JP4366332B2 - 有機金属錯体、該有機金属錯体を用いた発光素子および発光装置 - Google Patents

有機金属錯体、該有機金属錯体を用いた発光素子および発光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4366332B2
JP4366332B2 JP2005105790A JP2005105790A JP4366332B2 JP 4366332 B2 JP4366332 B2 JP 4366332B2 JP 2005105790 A JP2005105790 A JP 2005105790A JP 2005105790 A JP2005105790 A JP 2005105790A JP 4366332 B2 JP4366332 B2 JP 4366332B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
layer
organometallic complex
emitting
emitting element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005105790A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005314414A (ja
Inventor
英子 井上
智子 下垣
哲史 瀬尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP2005105790A priority Critical patent/JP4366332B2/ja
Publication of JP2005314414A publication Critical patent/JP2005314414A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4366332B2 publication Critical patent/JP4366332B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80Constructional details
    • H10K30/865Intermediate layers comprising a mixture of materials of the adjoining active layers

Description

本発明は、有機金属錯体に関する。特に、励起三重項状態を発光に変換できる有機金属錯体に関する。また、本発明は、陽極と、陰極と、電界を加えることで発光が得られる有機化合物を含む層(以下、「発光物質を含む層」と記載する。)と、を有する発光素子に関する。また、本発明は、前記発光素子を用いた発光装置に関する。
有機化合物(有機分子)は、光を吸収するとエネルギーを持った状態(励起状態)となる。この励起状態を経由することにより、光化学反応などの種々の反応を起こす場合や発光(ルミネッセンス)を生じる場合があり、様々な応用がなされている。
光化学反応の一例として、一重項酸素の不飽和有機分子との反応(酸素付加)がある(例えば、下記非特許文献1参照)。酸素分子は基底状態が三重項状態であるため、一重項状態の酸素(一重項酸素)は直接の光励起では生成しない。しかしながら、他の三重項励起分子の存在下においては一重項酸素が生成し、酸素付加反応に至ることができる。この時、前述の三重項励起分子を形成できる化合物は、光増感剤と呼ばれる。
井上晴夫、外3名「基礎化学コース 光化学I」(丸善株式会社)、p.106−110
このように、一重項酸素を生成するためには、三重項励起分子を光励起で形成できる光増感剤が必要である。ところが、通常の有機化合物は基底状態が一重項状態であるため、励起三重項状態への光励起は禁制遷移となり、三重項励起分子は生じにくい(通常は一重項励起分子が生じる。)。従って、このような光増感剤としては、励起一重項状態から励起三重項状態への項間交差を起こしやすい化合物、あるいは直接励起三重項状態へ光励起されるという禁制遷移を許容する化合物が求められている。言い換えれば、そのような化合物は、光増感剤としての利用が可能であり、有益と言える。
また、そのような化合物は、しばしば燐光を放出することがある。燐光とは多重度の異なるエネルギー間の遷移によって生じる発光のことであり、通常の有機化合物では励起三重項状態から一重項基底状態へ戻る際に生じる発光のことを指す(これに対し、励起一重項状態から一重項基底状態へ戻る際の発光は、蛍光と呼ばれる。)。燐光を放出できる化合物、すなわち励起三重項状態を発光に変換できる化合物(以下、「燐光性化合物」と記載する。)の応用分野としては、発光性の化合物として有機化合物を用いた発光素子が挙げられる。
この発光素子は、薄型軽量、高速応答性、直流低電圧駆動などの特性から、次世代のフラットパネルディスプレイ素子として注目されているデバイスである。また、自発光型であり、視野角が広いことから、視認性も比較的良好であり、携帯機器の表示画面に用いる素子として有効と考えられている。
有機化合物を発光体として用いる場合、発光素子の発光機構はキャリア注入型である。すなわち、電極間に発光層を挟んで電圧を印加することにより、陰極から注入された電子および陽極から注入されたホールが発光層中で再結合して励起分子を形成し、その励起分子が基底状態に戻る際にエネルギーを放出して発光する。
そして、励起分子の種類としては、先に述べた光励起の場合と同様、励起一重項状態(S*)と励起三重項状態(T*)が可能である。また、発光素子におけるその統計的な生成比率は、S*:T*=1:3であると考えられている(例えば、下記非特許文献2参照)。
筒井哲夫、「応用物理学会 有機分子・バイオエレクトロニクス分科会 第3回講習会テキスト」p.31−37(1993)
しかしながら、一般的な有機化合物は室温において、励起三重項状態からの発光(燐光)は観測されず、通常は励起一重項状態からの発光(蛍光)のみが観測される。有機化合物の基底状態は通常、一重項基底状態(S0)であるため、T*→S0遷移(燐光過程)は強度の禁制遷移となり、S*→S0遷移(蛍光過程)は許容遷移となるからである。
従って、発光素子における内部量子効率(注入したキャリアに対して発生するフォトンの割合)の理論的限界は、S*:T*=1:3であることを根拠に25%とされていた。
