JP4380940B2 - ダイボンディング装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクの記録及び再生を行う光ピックアップにおいて、CD及びDVD兼用光ピックアップ用光源及びピックアップモジュールと、レーザプリンタやデジタル複写機の複数ビーム書き込み用光源における、複数の半導体レーザ素子からなる半導体レーザ光源製造用のダイボンディング装置に関する。
【0002】
【従来技術】
DVDプレーヤーではDVDとCDの両者を互換再生できることが望まれる。そのためには、DVD再生用に波長の短い635nm又は650nmの赤色半導体レーザとCD再生用に780nmの近赤外半導体レーザを搭載する光ピックアップが必要とされ、装置の小型化のために、2種類の半導体レーザ素子(チップ)からなる光源を一つのパッケージの中に組み込んだ集積型光ピックアップの実現が期待されている。しかし、2つの光源を一つのパッケージに組み込んで光学系を共通化するためには、二つ半導体レーザ素子(チップ)の発光点間隔をできるだけ接近させる必要があり、その間隔としては100μm以下が望ましく、更にその実装公差は±10μm程度と厳しい精度が要求されている。
ところが、一般的な半導体レーザ素子(チップ)は幅が300μm程度であり、その中央に発光点が形成されているので、二つの半導体レーザ素子(チップ)を並列に配置した場合には、発光点間隔は300μm以上となり前記要求を満足出来ない。
【0003】
発光点間隔を狭くする従来技術としては、例えば特開平11−112089号公報に、図9に示す構造の半導体レーザ素子が開示されている。
図9には、発光波長780nmの第一の半導体レーザチップ84(74)、及び発光波長650nmの第二の半導体レーザチップ80(70)が、サブマウント上にジャンクションダウンで実装されている様子が示されている。なお、650nmの半導体レーザチップの出射端面形状は、結晶成長の関係から平行四辺形となっている。
この技術は、図に示すように、半導体レーザチップの発光点位置(82、86、72、76)を端部に偏らせることにより発光点間隔を狭くするものであり、例えば、半導体レーザチップの発光点が発光点間隔方向において端部から30μmの位置に形成され、これらチップを30μmの間隔でダイボンディングすれば、その発光点間隔は90μmと見積もられ要求仕様を満足させることができる。
【0004】
他の従来技術としては、特開平11−39684号公報に、図10に示す様な発光点が出射端面のほぼ中央にある従来構造の半導体レーザと45°の反射部を用いて発光点間隔を狭くする方法が開示されている。
この方法では、シリコン基板の一部に、基板表面に対して45°の傾斜面からなる断面三角形の反射部32Aを配置し、前記反射部の各反射面に対向して二つの半導体レーザ34、36を配置している。
二つの半導体レーザ34、36から出射した光ビームは、前記45°の傾斜面からなる反射部の反射面32Cと32Bで反射されて、基板に垂直な方向に出射される。その結果、二つの半導体レーザの発光点は、半導体レーザを平行に配置した場合よりも狭くすることが可能になる。
この発明の前記反射部はシリコンの異方性エッチングで作られる。
【0005】
しかしながら、上記従来例に示すような2種類の半導体レーザ素子を精度よく同一のサブマウントに実装することは容易ではなかった。
一般に、半導体レーザ素子は、AlN(窒化アルミ)やシリコンなどのサブマウント材にAu−Sn共晶ハンダでダイボンディングされる。Au−Sn(20wt%)共晶ハンダは、比較的低温の280℃で溶解し、接合強度も強いことからダイボンド用のボンド材として広く使用されている。
ところが、二種類の半導体レーザ素子を同じハンダでダイボンディングする場合には以下のような不具合があった。即ち、ハンダでダイボンディングする場合には数10g程度の加重で押し付ける必要があり、二個の半導体レーザ素子を同じハンダでダイボンディングしようとすると、コレットを二個用意した高額なダイボンディング装置を必要とするのである。
【0006】
このような従来技術の欠点を解決する方法として、特開平2000−268387号公報には、融点の異なる半田(ハンダ)を用いてダイボンディングを行う方法が開示されており、図11にその実施形態を示す。
この従来例によれば、二つの(半導体レーザ)光源チップ22、23を一つの基板(サブマウント)21に実装するに当り、第1の半田24を用いて第1の光源チップ22を接着し〔図11(b)〕、続いて、第1の半田24の融点よりも低い第2の半田25を用いて第2の光源チップ23を接着する〔図11(c1)〕ことにより、従来のダイボンディング装置を用いて二つの光源チップをダイボンディングすることができる。
