える場合には、後工程でのろ過性が悪くなるため好ましくない。
乾燥時間は特に限定されず、所望の含水率の乾燥中間体が得られるように、乾燥方法、乾燥温度等を考慮して適宜調整すればよい。
尚、得られた乾燥中間体は１０〜２００μｍ程度に粉砕することが好ましい。粉砕することにより、工程３において塩酸添加によるジルコニウム抽出率を高めることができる。
ロ）の場合は、先ず水浸出ケーキに塩酸を加えてスラリーを調製する。塩酸濃度及びその添加量は、上記イ）の場合と同様である。そして、スラリーがゲル化する前にスプレードライを行う。スプレードライの条件は特に限定されず、常法に従えばよいが、例えば、入口温度１００〜３００℃、好ましくは１５０〜２５０℃程度、ディスク回転数３００００〜５００００ｒｐｍ程度、出口温度７５〜１１５℃程度に設定すればよい。
得られる乾燥中間体（微粒子）の平均粒子径は特に限定されないが、通常１０〜２００μｍ程度とすればよい。乾燥中間体の含水率としては、上記イ）の場合と同様である。尚、ロ）の方法は、イ）の方法よりも短時間で乾燥中間体を得ることができるため工業的操業に適している。
本発明の製造方法では、工程２において、ゲル状物又はスラリーを一旦乾燥させて乾燥中間体とするため、後述の工程３における塩酸抽出液中のシリカ析出率、析出シリカ粒子のろ過性等を高めることができる。その結果、工程４において、溶解シリカ量の少ない高純度のジルコニウム塩化物水溶液が得られる。上記の結果が得られる理由としては、おそらく一旦乾燥中間体とすることにより、シリカ成分の重合、凝集、脱水等が促進されて、従来法における塩酸抽出により析出するシリカ粒子（ＳｉＯ2・ｎＨ2Ｏ）とは形態が異なる析出性及びろ過性の良いＳｉＯ2ポリマーが生成するためと考えられる。
〔工程３〕
工程３では、乾燥中間体に塩酸を加えて懸濁液を得る。具体的には、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となるように塩酸を加える。
〔工程３〕
工程３では、乾燥中間体に塩酸を加えて懸濁液を得る。具体的には、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となるように塩酸を加える。
工程３では、乾燥中間体に塩酸を加える（勿論、塩酸に乾燥中間体を加えてもよい）ことにより、ジルコニウムを抽出する。
塩酸濃度は特に限定されないが、水により希釈して用いることが好ましい。その場合の濃度は、通常５〜１６％、好ましくは８〜１５％程度となるようにすればよい。かかる濃度範囲に設定すれば、ジルコニウム抽出率を高めることができる。
塩酸の添加量としては、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となる範囲内であれば特に限定されない。ジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５質量％未満の場合には、液量が増加するため好ましくなく、１６質量％を超える場合には、液温が低下した際にＺＯＣの結晶が析出する可能性があるため好ましくない。また、遊離ＨＣｌ濃度が１質量％未満の場合には、ジルコニウムの抽出効率が十分ではなく、１０質量％を超える場合には、過剰の塩酸が残るため経済的でない。
得られた懸濁液は、そのまま工程４（ろ過工程）に移行することができるが、ろ過前に懸濁液の加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理することにより、ジルコニウムの抽出率を向上させることができる。
加熱処理条件は特に限定されないが、加熱温度は８０℃以上が好ましく、９０℃以上がより好ましい。温度が８０℃未満の場合には、ジルコニウムの抽出が不十分となるおそれがある。加熱時間は、３０分以上が好ましく、１時間以上がより好ましい。３０分未満ではジルコニウムの抽出率が不十分となる場合がある。加熱時間の上限は特に限定されないが、２時間以上に延ばしても効果の向上は望めず、生産性の点から２時間程度を上限とすればよい。
加熱処理後は、懸濁液を７０℃以下に冷却することが好ましい。冷却は、懸濁液中の溶解シリカ量を下げる観点から効果的である。冷却温度を低くするほど、シリカの溶解度が低下する。しかしながら、冷却温度を低くしすぎると、ＺＯＣが析出するおそれがあり、また懸濁液粘度が高くなってろ過性が低下するおそれがある。従って、冷却温度としては、通常５０〜６０℃程度に設定するのが好ましい。
〔工程４〕
工程４では、懸濁液をろ過することによりジルコニウム塩化物水溶液を得る。
〔工程４〕
工程４では、懸濁液をろ過することによりジルコニウム塩化物水溶液を得る。
即ち、工程４では、懸濁液の固液分離を行って、懸濁液からシリカ、ジルコニア砂（Ｚｒ砂）等の懸濁成分を除去する。固液分離方法は特に限定されず、例えば、フィルタープレス、減圧吸引ろ過機、プレコート加圧ろ過機等を用いた通常のろ過方法が採用できる。ろ過機は回分式又は連続式のいずれも使用できる。
ろ過時の懸濁液の温度は特に限定されないが、７０℃以下が好ましく、５０〜６０℃程度がより好ましい。例えば、工程３において懸濁液を調製後、加熱処理し、次いで７０℃以下、好ましくは５０〜６０℃程度に冷却した後に、当該温度のまま工程４のろ過工程を行うことができる。
