JP4399222B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
しかしながら、このように断熱部材受けを金属から構成した場合、処理温度が例えば1200°Cというように高温になると、断熱部材受けが処理管からの輻射熱を受けることにより断熱部材受けから金属物質が拡散し、処理管を汚染し、処理後に基板が金属汚染されるおそれがある。
図1には、本発明の実施形態に係る基板処理装置10が示されている。この基板処理装置10は、例えば縦型であり、主要部が配置された筺体12を有する。この筐体12内部の前面側には、図示しない外部搬送装置との間で基板収納容器としてのカセット14の授受を行う保持具授受部材としてのカセットステージ16が設けられ、該カセットステージ16の後側には昇降手段としてのカセットエレベータ18が設けられ、該カセットエレベータ18には搬送手段としてのカセット移載機20が取り付けられている。カセットエレベータ18の後側には、カセット14の載置手段としてのカセット棚22が設けられ、このカセット棚22はスライドステージ23上に横行可能に設けられている。また、カセット棚22の上方にはカセット14の載置手段としてのバッファカセット棚24が設けられている。このバッファカセット棚24の後側にはクリーンユニット26が設けられ、クリーンエアを前記筺体12の内部を流通させるように構成されている。
図示しない外部搬送装置から搬送されたカセット14は、カセットステージ16に載置され、このカセットステージ16でカセット14はその姿勢を90度変換され、更に、カセットエレベータ18の昇降動作、横行動作及びカセット移載機20の進退動作の協働によりカセット棚22又はバッファカセット棚24に搬送される。
なお、この実施形態においては、断熱部材76を石英から構成するようにしたが、他の実施形態として、アルミナのウールをクロス材で編み込んだもの等を用いることができる。
尚、本発明は炉口付近の構造に特徴があるものであり、本実施の形態ではロードロック室を備えた基板処理装置を例に説明したが、ロードロック装置を備えない基板処理装置にも本発明を適用することができる。
28 処理炉
29 処理室
36 基板
38 基板支持体
50 処理管
52 アダプタ
66 ヒータユニット
76 断熱部材
78 断熱部材受け
80 対峙面
82 遮蔽部
84 水冷溝
Claims (4)
- 基板を収容する処理管と、この処理管の周囲に設けられ、前記基板を加熱する加熱手段と、該加熱手段の下部近傍で前記処理管の周囲に設けられた断熱部材と、この断熱部材を保持する金属で形成された断熱部材受けとを有し、前記断熱部材は、前記断熱部材受けの少なくとも前記処理管に対峙する対峙面を囲む遮蔽部を有し、前記断熱部材受けは、冷却手段を有することを特徴とする基板処理装置。
- 前記冷却手段は、前記断熱部材受けに冷却用通路が形成され、該冷却用通路に液体又は気体を流すことにより前記断熱部材受けが冷却されるように構成されている請求項1記載の基板処理装置。
- 前記冷却用通路は、前記断熱部材受けの下面周囲で前記対峙面とは反対側の面より前記対峙面の近傍に形成されている請求項2記載の基板処理装置。
- 加熱手段が周囲に設けられた処理管内に基板を収容して前記加熱手段で前記処理管内を加熱し、前記処理管内で基板を処理する際に、前記加熱手段の下部近傍で前記処理管の周囲に設けられた断熱部材を保持する金属で形成された断熱部材受けに有る冷却手段が前記断熱部材受けを冷却するとともに、前記断熱部材受けの少なくとも前記処理管に対峙する対峙面を囲む遮蔽部が前記処理管からの輻射熱を遮断することを特徴とする基板処理方法。
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