具体的な半田の例としては、低融点半田として、182℃の融点を持つ鉛37%、錫63%の共晶半田を、高融点半田として、錫の量を63%からずらして融点を高くしたものを用いている。また、低融点半田として、融点が156℃のインジウムを用いることも開示されている。
しかし、この従来技術では、二種類の半田を必要とするために工程が煩雑になることや、低融点半田のボンディングでは密着強度が低いなどの欠点があった。また、3個以上の半導体レーザチップのダイボンディングでは適切な半田を選択することが難しい欠点もある。
このように、従来のダイボンディング方法では、二つ或いはそれ以上の複数の半導体レーザ素子(チップ)を同じサブマウントにダイボンディングすることは困難であった。
【0007】
集積型光ピックアップを実現するための他の問題点としては実装精度の高精度化がある。
CD及びDVD兼用のホログラム型ピックアップでは、CD用及びDVD用の半導体レーザの発光点間隔、光路長、及び発光点の厚さ方向高さなどの実装公差としては、±10μm以下が要求される。特に発光点間隔の実装精度は厳しい。従って、要求される実装精度を満足するためには、2つの半導体レーザの発光点を観察して実装する必要があった。
一般に、発光点を観察する手法としては、実際に電流を流して発光させる方法が採用されているため、サブマウントにボンディングする前に、中間ステージで一度発光させ、発光点位置を特定することが行われているが、この方法では中間ステージや半導体レーザ駆動装置などが必要なため装置が複雑になったり、測定後にチップ位置がずれてしまったりする不具合があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来技術の欠点を解決し、一回のハンダ付けで複数の半導体レーザ素子をダイボンドし、かつ発光させずに簡便に各半導体発光素子の発光点を測定して実装することができるダイボンディング装置の提供を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題は次の1)〜)の発明(以下、本発明1〜という)によって解決される。
1) 複数の半導体発光素子をサブマウントにダイボンディングするダイボンディング装置において、ダイボンディングステージ上に複数の半導体発光素子を配置する手段、前記半導体発光素子上に複数のハンダ領域が形成されたサブマウントを乗せる手段、サブマウントを加圧しながら熱処理する手段、前記半導体発光素子及びサブマウントを冷却する手段を有し、かつ、ダイボンディングステージ上に、複数の半導体発光素子の出射端面位置を規定する基準面が形成された位置決め部材が配置されていることを特徴とするダイボンディング装置。
) 前記ダイボンディングステージ上に、半導体発光素子とサブマウントの相対位置を規定する位置決め部材が配置され、前記位置決め部材は、半導体発光素子の出射端面位置を規定する第一基準面、サブマウントの位置を規定する第二基準面を有することを特徴とする1)記載のダイボンディング装置。
) 前記位置決め部材の基準面において、複数の半導体発光素子に対応する各基準面領域の一部に、湾曲又は窪みが形成されていることを特徴とする)又は)記載のダイボンディング装置。
) 前記位置決め部材において、複数の半導体発光素子に対応する各基準面が互いにずれて形成され同一平面にないことを特徴とする)〜)の何れかに記載のダイボンディング装置。
) 前記位置決め部材において、半導体発光素子が接触する基準面の高さが、全ての半導体発光素子の発光点位置よりも低いことを特徴とする)〜)の何れかに記載のダイボンディング装置。
) 前記ダイボンディングステージ上に、複数の半導体発光素子ボンディング面が同じになるように、各素子の厚みに対応した段差を設けたことを特徴とする1)〜)の何れかに記載のダイボンディング装置。
) 半導体発光素子のダイボンディング側にある電流狭窄層を観測する手段、観測した画像を解析して発光点位置を特定する手段を備えた1)〜)の何れかに記載のダイボンディング装置。
【0010】
以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明1の装置では、従来とは逆に、複数の半導体発光素子の上にハンダ領域が形成されたサブマウントを押し付けてダイボンディングするので、一回のハンダ付けで複数の半導体発光素子をダイボンディングできる。また、ボンディングステージ上に、半導体発光素子端面を接触させて位置を決めるための位置決め部材を配置したので、複数の半導体発光素子の出射端面の相対位置を正確に決めることができる。
本発明の装置では、第一及び第二の基準面を有する位置決め部材を設けたので、サブマウントと半導体発光素子の端面を所定の距離だけ離して正確に配置することができる。
本発明の装置では、半導体発光素子が接触する位置決め部材の基準面の一部に湾曲又は窪みを形成して逃げを作ったので、基準面にゴミが付着した場合に、ゴミによる位置精度の劣化を低減させることができる。
