JP4372014B2

JP4372014B2 - グルタミン酸塩のホスフィン酸類似体

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Publication number: JP4372014B2
Application number: JP2004550607A
Authority: JP
Inventors: フリドテョフシュレーダー，; ナッチ，アンドレアス
Original assignee: ジボダンエスエー
Priority date: 2002-11-14
Filing date: 2003-11-14
Publication date: 2009-11-25
Anticipated expiration: 2023-11-14
Also published as: EP1599487A1; MXPA05004746A; CN1705674A; GB0226550D0; US20060052616A1; DE60314913D1; BR0316368A; DE60314913T2; US7402576B2; ATE366737T1; ES2289361T3; EP1599487B1; AU2003275889A1; WO2004043971A1; JP2006506415A

Description

本発明は、ヒトの悪臭、特にヒトの腋窩悪臭の防止または抑制に有用である化合物に関する。

新鮮な汗は、無臭であり、臭気は、汗と皮膚細菌（例えばスタフィロコッカスおよびコリネバクテリウムの属の細菌）との接触によって生じるに過ぎないことが知られており、汗中に存在する無臭の分子は、腋窩にコロニー形成する細菌により分解されると考えられている。高度に不快な悪臭は、主にコリネバクテリウム属の細菌により新鮮な汗から放出されることが、一般的に受け入れられている(Labows et. al., Cosmet. Sci Technol. Ser. (1999), 20:59-82)。悪臭の原因であると考えられている主な構成成分は、揮発性ステロイド、揮発性硫黄化合物および短鎖の分枝状脂肪酸を含む。

悪臭を、臭気を生じる原因となる細菌を全滅することにより処理することが、提案された。実際に、商業的に入手できる化粧品脱臭剤は、しばしば、一般的に皮膚ミクロフローラの成長を阻害する抗菌化合物を含む。現在脱臭剤製品において用いられている抗菌化合物は、例えば、トリクロサン（２，４，４’−トリクロロ−２’ヒドロキシ−ジフェニル−エーテル）を含む。しかし、抗菌剤の使用に対する欠点は、皮膚の天然のミクロフローラの平衡を妨げる効能である。

脂肪酸、特に短鎖の分枝状脂肪酸は、腋窩悪臭において作用を奏することが知られており、特に新鮮でない汗の臭い臭気を生じる成分である。同時係属出願ＰＣＴ／ＣＨ０２／００２６２において、本出願人は、汗中に見出される無臭の化合物を、これらの悪臭を生じる脂肪酸に変換するプロセスを媒介する酵素を開示した。この同時係属出願において、また、酵素の阻害剤としての活性を有する広範囲の群の化合物が開示されている。

しかし、前述の酵素に関して良好な阻害特性を示す他の化合物を見出す必要性が、継続している。

従って、本発明は、第１の観点において、式（Ｉ）

式中、Ｒは、
ａ）ノニル；
ｂ）３，３，３−トリフルオロ−プロピル；
ｃ）２−メチル−４−フェニル−ブチル；
ｄ）４−トリフルオロメチル−フェニル；
ｅ）ペンタフルオロフェニル；
ｆ）４−フルオロ−フェニル；
ｇ）ナフタレン−２−イル；
ｈ）ビフェニル−２−イル；

ｉ）５，５，７，８，８−ペンタメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−２−イル；
ｋ）５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−２−イル；
ｌ）１，１，３，３−テトラメチル−インダン−５−イル；
ｍ）スチリル；
ｎ）２，６−ジメチル−ヘプチル；
ｏ）２−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−１−メチル−ビニル；
ｐ）２−（４−イソプロピル−フェニル）−１−メチル−ビニル；
ｑ）１−（１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−エチル；
ｒ）２−（４−イソブチル−フェニル）−１−メチル−ビニル；
ｓ）２−（２−イソプロピル−フェニル）−１−メチル−エテニル；

ｔ）２−フェニル−エチル；
ｕ）シクロヘキシル−メチル；
ｖ）２，２−ジメチル−プロピル；
ｗ）２−（ペンタフルオロフェニル）−エチル；
ｘ）３−フェニル−プロピル；
ｙ）ヘプチル；
ｚ）４−イソプロピル−シクロヘクス−１−エニル；
ｚａ）デシル；

ｚｂ）ヘキシル；
ｚｃ）トランス−４−イソプロピル−シクロヘキシル；
ｚｄ）５−エチル−２−メチル−ヘプチル；
ｚｅ）２，６，１０−トリメチル−ウンデシル；
ｚｆ）１−メチル−３−（２，２，３−トリメチル−シクロペンチル）−プロピル；および
ｚｇ）オクチル
からなる群から選択された置換アルキル、ベンジルまたはアリル残基である、
で表される化合物を提供した。