尚、懸濁液に高分子凝集剤を添加しておくことにより、より効果的にろ過（固液分離）及びシリカの除去ができる。高分子凝集剤としては、例えば、カチオン性のポリメタクリル酸エステル、ポリアミン、ノニオン性のポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド（以下、「ＰＥＯ」と略記する。）、ポリビニルアルコール等が挙げられる。高分子凝集剤の添加量は特に限定されないが、ＳｉＯ2１００重量部に対して、通常０．５〜５重量部が好ましい。添加方法は特に限定されないが、分散性の点から水溶液にした後に添加することが好ましい。
以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。
実施例１
ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：４５質量％、未反応Ｚｒ砂：４．３質量％）を得た。
ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：４５質量％、未反応Ｚｒ砂：４．３質量％）を得た。
次いで、１８％塩酸１６３４ｇ（８．０６ｍｏｌ）に水１３６６ｇを加えて希釈した水溶液に水浸出ケーキを添加撹拌して均一なスラリーを調製した。
スラリーを４Ｋｇ／ｈの速度でスプレードライヤー（以下、「ＳＤ」と略記する。）に投入して乾燥した。ＳＤ運転条件は、入口温度２００℃、ディスク回転数４００００ｒｐｍ及び出口温度７５℃とした。これにより、１１８３ｇの乾燥中間体が得られた。乾燥中間体の水分率は４質量％であり、粒子径は２０〜３０μｍであった。
１Ｌビーカーに水５３４ｇ及び３６％塩酸２２９．７ｇを順次添加し、乾燥中間体４００ｇ（ＺｒＯ2：１４２．２ｇ）を添加（ＨＣｌ／ＺｒＯ2モル比：２）して撹拌した。９６℃で１時間保持後、５８．５℃まで冷却し、５％ＰＥＯ溶解水溶液５５．８ｇを添加した。約１０分間撹拌後、ブフナーロート（内径１１ｃｍ）で吸引ろ過した。
ろ過ケーキを９％塩酸２００ｇで洗浄し、シリカ粒子及び未反応Ｚｒ砂からなる残渣２６５ｇと、ＺｒＯ2：１０．９５質量％、ＳｉＯ2／ＺｒＯ2（重量比）：０．００１３及び遊離ＨＣｌ：３．８質量％からなるジルコニウム塩化物水溶液１２９５ｇを回収した。Ｚｒ抽出率は９９．７％であった。
実施例２
ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：４５質量％、未反応Ｚｒ砂：４．３質量％）を得た。
ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：４５質量％、未反応Ｚｒ砂：４．３質量％）を得た。
次いで、１８％塩酸１６３４ｇ（８．０６ｍｏｌ）に水１３００ｇを加えて希釈した水溶液に水浸出ケーキを添加撹拌してゲル化した生成物を調製した。
ゲル化した生成物をホットプレート上に取り出し、１１０℃で撹拌しながら乾燥した。これにより１１６３ｇの乾燥中間体が得られた。乾燥中間体の水分率は４．８質量％であった。
１Ｌビーカーに水５２０ｇ及び３６％塩酸２２６．４ｇを順次添加し、乾燥中間体４００ｇ（ＺｒＯ2：１３７．６ｇ）を添加（ＨＣｌ／ＺｒＯ2モル比：２）して撹拌した。９６℃で１時間保持後、５８．５℃まで冷却し、５％ＰＥＯ溶解水溶液５５．８ｇを添加した。約１０分間撹拌後、ブフナーロート（内径１１ｃｍ）で吸引ろ過した。
ろ過ケーキを９％塩酸２００ｇで洗浄し、シリカ粒子及び未反応Ｚｒ砂からなる残渣２６５ｇと、ＺｒＯ2：１１．０５質量％、ＳｉＯ2／ＺｒＯ2（重量比）：０．００１２、遊離ＨＣｌ：３．８質量％からなるジルコニウム塩化物水溶液１２３９ｇを回収した。Ｚｒ抽出率は９９．５％であった。
比較例１
２Ｌビーカーに、ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して得られる水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：３７質量％、Ｈ2Ｏ：４１．５質量％、未反応Ｚｒ砂：９．１質量％）及び水６８０ｇを加えスラリーとした。スラリーｐＨは１３（３３℃）であった。撹拌しながら３５％塩酸１２１５ｇを１６ｇ／ｍｉｎの流速で添加し、ｐＨが６になった時点で塩酸の添加を止めて３０分間撹拌のみを行った。その後、塩酸添加を再開し、塩酸添加が終了した時点でスラリー温度を９０℃とした。９０℃に保持しながら８時間撹拌後、スラリー温度を６０℃に冷却した。加熱処理後のスラリーに０．５質量％ＰＥＯ水溶液１３５ｇを添加し、２時間撹拌後ブフナーロート（内径２０ｃｍ）で吸引ろ過した。