【0011】
本発明の装置では、位置決め部材における半導体発光素子の接触する基準面が同一平面にないので、各半導体発光素子の出射端面の位置を任意に設定できる。
本発明では、位置決め部材において、半導体発光素子の接触する基準面を、全ての半導体発光素子の発光点位置よりも低くしたので、半導体発光素子を基準面に接触させた際の出射端面へのキズ付きや汚れの付着を防ぐことができる。
本発明の装置では、ボンディングステージ上に、複数の半導体発光素子ボンディング面が同じになるように、各素子の厚みに対応した段差を設けたので、厚さの異なる半導体発光素子をダイボンディングすることができる。
本発明では、半導体発光素子、特に半導体レーザ素子には電流を集中させるための電流狭窄層が形成されており、その構造の特徴からダイボンディングする面に凹や凸の断面形状を反映した細い線として観察できるという特性を利用して、半導体発光素子のダイボンディング面を上にして配置することにより、電気的に発光させることなく発光点を測定することができる。
【0012】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【0013】
実施例1
図1及び図2に本発明の第一実施例を示す。
図1は、本発明のダイボンディング装置を使って、二つの半導体レーザ素子を平行に接近して配置した発光装置のダイボンディング状態を示しているが、説明を容易にするために、ダイボンディング装置中のダイボンディングステージ1、位置決め部材5及びコレット6しか図示していない。
図1及び図2を用いて二つの半導体レーザ素子2、3を、一つのサブマウント4に実装する手段を説明する。
まず、図2(a)に示すように、第一の半導体レーザ素子2を位置決め部材近傍に移動させ、次に、図2(b)に示すように、該半導体レーザ素子の出射端面を位置決め部材5に接触させて、素子の回転方向ずれを修正する。
次に、図2(c)に示すように、該半導体レーザ素子2を降下させてコレット6から離し、真空吸引して固定する。
次に、第一の半導体レーザ素子2と同様にして、第二の半導体レーザ素子3を配置する。
【0014】
このようにして配置された二つの半導体レーザ素子2、3は、位置決め部材の基準面に突き当てて配置されるので相対位置のずれは極めて少ない。
更に、本装置では半導体レーザ素子のダイボンド面を上にして配置するため、ダイボンド面の発光点位置を示す電流狭窄層(2a、3a)が線となり、これを確認することができる。従って、最初に配置した第一の半導体レーザ素子2の電流狭窄層(2a)、つまり発光点位置を観察しながら第二の半導体レーザ素子3を配置することができるので、発光点間隔も極めて高精度で配置することができる利点がある。
続いて、図1に示す様に、Au−Snハンダ層が形成されたサブマウント4をコレット6で吸着しながら前記半導体レーザ素子上方の所定の位置まで搬送し、コレット6を降下させて半導体レーザ素子上に配置し、コレット6で10g程度の加重を加えながら窒素雰囲気中で300℃の熱処理を行ってAu−Snハンダを溶解させ、次いで、所定時間経過後に急冷して共晶合金を形成させ両者を接合する。
このように、従来技術とは逆に、半導体レーザ素子の上にサブマウントを乗せる本装置では、ハンダ付けが一回で済むため、同じハンダ材が使える利点とハンダ付けの際の位置ずれが少ない利点を有する。
【0015】
実施例2
図3に第二実施例として、サブマウント4の端面及び半導体レーザ素子2の出射端面方向の相対位置を合わせる様子を示す。
図3の位置決め部材5は、半導体レーザ素子2の出射端面を接触させて位置を規定する第一基準面5a、及びサブマウント4の端面を接触させて位置を規定する第二基準面5bから構成され、サブマウント4の端面と半導体レーザ素子2の出射端面の相対位置を規定するために、第一基準面5aと第二基準面5bの間隔は所定の距離に設定される。
通常、図3に示すように、第一基準面5aは第二基準面5bよりも数μm後退させて設定され、その結果、半導体レーザ素子2の出射端面はサブマウント4の端面から数μm突き出してダイボンディングされる。これは、ハンダが半導体レーザ素子の出射端面に回り込まないようにするためで、一般的には5〜10μm程度が選ばれる。
本実施例では、第一及び第二基準面5a、5bに半導体レーザ素子2の出射端面及びサブマウント4の端面をそれぞれ突き当てることにより、各半導体レーザ素子の回転誤差を補正し、かつ相対位置を正確に規定して配置することができる。
【0016】
実施例3
図4に第三実施例を示す。
位置決め部材5を用いて半導体レーザ素子を配置する際に、その基準面付近にゴミがあった場合には、ゴミの影響により高い精度で半導体レーザ素子を配置することは出来ない。