式（Ｉ）で表される化合物は、キラルな化合物を含み、従ってこれらは、異性体混合物として存在し得るか、またはこれらは、純粋な立体異性体として存在し得る。最も好ましいのは、カルボキシル基に対してアルファ位において炭素原子上のＳ立体配置を有する化合物である。

上記で述べたように、本発明の化合物は、酵素と相互作用して、これにより無臭の新鮮な汗からの悪臭を有する酸の放出をもたらす汗中の化合物を開裂する酵素の能力を減少することができる。前述の同時係属出願中に記載された酵素は、腋窩にコロニー形成すると見出され得るコリネバクテリウム属、特にあるコリネバクテリウム種、さらに特に、２００１年４月２６日にInternational Depository Authority DSMZ - Deutsche Sammlung von Mikrooganismeu und Zellkulturen GmbH, D-38124 Braunschweigに提出されたCorynebacterium striatum Ax 20の細菌から単離された。International Depository Authorityにより付与された受託番号は、ＤＳＭ１４２６７である。酵素は、細胞内に存在することが見出され、細胞から細胞外被の機械的な崩壊により放出され得る。従って、これを、野生型細菌株、特にヒト腋窩から単離されたコリネバクテリウムの菌株、特にCorynebacterium striatum Ax 20から得られる細胞抽出物から単離することができる。代替において、これを、当業者に十分知られている組換え手段により得ることができる。

この酵素のアミノ酸配列を、配列番号１に示し、この酵素をコードする核酸配列を、配列番号２に示し、これらの配列の両方を以下に示す。
本発明の化合物は、約１〜５００ナノモルの濃度、さらに特に５ナノモル〜５００ナノモルのインビトロでの濃度、例えば９〜１５０ナノモルの濃度において、酵素の阻害を示す。さらに、残基Ｒの親油性に関して、化合物は、酵素生成細菌の細胞壁に浸透するように適合され、従って、これらは、インビボで有効である。

実際に、残基Ｒの性質は、腋窩にコロニー形成する種々の細菌の細胞壁に浸透し、悪臭生成に関与する化合物の能力に影響すると見られる。例えば、コリネバクテリウムの他の菌株、例えばCorynebacterium bovisおよびCorynebacterium jeikeium、または腋窩のミクロフローラ中に見出されるスタフィロコッカス属の細菌はまた、Ｌ−グルタミン誘導体がＮ_αにおいて開裂する生化学的反応においてこれら自体媒介する関連する酵素を生成する。本発明の化合物は、広範囲の種々の細菌株の細胞プロセスに干渉し、これによりこれらの供給源からの悪臭の抑制または防止をもたらし得る。

阻害剤としての化合物のインビトロ活性を、これらのＩＣ_５０値またはこれらのＫｉ値のいずれかに関して測定することができ、これらの基準の両方は、当業者に十分知られている。十分知られているように、ＩＣ_５０値は、所定の基質濃度において酵素速度を半分減少させるのに必要な阻害剤の濃度を提供する。この値は、基質の値Ｋ_ｍにおいて反映される酵素についての基質の親和性に依存する。このようにして、Ｋｉ値を、ＩＣ_５０を測定し、次に以下の式

に従って計算することにより、所定の基質および所定の基質濃度について決定することができる。

細菌細胞における化合物の吸収およびこの中に含まれる酵素の阻害を、静止期にある生細胞に基づくアッセイを用いて測定することができる。従って、細胞を、１種の阻害化合物または複数種の阻害化合物および基質（即ち、酵素により開裂した際に悪臭を有する酸を生成する、汗中に見出される物質）と共にインキュベートすることができ、酸の放出を、種々の阻害濃度において測定することができる。生細胞について得られたＩＣ_５０値を、単離された酵素について得られたＩＣ_５０値と比較することにより、化合物が細菌細胞中に浸透する容易さを評価することができる。

本発明の化合物を、すべての化粧品およびパーソナルケア製品、例えばスティック、ロールオン、ポンプスプレー、エーロゾル、脱臭剤入り石鹸、粉末、溶液、ジェル、クリーム、スティック、香油およびローションに加えて、これらの製品の脱臭効果を増強することができる。好ましくは、本発明の化合物を、前述の製品において、約０．０１〜０．５重量％の量で用いることができる。

前述の製品は、阻害剤に加えて、業界において知られている抗菌薬、例えばトリクロサン(Triclosan)を含むことができる。この製品はまた、これらのタイプの製品において一般的に用いられている皮膚科学的に許容し得る成分を含むことができる。このような追加の成分の例には、香料、着色剤、不透明剤、緩衝剤、酸化防止剤、ビタミン、乳化剤、ＵＶ吸収剤、シリコーンなどが含まれる。十分知られているように、すべての製品を、所望のｐＨに緩衝することができる。