２Ｌビーカーに、ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して得られる水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：３７質量％、Ｈ2Ｏ：４１．５質量％、未反応Ｚｒ砂：９．１質量％）及び水６８０ｇを加えスラリーとした。スラリーｐＨは１３（３３℃）であった。撹拌しながら３５％塩酸１２１５ｇを１６ｇ／ｍｉｎの流速で添加し、ｐＨが６になった時点で塩酸の添加を止めて３０分間撹拌のみを行った。その後、塩酸添加を再開し、塩酸添加が終了した時点でスラリー温度を９０℃とした。９０℃に保持しながら８時間撹拌後、スラリー温度を６０℃に冷却した。加熱処理後のスラリーに０．５質量％ＰＥＯ水溶液１３５ｇを添加し、２時間撹拌後ブフナーロート（内径２０ｃｍ）で吸引ろ過した。
ろ過ケーキを温水５５０ｍｌで洗浄し、シリカ粒子及び未反応Ｚｒ砂からなるケーキ４５７ｇと、ＺｒＯ2：１１質量％、遊離ＨＣｌ：４質量％及びＳｉＯ2／ＺｒＯ2（重量比）：０．００１６からなるジルコニウム塩化物水溶液３３４４ｇを得た。Ｚｒ抽出率は９９．４％であった。
比較例２
２Ｌビーカーに、ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して得られる水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：３７質量％、Ｈ2Ｏ：４１．５質量％、未反応Ｚｒ砂：９．１質量％）及び水５００ｇを加えて分散し、塩酸でｐＨ６に中和した。次いで２時間熱処理後、ブフナーロート（内径１１ｃｍ）で吸引ろ過し、中和ケーキ９３８ｇを得た。２０％塩酸溶液１２９０ｇに中和ケーキを添加し、９０℃で１時間加熱撹拌後、スラリー温度を６０℃に冷却しブフナーロート（内径２０ｃｍ）で吸引ろ過した。ろ過ケーキを温水５００ｍｌで洗浄し、シリカ粒子及び未反応Ｚｒ砂からなるケーク４８７ｇと、ＺｒＯ2：１０．３質量％、遊離ＨＣｌ：３質量％及びＳｉＯ2／ＺｒＯ2（重量比）：０．００２１からなるジルコニウム塩化物水溶液２１９１ｇを得た。Ｚｒ抽出率は、６１％であった。
２Ｌビーカーに、ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して得られる水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：３７質量％、Ｈ2Ｏ：４１．５質量％、未反応Ｚｒ砂：９．１質量％）及び水５００ｇを加えて分散し、塩酸でｐＨ６に中和した。次いで２時間熱処理後、ブフナーロート（内径１１ｃｍ）で吸引ろ過し、中和ケーキ９３８ｇを得た。２０％塩酸溶液１２９０ｇに中和ケーキを添加し、９０℃で１時間加熱撹拌後、スラリー温度を６０℃に冷却しブフナーロート（内径２０ｃｍ）で吸引ろ過した。ろ過ケーキを温水５００ｍｌで洗浄し、シリカ粒子及び未反応Ｚｒ砂からなるケーク４８７ｇと、ＺｒＯ2：１０．３質量％、遊離ＨＣｌ：３質量％及びＳｉＯ2／ＺｒＯ2（重量比）：０．００２１からなるジルコニウム塩化物水溶液２１９１ｇを得た。Ｚｒ抽出率は、６１％であった。
比較例３
３５％塩酸１２１５ｇに、ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して得られる水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：３７質量％、Ｈ2Ｏ：４１．５質量％、未反応Ｚｒ砂：９．１質量％）を水６８０ｇで分散させたスラリーを添加し、９０℃で８時間撹拌後６０℃に冷却し、０．５質量％ＰＥＯ水溶液１３５ｇを添加し、実施例１と同一条件でスラリーのろ過を行った。ろ過中、約２０ｇの液が得られた時点でろ過不能となった。
３５％塩酸１２１５ｇに、ジルコンサンドのアルカリ処理物のフリットを水浸出後、ろ過して得られる水浸出ケーキ１０００ｇ（ＺｒＯ2：３７質量％、Ｈ2Ｏ：４１．５質量％、未反応Ｚｒ砂：９．１質量％）を水６８０ｇで分散させたスラリーを添加し、９０℃で８時間撹拌後６０℃に冷却し、０．５質量％ＰＥＯ水溶液１３５ｇを添加し、実施例１と同一条件でスラリーのろ過を行った。ろ過中、約２０ｇの液が得られた時点でろ過不能となった。
実施例１において、乾燥条件を下記表１に示すように変更した実験（実施例３及び４）の結果を下記表３に示す。
Claims (3)
- 下記工程を有するジルコニウム塩化物水溶液の製造方法：
（１）ジルコンサンドのアルカリ処理物を水により浸出処理後、ろ過することにより水浸出ケーキを得る工程１、
（２）水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるゲル状物を乾燥させるか、又は水浸出ケーキに塩酸を加えて得られるスラリーを、ゲル化する前にスプレードライすることにより、乾燥中間体を得る工程２、
（３）乾燥中間体に塩酸を加えて懸濁液を得る工程であって、得られる懸濁液の液相におけるジルコニウム塩化物のＺｒＯ2換算濃度が５〜１６質量％となり、且つ、遊離ＨＣｌ濃度が１〜１０質量％となるように塩酸を加える工程３、
（４）懸濁液をろ過することによりジルコニウム塩化物水溶液を得る工程４。 - 工程２において、スラリーを１００〜３００℃でスプレードライして水分率０〜１５質量％の乾燥中間体を得る、請求項１記載の製造方法。