そこで、本実施例では、位置決め部材5の半導体レーザ素子が接触する基準面5aの領域の一部を湾曲又は窪ませて(5c)逃げを形成することにより、ゴミの影響の少ないダイボンディング装置を提供できる。
【0017】
実施例4
図5に第四実施例を示す。
出射される光の波長が異なる半導体レーザ素子を同じ光学系で取り扱う場合、各半導体レーザ素子の出射端面位置を同一平面とせず、適当な距離だけずらした方が好ましい場合がある。図5はそのような発光装置を作製するための実施例を示したものであり、位置決め部材5において、二つの半導体レーザ素子が接触する基準面5aが同一平面になくて所定の距離を置いて(5a−1、5a−2)形成されている。その結果、二つの半導体レーザ素子の出射端面を所定の距離だけ離して配置することが出来る。
【0018】
実施例5
図6に、第五実施例として、二つの半導体レーザチップの出射端面が対向した半導体発光装置用のダイボンディング装置を示す。
本実施例では、図のように、出射端面間隔を規定する位置決め部材5を介して第一及び第二の半導体レーザチップ2及び3を配置し、更にその上にサブマウント4を配置してハンダ付けを行う。
図7は、この時の実装状態を側面から描写したものである。
図6には、サブマウント4の位置を合わせる基準面は示されていないが、所定の位置に位置決め部材を設けることは容易である。
【0019】
実施例6
図8に、第六実施例として、二つの半導体レーザの厚さが異なる場合に対応したダイボンディング装置を示すが、実装形態を上面から見た図は、図1とほぼ同じであるので省略し、図8には実装状態の出射端面から見た図を示してある。
図8において、7は半導体レーザ素子の金電極、8は半導体レーザ素子のボンド面側の金電極、9はAu−Snハンダ、10はサブマウント4の表面の金電極、11は発光点位置を示している。
図に示すように、本発明のダイボンディング装置のボンディングステージ1には、第一の半導体レーザチップ2と第二の半導体レーザチップ3のボンディング面が同じになるように段差を設けている。この様に、使用する半導体レーザ素子の厚みに対応したボンディングステージを用意することにより、使用できる半導体レーザ素子の種類が増し、発光装置の応用範囲も広がる利点がある。
なお、以上の実施例では、半導体発光素子として半導体レーザ素子を用いたが、他の光源として、発光ダイオード、又は複数の発光点を集積化した発光ダイオードアレイなどを用いた場合でも、本発明のダイボンディング装置はその作用及び効果を失うことはない。
【0020】
【発明の効果】
本発明1によれば、複数の半導体発光素子をサブマウントにダイボンディングする際に、半導体発光素子の上にサブマウントを乗せてダイボンディングすることにより、一回のハンダ付け工程でダイボンディングが終了するので、半導体発光素子の位置ずれの少ない高精度な実装が可能になる。また、工程時間を短縮することが出来る。また、ダイボンディングステージ上に半導体発光素子の出射端面位置を規定する位置決め部材を設けたことにより、複数の発光素子出射端面の相対位置を正確に規定できるため、歩留まりが飛躍的に向上する。
本発明によれば、半導体発光素子及びサブマウントの相対位置を決める位置決め部材を設けたことにより、サブマウントの端面から半導体発光素子の端面を所定距離だけ離して正確にダイボンディングできるので、ハンダ付けの際に半導体発光素子の出射端面にハンダが回り込む不良が無くなり歩留まりが向上する。
本発明によれば、位置決め部材に湾曲部又は窪みを設けたことにより、ゴミの影響を減少させることが出来るので、更に歩留まりが向上する。
【0021】
本発明によれば、位置決め部材における複数の半導体発光素子の接する基準面が同一平面にないため、複数の半導体発光素子の出射端面をずらしてダイボンディングすることが出来るので、レンズを含む光学系及び発光波長に適した位置にダイボンディングすることが可能になり、発光装置の応用範囲が広がる。
本発明によれば、位置決め部材における半導体発光素子の接する基準面の高さを、全ての半導体発光素子の発光点位置よりも低く設定しているので、発光点にキズや汚れが付かず、従って、出射される光ビーム品質が劣化せず、歩留まりも一層向上する。
本発明によれば、ボンディングステージに、複数の半導体発光素子ボンディング面が同じになるように、各素子の厚みに対応した段差を設けたことにより、厚さの異なる半導体発光素子を一回のハンダ付け工程でダイボンディングすることが出来るので、取り扱える発光素子の範囲が広がり、その製品の応用範囲も広がる。
本発明によれば、半導体発光素子のダイボンディング側にある発光点位置を示す電流狭窄層を観察してダイボンディングできるので、従来の様な電気的に発光させるための装置を必要とせず、装置を低コスト化できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例を示す図。