阻害剤に加えて、脱臭コロンは、エタノールおよび香料を含むことができる。香料は、１〜１０％で存在することができ、エタノールは、素材を１００％とするために存在することができる。

典型的なエタノール非含有脱臭スティック中の追加の成分は、ポリオール、例えばプロピレングリコール；この誘導体、例えばプロピレン−グリコール−３−ミリスチルエーテル（ウィトコノール(Witconol)ＡＰＭ）；水；界面活性剤、例えばステアリン酸ナトリウム；および香料を含むことができる。ポリオールは、３０〜４０％の量で存在することができ；ポリオールの誘導体は、同様に、約３０〜４０％で存在することができ；水は、約１０〜２０％で存在することができ；界面活性剤は、５〜１０％で存在することができ；香料は、１０％までの量で存在することができる。

典型的な発汗防止(antiperspirant)スティックは、追加の成分として、例えばエチレングリコールモノステアレート（例えば５〜１０％）；シアバター（例えば３〜５％）；ネオビー(Neobee)１０５３(PVO International)（例えば約１２〜１５％）；ジェネロール(Generol)１２２(Henkel)（例えば約３〜７％）；ジメチコーン(Dimethicone)（ＤＣ３４５）（例えば３０〜４０％）；アルミニウムセスキクロロヒドレート（例えば約１５〜２０％）；および香料、例えば１〜１０％を含むことができる。

発汗防止エーロゾルは、例えば約１０〜１５％のエタノール；例えば約３〜５％のジルコニウムアルミニウムテトラクロロヒドレート；例えば約１〜２％のベントン(Bentone)３８；前述の量の香料；および合計のエーロゾル組成物を基準として１００％までの炭化水素噴射剤、例えばＳ−３１を含むことができる。

発汗防止ポンプ組成物は、例えば１５〜２５％のアルミニウムセスキクロロヒドレート；例えば５０〜６０％の水；例えば１〜３％のトライトン(Triton)Ｘ−１０２(Union carbide)；例えば１５〜２５％のジメチルイソソルビド(ICI)；および前述の量の香料を含むことができる。
上記で述べたすべての百分率は、重量％である。

従って、本発明は、式（Ｉ）で表される化合物および／またはこれを含む組成物の、悪臭の除去または抑制のための使用に関する。本発明はまた、酵素の阻害剤として作用する、臭気抑制量の阻害剤化合物並びに化粧品およびパーソナルケア製品の業界において一般的に十分知られている、皮膚科学的に許容し得るビヒクルを含む組成物に関する。

本発明はまた、他のこの観点において、腋窩悪臭を抑制する方法であって、処置を必要としているヒトの皮膚への適用のための組成物を提供する段階を含み、前記組成物が、阻害剤化合物およびこの皮膚科学的に許容し得るビヒクルを含み、前記化合物が、上記に記載した式（Ｉ）で表される１種または２種以上の化合物から選択されている、前記方法を提供する。

式（Ｉ）で表される化合物を、スキーム１、スキーム２および例を参照して、以下に詳細に述べる合成プロトコルに従って製造することができる。

Ａ）１３０℃で２時間にわたり、５当量（ｅｑ．）のＨＰ（ＯＴＭＳ）_２。
Ｂ）２５℃で、１ｅｑの臭化ベンジルまたは臭化アリル（６または８）、３ｅｑのＢＳＡ。生成物（４）が、定量的収率で得られる。
Ｃ）１３０℃で３時間にわたり、１ｅｑのアルキルホスフィン酸（３）、５ｅｑのＨＭＤＳ、次に１３０℃で４時間にわたり、１ｅｑのアクリレート（１）、次に７０℃でＥｔＯＨ。生成物（４）が、定量的収率で得られる。
Ｄ）１０〜２０重量％のＰｔ／Ｃ、１ａｔｍのＨ_２、ＡｃＯＥｔ／ＥｔＯＨ２：１、２５℃。またはラネー−Ｎｉ、ＥｔＯＨ、２５℃、１ａｔｍのＨ_２。
Ｅ）生成物を定量的収率で得るために、２５℃で１日にわたり、１ＮのＬｉＯＨ／ＥｔＯＨ。
Ｆ）本発明の化合物を提供するために、２５℃で３時間にわたり、ＴＦＡ中の２．２ｅｑの（ｉＰｒ）_３ＳｉＨ。

アクリレート出発物質（１）を、同時係属出願ＰＣＴ／ＣＨ０２／００２６２に記載されている方法により生成することができる。

ハロゲン化アルキル、ベンジルまたはアリル（７、６、８）は、商業的に入手できるか、または自体知られており、以下のスキーム２に述べた合成プロトコルに従って、商業的に入手できる出発物質から生成することができる。