- 工程２において、ゲル状物を６０〜１５０℃で撹拌しながら乾燥させて水分率０〜１５質量％の乾燥中間体を得る、請求項１記載の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003354298A JP4403451B2 (ja) | 2003-10-14 | 2003-10-14 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 |
| AU2004279711A AU2004279711B2 (en) | 2003-10-14 | 2004-10-12 | Method for producing aqueous solution of chlorination product of zirconium |
| PCT/JP2004/015028 WO2005035446A1 (ja) | 2003-10-14 | 2004-10-12 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 |
| ZA200603819A ZA200603819B (en) | 2003-10-14 | 2006-05-12 | Method for producing aqueous solution of chlorination product of zirconium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003354298A JP4403451B2 (ja) | 2003-10-14 | 2003-10-14 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005119895A JP2005119895A (ja) | 2005-05-12 |
| JP4403451B2 true JP4403451B2 (ja) | 2010-01-27 |
Family
ID=34431185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003354298A Expired - Lifetime JP4403451B2 (ja) | 2003-10-14 | 2003-10-14 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4403451B2 (ja) |
| AU (1) | AU2004279711B2 (ja) |
| WO (1) | WO2005035446A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA200603819B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015107830A1 (ja) | 2014-01-16 | 2015-07-23 | 第一稀元素化学工業株式会社 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109734128A (zh) * | 2019-03-05 | 2019-05-10 | 锦州旭日新材料科技有限公司 | 锆英砂氯化制备四氯化锆副产四氯化硅的工艺方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5940769B2 (ja) * | 1977-02-08 | 1984-10-02 | 日本鉱業株式会社 | 四塩化ジルコニウムの製造法 |
| JP3427211B2 (ja) * | 1992-10-16 | 2003-07-14 | 東ソー株式会社 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 |
| JP3318988B2 (ja) * | 1992-11-17 | 2002-08-26 | 東ソー株式会社 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造法 |
-
2003
- 2003-10-14 JP JP2003354298A patent/JP4403451B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-10-12 AU AU2004279711A patent/AU2004279711B2/en not_active Ceased
- 2004-10-12 WO PCT/JP2004/015028 patent/WO2005035446A1/ja active Application Filing
-
2006
- 2006-05-12 ZA ZA200603819A patent/ZA200603819B/en unknown
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015107830A1 (ja) | 2014-01-16 | 2015-07-23 | 第一稀元素化学工業株式会社 | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 |