【図2】本発明の第一実施例の動作を説明する図。
(a) 半導体レーザを位置決め部材近傍に移動させる動作。
(b) 半導体レーザ出射端面を位置決め部材に接触させて素子の回転方向ずれを修正する動作。
(c) 半導体レーザを降下させてコレットから離し、真空吸引して固定する動作。
(d) (c)の部分断面図。
【図3】本発明の第二実施例を示す図。
【図4】本発明の第三実施例を示す図。
【図5】本発明の第四実施例を示す図。
【図6】本発明の第五実施例を示す図。
【図7】図6の側面図。
【図8】本発明の第六実施例を示す図。
【図9】特開平11−112089号公報に開示された従来技術を示す図。
(a) 断面平行四辺形の鋭角側に発光点を形成した半導体レーザの例。
(b) 断面平行四辺形の鈍角側に発光点を形成した半導体レーザの例。
【図10】(a) 特開平11−39684号公報に開示された従来技術を示す図。
(b) (a)の部分拡大図。
【図11】特開2000−268387号公報に開示された従来技術を示す図。
(a) 基板を示す。
(b) 第1の半田24を用いて第1の光源チップ22を接着する工程。
(c1) 第2の半田25を用いて第2の光源チップ23を接着する工程。
(c2) 半導体光源モジュールを示す斜視図。
【符号の説明】
1 ダイボンディングステージ
2 第一の半導体レーザ素子
2a 第一の半導体レーザ素子の電流狭窄層
3 第二の半導体レーザ素子
3a 第二の半導体レーザ素子の電流狭窄層
4 サブマウント
5 位置決め部材
5a 第一基準面
5a−1 所定距離ずらして設けた第一基準面
5a−2 所定距離ずらして設けた第一基準面
5b 第二基準面
5c 湾曲又は窪み
6 コレット
7 半導体レーザ素子の金電極
8 半導体レーザ素子のボンド面側の金電極
9 サブマウント表面のAu−Snハンダ
10 サブマウント表面の金電極
11 半導体レーザ素子の発光点
12 真空吸引孔
21 基板
22 第一の光源チップ
23 第二の光源チップ
24 第一の半田
25 第二の半田
26 出射光
27 出射光
30 支持板
32 支持体
32A サブマウント
32B 反射面
32C 反射面
34 レーザダイオード
36 レーザダイオード
38 キャップ
70 半導体レーザチップ
72 発光点(ストライプ)
74 半導体レーザチップ
76 発光点(ストライプ)
80 半導体レーザチップ
82 発光点(ストライプ)
84 半導体レーザチップ
86 発光点(ストライプ)
PB 発光点間隔
PA 発光点間隔
B1 第一光ビーム
B2 第二光ビーム

Claims (7)

  1. 複数の半導体発光素子をサブマウントにダイボンディングするダイボンディング装置において、ダイボンディングステージ上に複数の半導体発光素子を配置する手段、前記半導体発光素子上に複数のハンダ領域が形成されたサブマウントを乗せる手段、サブマウントを加圧しながら熱処理する手段、前記半導体発光素子及びサブマウントを冷却する手段を有し、かつ、ダイボンディングステージ上に、複数の半導体発光素子の出射端面位置を規定する基準面が形成された位置決め部材が配置されていることを特徴とするダイボンディング装置。
  2. 前記ダイボンディングステージ上に、半導体発光素子とサブマウントの相対位置を規定する位置決め部材が配置され、前記位置決め部材は、半導体発光素子の出射端面位置を規定する第一基準面、サブマウントの位置を規定する第二基準面を有することを特徴とする請求項1記載のダイボンディング装置。
  3. 前記位置決め部材の基準面において、複数の半導体発光素子に対応する各基準面領域の一部に、湾曲又は窪みが形成されていることを特徴とする請求項又は記載のダイボンディング装置。
  4. 前記位置決め部材において、複数の半導体発光素子に対応する各基準面が互いにずれて形成され同一平面にないことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のダイボンディング装置。
  5. 前記位置決め部材において、半導体発光素子が接触する基準面の高さが、全ての半導体発光素子の発光点位置よりも低いことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のダイボンディング装置。
  6. 前記ダイボンディングステージ上に、複数の半導体発光素子ボンディング面が同じになるように、各素子の厚みに対応した段差を設けたことを特徴とする請求項1〜の何れかに記載のダイボンディング装置。
  7. 半導体発光素子のダイボンディング側にある電流狭窄層を観測する手段、観測した画像を解析して発光点位置を特定する手段を備えた請求項1〜の何れかに記載のダイボンディング装置。
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