Ｇ）１７０℃で４時間にわたり、１ｅｑのＢｒ_２。
Ｈ）０℃で２時間にわたり、２ｅｑのピリジン、１．２ｅｑのＰＰｈ_３、１．２ｅｑのヨウ素。
Ｉ）アリル型アルコールを定量的収率で得るために、０℃で２時間にわたり、０．３５ｅｑのＮａＢＨ_４、ＭｅＯＨ。
Ｊ）臭化アリルを定量的収率で得るために、０℃で５時間にわたり、Ｅｔ_２Ｏ、０．４ｅｑのＰＢｒ_３。
Ｋ）１６時間にわたり、ＣＨ_２Ｃｌ_２中の３〜５ｅｑのＨＰ（ＯＴＭＳ）_２。
Ｌ）２５℃で６時間にわたり、２ｅｑのＮａＨ_２ＰＯ_２（Ｈ_２Ｏ）、１ｅｑのＢＥｔ_３、ＭｅＯＨ。

ここで、以下に本発明を説明するための一連の例を示す。
例
以下の化合物を、以下の合成により生成する：
５ａ４−カルバモイル−２−（デシル−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル）−酪酸
５ｂ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（４，４，４−トリフルオロ−ブチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｃ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（３−メチル−５−フェニル−ペンチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｄ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（４−トリフルオロメチル−ベンジル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｅ４−カルバモイル−２−（ヒドロキシ−ペンタフルオロフェニルメチル−ホスフィノイルメチル）−酪酸

５ｆ４−カルバモイル−２−［（４−フルオロ−ベンジル）−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｇ４−カルバモイル−２−（ヒドロキシ−ナフタレン−２−イルメチル−ホスフィノイルメチル）−酪酸
５ｈ２−（ビフェニル−２−イルメチル−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル）−４−カルバモイル−酪酸
５ｉ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（５，５，７，８，８−ペンタメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−２−イルメチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｋ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−２−イルメチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸

５ｌ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（１，１，３，３−テトラメチル−インダン−５−イルメチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｍＥ−４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（３−フェニル−アリル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｎ４−カルバモイル−２−［（３，７−ジメチル−オクチル）−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｏＥ−２−｛［３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−２−メチル−アリル］−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル｝−４−カルバモイル−酪酸

５ｐＥ−４−カルバモイル−２−｛ヒドロキシ−［３−（４−イソプロピル−フェニル）−２−メチル−アリル］−ホスフィノイルメチル｝−酪酸
５ｑ４−カルバモイル−２−｛ヒドロキシ−［２−（１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−プロピル］−ホスフィノイルメチル｝−酪酸
５ｒＥ−４−カルバモイル−２−｛ヒドロキシ−［３−（４−イソブチル−フェニル）−２−メチル−アリル］−ホスフィノイルメチル｝−酪酸
５ｓＥ−４−カルバモイル−２−｛ヒドロキシ−［３−（２−イソプロピル−フェニル）−２−メチル−アリル］−ホスフィノイルメチル｝−酪酸

５ｔ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（３−フェニル−プロピル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｕ４−カルバモイル−２−［（２−シクロヘキシル−エチル）−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｖ４−カルバモイル−２−［（３，３−ジメチル−ブチル）−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｗ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（２−ペンタフルオロフェニル−プロピル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸

５ｘ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（４−フェニル−ブチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｙ４−カルバモイル−２−（ヒドロキシ−オクチル−ホスフィノイルメチル）−酪酸
５ｚ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（４−イソプロピル−シクロヘクス−１−エニルメチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｚａ４−カルバモイル−２−（ヒドロキシ−ウンデシル−ホスフィノイルメチル）−酪酸
５ｚｂ４−カルバモイル−２−（ヘプチル−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル）−酪酸

５ｚｃ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（４−イソプロピル−シクロヘキシルメチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｚｄ４−カルバモイル−２−［（６−エチル−３−メチル−オクチル）−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｚｅ４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（３，７，１１−トリメチル−ドデシル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸
５ｚｆ４−カルバモイル−２−｛［ヒドロキシ−［２−メチル−４−（２，２，３−トリメチル−シクロペンチル）−ブチル］−ホスフィノイルメチル｝−酪酸
５ｚｇ４−カルバモイル−２−（ヒドロキシル−ノニル−ホスフィノイルメチル）−酪酸。

これらの化合物の構造を、以下に述べる：

以下の例を、スキーム１およびスキーム２を参照して記載する。例において言及したすべての化合物を、スキーム１またはスキーム２に示す対応する化合物番号と、対応する「Ｒ」残基の文字コードとの組み合わせにより、定義する。例えば、（４ｌ）は、スキーム１の化合物４を意味し、ここでＲは、１，１，３，３−テトラメチル−インダン−５−イルである。