| US20160326009A1 (en) * | 2014-01-16 | 2016-11-10 | Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. | Method for producing aqueous zirconium chloride solution |
| US9676635B2 (en) * | 2014-01-16 | 2017-06-13 | Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. | Method for producing aqueous zirconium chloride solution |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU2004279711A1 (en) | 2005-04-21 |
| WO2005035446A1 (ja) | 2005-04-21 |
| ZA200603819B (en) | 2007-12-27 |
| AU2004279711B2 (en) | 2009-05-28 |
| JP2005119895A (ja) | 2005-05-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2540880B2 (ja) | 酸化ジルコニウム微粉体の製造法 | |
| WO2015096561A1 (zh) | 利用生物质电厂稻壳灰和烟道气生产纳米二氧化硅和纳米碳酸钙的方法 | |
| JPS63291813A (ja) | １２面体の結晶形を有する酸化スカンジウムの製造方法 | |
| CN101830506A (zh) | 一种高纯纳米二氧化锆的制备方法 | |
| CN113912106A (zh) | 一种四方相纳米钛酸钡的制备方法 | |
| JP5828920B2 (ja) | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 | |
| JPS61158810A (ja) | 高純度シリカゾルの製造法 | |
| JP4403451B2 (ja) | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 | |
| US1658807A (en) | Process of making zirconium compounds | |
| JP3674009B2 (ja) | 無定形酸化チタンゾルの製造方法 | |
| JP3427211B2 (ja) | ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法 | |
| US1992547A (en) | Diatomaceous product and method of making the same | |
| JPH06234525A (ja) | 二酸化チタンの製造法 | |
| CN112194177A (zh) | 一种高水分散型钛白粉制备方法 | |
| JPS62501555A (ja) | 高純度ジルコニアの製造法 | |
| JP3318988B2 (ja) | ジルコニウム塩化物水溶液の製造法 | |
| JPH04280815A (ja) | 微粒子チタン酸アルカリ及びその製造法 | |
| CN108569701A (zh) | 一种利用切割锆硅渣制备白炭黑的方法 | |
| RU2518042C1 (ru) | Способ переработки титановых шлаков | |
| JP3610510B2 (ja) | アルミナ水和物分散液の製造方法 | |
| JPH0526725B2 (ja) | ||
| KR20050094555A (ko) | 초미립 수산화알루미늄 제조방법 | |
| JP2690084B2 (ja) | ジルコニア焼結体の製造方法 | |
| JP3805815B2 (ja) | 水酸化カルシウム乾燥粉体の製造方法 | |
| JPS62252328A (ja) | 無機化合物の精製方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060221 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090218 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090930 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091020 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4403451 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131113 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |