JP4379337B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
(数1) y≧−0.16x+32, 100≦x≦170
の範囲内で、HMDS処理することを特徴としている。
(数2) y≧−0.16x+32, 100≦x≦170
の範囲内でHMDS処理することにより、オペアンプのオフセット電圧のばらつきを従来に較べて60%程度に低減することができる。尚、HMDS処理における処理温度が100℃より低い場合にはレジストの密着性が不十分となり、HMDS処理における処理温度が170℃より高い場合にはHMDSが分解し易くなる。
T ラテラルPNP型バイポーラトランジスタ
1 半導体基板
1e p+型拡散領域(エミッタ)
1c p+型拡散領域(コレクタ)
1b n−型拡散層(ベース)
2 層間絶縁膜
3e エミッタ電極
3c コレクタ電極
3b ベース電極
4 保護膜
s 熱酸化膜
sa シラン化層
r フォトレジスト
re,rc (フォトレジスト)開口部
se,sc (熱酸化膜)開口部
Claims (7)
- 製造途中にある半導体基板をヘキサメチルジシラザン[(CH3 )3 SiNHSi(CH3 )3 、以下、HMDSと略す]の蒸気中に曝して表面処理(以下、HMDS処理と略す)した後、前記半導体基板上にフォトレジストを形成してパターニング加工を施す半導体装置の製造方法において、
前記HMDS処理における処理温度をx[℃]とし、前記HMDS処理における処理時間をy[分]としたとき、
(数1) y≧−0.16x+32, 100≦x≦170
の範囲内で、HMDS処理することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記HMDS処理を行う製造途中の半導体基板の表面が、シリコン酸化膜からなることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体装置が、ラテラルPNP型バイポーラトランジスタを有する半導体装置であり、
前記シリコン酸化膜を、前記ラテラルPNP型バイポーラトランジスタのエミッタおよびコレクタを形成するp導電型不純物のイオン注入マスクにパターニング加工することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記半導体装置が、NPN型バイポーラトランジスタと前記ラテラルPNP型バイポーラトランジスタの組み合わせからなるオペアンプを有する半導体装置であることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記HMDS処理を、減圧下の恒温槽内で行うことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記フォトレジストが、ネガレジストであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記パターニング加工が、ウェットエッチングを用いたパターニング加工であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
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