例１：
Ａ）２−ヒドロキシホスフィノイルメチル−４−（トリチル−カルバモイル）−酪酸エチルエステル（２）の調製（スキーム１の段階Ａ）
隔壁および凝縮器を備えた５００ｍＬのフラスコ中で、２５ｇ（０．３ｍｏｌ）のホスフィン酸アンモニウムおよび４９ｇ（０．３ｍｏｌ）のＨＭＤＳを、Ｎ_２の下で、１１０℃で３．５時間にわたり加熱する。反応混合物を、５℃に冷却し、ここで１５０ｍｌのジクロロメタン中の２５ｇのアクリレート１を加える。混合物を、１６時間室温で撹拌する。精製操作(work-up)：１ＮのＨＣｌおよびＣＨ_２Ｃｌ_２を加える。有機相を、１ＮのＨＣｌで洗浄し、混ぜ合わせた酸性相を、ＣＨ_２Ｃｌ_２で再び抽出する。混ぜ合わせた有機相を、ＭｇＳＯ_４上で乾燥し、減圧下で蒸発させ、高度の真空の下で５０℃で乾燥し、２８．８ｇのホスフィン酸２が得られる。

Ｂ）２−［ヒドロキシ−（１，１，３，３−テトラメチル−インダン−５−イルメチル）−ホスフィノイルメチル］−４−（トリチル−カルバモイル）−酪酸エチルエステル（４ｌ）の調製（スキーム１の段階Ｂ）
隔壁および凝縮器を備えた１００ｍＬのフラスコ中で、モノアルキルホスフィン酸２（３ｇ、６．４ｍｍｏｌ）を、乾燥ＣＨ_２Ｃｌ_２（２０ｍｌ）に溶解する。５−ブロモメチル−１，１，３，３−テトラメチル−インダン６ｌ（１．９ｇ、７ｍｍｏｌ）およびＢＳＡ（３．９ｇ、１９ｍｍｏｌ）を加え、混合物を、７２時間２５℃で撹拌する。精製操作：混合物を、１ＮのＨＣｌ上に注入する。有機相を、１ＮのＨＣｌで洗浄し、混ぜ合わせた酸性相を、１ＮのＨＣｌで再び抽出する。混ぜ合わせた有機相を、ＭｇＳＯ_４上で乾燥し、減圧下で蒸発させ、高度の真空の下で５０℃で乾燥して、４．７７ｇのビスアルキル化ホスフィン酸４ｌが得られる。

この合成を、上記の化合物４ｌに関して「Ｒ」残基を参照して記載する一方、この合成を、「Ｒ」残基が化合物４ｄ、４ｅ、４ｇ、４ｈ、４ｉ、４ｋ、４ｍ、４ｎ、４ｏ、４ｐ、４ｑ、４ｒ、４ｓ、４ｚｄ、４ｚｅおよび４ｚｆに相当する他のベンジル型、またはアリル型ホスフィノイル化合物の調製のために、行う。
前述の手順の３ｅｑのＢＳＡを、５〜７ｅｑのＨＭＤＳにより置き換えることができ、精製操作を、エタノールを加え、続いて濃縮することにより、単純化することができる。このようにして、４ｅ、４ｆおよび４ｎを調製した。

Ｃ）４−カルバモイル−２−［ヒドロキシ−（４，４，４−トリフルオロ−ブチル）−ホスフィノイルメチル］−酪酸（４ｂ）の調製：（スキーム１の段階Ｃ）
０．３ｇ（１．７ｍｍｏｌ）の（４，４，４−トリフルオロ−ブチル）−ホスフィン酸３ｂ（０．３ｇ、１．７ｍｍｏｌ）を、ＨＭＤＳ（１．４ｇ、８．５ｍｍｏｌ）に、室温で溶解し、１３０℃で４時間加熱する。８０℃において、アクリレート１（０．７ｇ、１．７ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を、１３０℃で１６時間加熱する。エタノールを、６０℃で加え、混合物を、３０分間還流させる。溶媒を、減圧下で除去し、残留物を、高度の真空下で８時間５０℃で乾燥して、０．９ｇの４ｂが得られる。

この合成を、化合物４ｂ（上記）に関して「Ｒ」残基を参照して記載する一方、この合成を、「Ｒ」残基が化合物４ａ、４ｃ、４ｆ、４ｉ、４ｔ、４ｕ、４ｖ、４ｗ、４ｘ、４ｙ、４ｚ、４ｚａ〜４ｚｃおよび４ｚｇに相当する他のホスフィノイル化合物の調製のために、行う。

例２：４−カルバモイル−２−［（３，７−ジメチル−オクチル）−ヒドロキシ−ホスフィノイルメチル］−酪酸（５ｎ）の調製（スキーム１の段階Ｄ、Ｅ、Ｆ）：
段階Ｄ：２８８ｇ（０．４ｍｏｌ）のＰ−ゲラニルホスフィノイル化合物４ｎ（例１Ｂに従って調製する）を、１．４Ｌのエタノールに、７０℃で溶解する。５８ｇの白金（木炭／Ｈ_２Ｏ１：１上２．５％）を、室温で加え、混合物を、水素の下で数日間、完全な水素添加（２つの二重結合の）が^１Ｈ−ＮＭＲまたはＭＳ／ＥＳＩにより検出されるまで撹拌する。混合物を、セライト上で濾過し、これを、０．３Ｌのエタノールで洗浄する。

段階Ｅ：２ＬのＬｉＯＨ（Ｈ_２Ｏ中１Ｎ）を、濾液に加える。撹拌しながら、溶液を、５０℃に１〜２日間、完全な加水分解が^１Ｈ−ＮＭＲまたはＭＳ／ＥＳＩにより検出されるまで加熱する。溶液を、約２５０ｍｌの濃ＨＣｌを加えることにより中和する。上澄み溶液を、沈殿物からデカンテーションし、エタノールを、この溶液から、減圧下で除去し、残留するＨ_２Ｏ相を、３×０．５ＬのＣＨ_２Ｃｌ_２で抽出する。前述の沈殿物を、１．５ＬのＣＨ_２Ｃｌ_２に溶解する。混ぜ合わせた有機層を、ＭｇＳＯ_４上で乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して、２０６ｇの赤色を帯びた固体が得られる。

段階Ｆ：段階Ｅの得られた物質（約０．３５ｍｏｌ）を、２．５Ｌのトリフルオロ酢酸に溶解する。１２０ｇ（０．７５ｍｏｌ）のトリイソプロピルシランを加え、得られた懸濁液を、４時間室温で撹拌する。トリフルオロ酢酸を、減圧下で除去する。３ＬのＨ_２Ｏを、残留物に加え、得られた懸濁液を、６０℃で１５分間撹拌する。上澄みの水相を、デカンテーションして除去する。３ＬのＮＨ_３（水中６％）を、残留物に加え、得られた懸濁液を、６０℃で１５分間撹拌し、セライト上で濾過する。濾液を、３つの部分に分け、各々１０ｇのＲＰ（逆相）材料を充填した３クロマボンド(Chromabond)Ｃ１８カラム上で濾過する。濾液を、減圧下で濃縮する。残留物に、トルエンを加え、減圧下で除去する（３回）。高度の真空下で乾燥して、１０９ｇの白色−黄色固体泡が得られる。

この合成を、化合物５ｎ（上記）に関して「Ｒ」残基を参照して記載する一方、この合成を、「Ｒ」残基が、酸性条件下でオキサホスホラン生成の傾向がある、Ｐ−アルキル−およびＰ−γ，γ−二置換アリル−ホスフィノイル化合物４ｚｃ、４ｚｄ、４ｚｅおよび４ｚｆから誘導される化合物５ｚｃ、５ｚｄ、５ｚｅおよび５ｚｆに相当する他のホスフィノイル化合物の調製のために、行う。従って、対応するＣ＝Ｃ二重結合を、加水分解／脱トリチル化(detritylation)の前に、水素添加により除去した。

すべての他のホスフィノイル化合物（５ａ〜５ｍ、５ｏ〜５ｚｂおよび５ｚｇ）を、前に水素添加（段階Ｄ）せずに、加水分解／脱トリチル化（段階ＥおよびＦ）のみにより調製した。化合物５ｚｃを、また、水素添加を木炭上の白金の代わりにラネー−ニッケル上で行った（段階Ｄ）以外は、例２の一般的手順に従って調製した。

例３：７−ブロモメチル−１，１，２，４，４−ペンタメチル−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン６ｉの調製：（スキーム２の段階Ｇ）
温度計、隔壁および凝縮器を備えた１００ｍＬのフラスコ中で、２１．６ｇ（０．１ｍｏｌ）の１，１，２，４，４，７−ヘキサメチル−１，２，３，４−テトラヒドロ−ナフタレン（Wood, T. F.; Easter, W. M., Jr.; Carpenter, M. S.; Angiolini, J. Org. Chem. 28, 2248 (1963)に記載されたように調製した）を、１７０℃に加熱する。１６ｇ（０．１ｍｏｌ）の臭素を加え、反応混合物を、１７０℃で５時間撹拌する。フラスコの内容物を、ビグルー(Vigreux)カラム（１１０℃、４ｍｂａｒ）上で分別し、１７ｇ（５８％）の６ｉが、無色の液体として得られる。

例４：（５−ヨード−３−メチル−ペンチル）−ベンゼン７ｃの調製：（スキーム２の段階Ｈ）
５ｇ（２８ｍｍｏｌ）のフェノキサノール（３−メチル−５−フェニル−ペンタン−１−オール）を、２００ｍｌのジクロロメタンに、窒素および撹拌の下で溶解する。トリフェニルホスフィン（８．８ｇ、３４ｍｍｏｌ）および４．２ｇ（５３ｍｍｏｌ）のピリジンを、２５℃で加える。０℃に冷却した後に、ヨウ素（８．５ｇ、３４ｍｍｏｌ）を加える。０℃で２時間の撹拌の後に、反応混合物を、氷冷した１ＮのＨＣｌ上に注入し、ジクロロメタンで抽出する。混ぜ合わせた有機相を、１０％Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３、飽和ＮａＨＣＯ_３および飽和ＮａＣｌで洗浄する。ＭｇＳＯ_４上で乾燥し、蒸発させて、１７ｇの残留物が得られ、これを、ヘキサンで粉砕し、５ｃｍのシリカゲルパッド上で濾過する。濾液を、減圧下で蒸発させ、高度の真空の下で乾燥し、７．１ｇの７ｃが、無色油状物として得られる。

例５：Ｅ−１−（３−ブロモ−２−メチル−プロペニル）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゼン８ｏの調製（スキーム２の段階ＩおよびＪ）
２０ｇ（０．１ｍｏｌ）のＥ−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−２−メチル−プロペナール（US 4435585に従って調製した）を、１．２ｇ（３２ｍｍｏｌ）の水素化ホウ素ナトリウムを２０ｍｌのメタノールに溶解した撹拌した溶液に、０℃で加える。室温で２時間後、定量的な変換を、ＴＬＣによりチェックする。反応混合物を、４０ｍｌの飽和塩化ナトリウム上に注入し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出する。硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を蒸発させて、粗製のアリル型アルコール（１９．２ｇ、９４％）が得られ、これを、以下の臭素化反応に、さらに精製せずに移送する。

５ｇ（２４ｍｍｏｌ）の粗製のアリル型アルコールを、３５ｍｌの乾燥ジエチルエーテルに、窒素の下で溶解する。０℃において、三臭化リン（０．９５ｍｌ、１０ｍｍｏｌ）を、シリンジにより加える。反応を、０℃で４時間撹拌し、氷上に注入し、ジエチルエーテルで３回抽出する。有機層を、飽和ＮａＨＣＯ_３で洗浄し、ＭｇＳＯ_４上で乾燥する。溶媒を、減圧下で除去し、５．７ｇの粗製の臭化アリル８ｏが得られる。

例６：（３，７−ジメチル−オクタ−２，６−ジエニル）−ホスフィン酸３ｎの調製：（スキーム２の段階Ｋ）
隔壁、温度計および凝縮器を備えた７５０ｍＬのフラスコ中で、ホスフィン酸アンモニウム（２５ｇ、０．３ｍｏｌ）およびＨＭＤＳ（５１ｇ、０．３２ｍｍｏｌ）を、Ｎ_２下で、１１０℃で３時間加熱する。反応混合物を、０℃に冷却する。３００ｍＬの乾燥ＣＨ_２Ｃｌ_２を加え、続いて臭化ゲラニル（１３．１ｇ、６０ｍｍｏｌ）を加える。混合物を、室温で１６時間撹拌する。１０ｍｌのメタノールを加え、微細な懸濁液を、二重フィルター層上で濾過する。濾液を、減圧下で濃縮する。１０％Ｎａ_２ＣＯ_３およびｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルを加え、相を分離し、アルカリ性層を、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで精製する。アルカリ性層を、ｐＨ＝１となるまで濃ＨＣｌで処理し、次にジクロロメタンで３回抽出する。ジクロロメタン層をＭｇＳＯ_４上で乾燥し、蒸発させて、１３．７ｇ（８１％）の３ｎが、橙色油状物として得られる。

例７：（３−フェニル−プロピル）−ホスフィン酸３ｔの調製：（スキーム２の段階Ｌ）
ＮａＨ_２ＰＯ_２（Ｈ_２Ｏ）（１３．２ｇ、０．１２５ｍｏｌ）およびアリルベンゼン（６．６ｇ、５６ｍｍｏｌ）をメタノール（２５０ｍｌ）に溶解した溶液に、トリエチルボラン（ＴＨＦ中１Ｍ、５０ｍｌ、５０ｍｍｏｌ）を、室温で、開放した５００ｍｌのフラスコにおいて加える。溶液を、室温で２時間撹拌する。反応混合物を、減圧下で濃縮する。１００ｍｌの飽和ＫＨＳＯ_４を、残留物に加え、続いて酢酸エチルで抽出する（２００、１００および７０ｍｌ）。混ぜ合わせた酢酸エチル層に、４０ｍｌの１０％Ｎａ_２ＣＯ_３を加える。激しく撹拌し、濃ＮａＯＨを滴加しながら、二相混合物を、ｐＨ＝１０に調整する。有機相を分離し、アルカリ性相を、濃ＨＣｌを加えることによりｐＨ＝２に調整する。クロロホルム（３×１００ｍｌ）で抽出し、混ぜ合わせた有機層をＭｇＳＯ_４上で乾燥し、蒸発させて、５．４ｇの粗製の３ｔが得られる（６１％）。

例８：阻害活性の測定
コリネバクテリウム・ストリアトゥムＡｘ２０（ＤＳＭ１４２６７）の細胞抽出物を、機械的崩壊およびその後の遠心分離により調製する。
抽出物（５０μｌ、０．２ｍｌの初期細胞培養物に相当する）を、５０μｌの緩衝液Ａ（リン酸緩衝液、ｐＨ７）に加える。本発明の種々の濃度の化合物を、４０μｌの容積で加え、３７℃での１０分のプレインキュベーションの後に、反応を、１０μｌの基質（Ｎα−ラウロイル−Ｌ−グルタミン、最終濃度５０μＭ）とし、これで補正する。試料を、１５分間インキュベートし、次に、反応を、７５μｌのフルオレサミン（２．５ｍＭ、アセトニトリルに溶解した）を加えることにより停止する。放出されたグルタミンのフルオレサミンでの誘導体化から生じた蛍光を、３８１ｎｍの励起波長および４７０ｎｍの発光波長において決定する。本発明の化合物を含む試料を、酵素および基質のみを含む対照試料と比較することにより、阻害（％）を計算する。あるいはまた、同一のアッセイを、酵素をコードする核酸配列を含む発現ベクターを含む菌株で生成した、組換え的に生成した酵素を用いて行う。本発明の数種の化合物についての結果を、表１に列挙する。

表１。酵素阻害

無処置の細胞における酵素活性を評価するために、Ａｘ２０の静止期にある生細胞を収穫し、緩衝液Ａ中に再び懸濁させて、６００ｎｍにおける光学密度を０．２５とする。阻害化合物を、種々の濃度において加え、１５分のプレインキュベーションの後に、基質（Ｎα−ラウロイル−Ｌ−グルタミン、最終濃度１ｍＭ）を加える。試料を、１時間インキュベートし、次にＭＴＢＥおよびＨＣｌで抽出し、キャピラリーＧＣを用いて、放出されたラウリン酸について分析する。本発明の化合物を含む試料を、細菌および基質のみを含む対照試料と比較することにより、阻害（％）を計算する。単離された酵素に対する化合物の阻害能力を、無処置の細胞を用いて得られた値と比較することにより、細胞による化合物の相対的な吸収を、評価することができる。表２から、本発明の化合物は、細菌細胞壁および細胞質膜を横断することができ、従って生細胞中で阻害活性を有することができることが明らかである。

表２。０．２マイクロモルの濃度における生細胞中での酵素活性の阻害

Claims

式（Ｉ）

式中、Ｒは、ノニル；３，３，３−トリフルオロ−プロピル；２−メチル−４−フェニル−ブチル；４−トリフルオロメチル−フェニル；ペンタフルオロフェニル；４−フルオロ−フェニル；ナフタレン−２−イル；ビフェニル−２−イル；５，５，７，８，８−ペンタメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−２−イル；５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−２−イル；１，１，３，３−テトラメチル−インダン−５−イル；スチリル；２，６−ジメチル−ヘプチル；２−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−１−メチル−ビニル；２−（４−イソプロピル−フェニル）−１−メチル−ビニル；１−（１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−エチル；２−（４−イソブチル−フェニル）−１−メチル−ビニル；２−（２−イソプロピル−フェニル）−１−メチル−エテニル；２−フェニル−エチル；シクロヘキシル−メチル；２，２−ジメチル−プロピル；２−（ペンタフルオロフェニル）−エチル；３−フェニル−プロピル；ヘプチル；４−イソプロピル−シクロヘクス−１−エニル；デシル；ヘキシル；トランス−４−イソプロピル−シクロヘキシル；５−エチル−２−メチル−ヘプチル；２，６，１０−トリメチル−ウンデシル；１−メチル−３−（２，２，３−トリメチル−シクロペンチル）−プロピル；およびオクチルからなる群から選択された置換アルキル、ベンジルまたはアリル残基である、
で表される化合物。
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物を体臭抑制量で含む組成物。
腋窩悪臭を抑制する方法であって、処置を必要としているヒトの皮膚へ適用するための組成物を提供する段階を含み、前記組成物が、阻害剤化合物およびこの皮膚科学的に許容し得るビヒクルを含み、前記化合物が、請求項１に記載の１種または２種以上の式（Ｉ）の化合物から選択されている、前記方法。