ところが、上述した燐光性化合物を用いれば、T*→S0遷移(燐光過程)が許容されるため、内部量子効率は75〜100%にまで理論上は可能となる。つまり、従来の3〜4倍の発光効率が可能となる。実際、燐光性化合物を用いた発光素子が相次いで発表され、その発光効率の高さが注目されている(例えば、下記非特許文献3および非特許文献4参照)。
D.F.オブライエン外3名「アプライド フィジクス レターズ、vol.74、No.3」p.442−444(1999) テツオ ツツイ外8名「ジャパニーズ ジャーナル オブ アプライド フィジクス、vol.38」L1502−L1504(1999)
上記非特許文献3では、白金を中心金属とするポルフィリン錯体を、上記非特許文献4ではイリジウムを中心金属とする有機金属錯体を用いており、いずれの錯体も燐光性化合物である。
また、イリジウムを中心金属とする有機金属錯体(以下、「イリジウム錯体」と記載する。)を含む層と、公知の蛍光性化合物であるDCM2を含む層とを交互に積層することにより、イリジウム錯体で生成した三重項励起エネルギーをDCM2に移動させ、DCM2の発光に寄与させることもできる(例えば、下記特許文献5参照)。この場合、DCM2の励起一重項状態の量(通常であれば25%以下)は、通常に比べて増幅されるため、DCM2の発光効率は増大する。これはいわば、燐光性化合物であるイリジウム錯体の増感作用とも言える。
M.A.バルド外2名「ネイチャー(ロンドン)、vol.403」p.750−753(2000)
上記非特許文献3〜5に示されているとおり、燐光性化合物を用いた発光素子は、従来よりも高い発光効率を達成できる(つまり、少ない電流で高い輝度を達成できる。)。従って、燐光性化合物を用いた発光素子は、高輝度発光・高発光効率を達成するための手法として、今後の開発において大きなウェートを占めるものと考えられる。
以上のように、燐光性化合物は項間交差を起こしやすく、なおかつ励起三重項状態からの発光(燐光)を生じやすいため、光増感剤としての利用や燐光材料としての発光素子への適用が有用であり、期待されている化合物であるが、その数は少ないのが現状である。
数少ない燐光性化合物の中で、前記非特許文献4や非特許文献5で用いられているイリジウム錯体は、オルトメタル錯体と呼ばれる有機金属錯体の一種である。この錯体は燐光寿命が数百ナノ秒であり、また、燐光量子収率も高いことから、上述のポルフィリン錯体に比べると輝度の上昇に伴う効率の低下が小さいため、発光素子において有効である。その意味でも、このような有機金属錯体は、励起三重項状態への直接光励起や項間交差を起こしやすい化合物、ひいては燐光性化合物を合成するための一つの指針である。
前記非特許文献4や非特許文献5で用いられているイリジウム錯体の配位子の構造は比較的単純であり、色純度の良い緑色発光を示すが、発光色を他の色に変えるためには配位子の構造を変える必要がある。例えば、「第10回 インターナショナル ワークショップ オン インオーガニック アンド オーガニック エレクトロルミネッセンス(EL’00)」p.35−38では、種々の配位子およびその配位子を用いたイリジウム錯体が合成されており、いくつかの発光色を実現している。
M.トンプソン、外10名「第10回 インターナショナル ワークショップ オン インオーガニック アンド オーガニック エレクトロルミネッセンス(EL’00)」p.35−38
しかしながら、これらはごく限られた一例であるため、その種類において十分に満足されるものではない。上述したような有機金属錯体は、励起三重項状態への項間交差が起こりやすい材料であり、光増感剤や燐光材料などの様々な用途が考えられるため、その用途に応じた様々な性能が必要である。
従って、励起三重項状態への項間交差が起こりやすい新規な有機金属錯体が望まれている。その中でも、特に高効率な発光素子を得るため、燐光材料として用いることができる新規な有機金属錯体が望まれている。
本発明は、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、また燐光を発光できる新規な有機金属錯体を提供することを課題とする。また、本発明は、前記有機金属錯体を用いた高効率な発光素子を提供することを課題とする。さらに、本発明は、前記発光素子を用いた消費電力の低い発光装置を提供することを課題とする。
本発明者らは、鋭意実験、検討を重ねた結果、下記一般式(1)で表される構造を有する有機金属錯体は、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、また燐光を発光できる化合物であることを見い出した。
Figure 0004366332
(式中、R1〜R3は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Arは、電子吸引性の置換基を有するアリール基または電子吸引性の置換基を有する複素環残基を表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表す。)
従って、本発明は、上記一般式(1)で表される構造を有する有機金属錯体を提供するものである。そのうち、特に下記一般式(2)で表される構造を有する有機金属錯体が好ましい。
Figure 0004366332
(式中、R1〜R3は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、R4〜R7のいずれかは電子吸引性の置換基を表し、R4〜R7のうちの残りは水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表す。)
また、前記式(1)で表される構造を有する有機金属錯体のうち、特に下記一般式(3)で表される構造を有する有機金属錯体が好ましい。
Figure 0004366332
(式中、R1は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、R8は、電子吸引性の置換基を表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表す。)
また、本発明者らは、下記一般式(4)で表される有機金属錯体が、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、また燐光を発光できる化合物であることを見い出した。
Figure 0004366332
(式中、R1〜R3は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Arは、電子吸引性の置換基を有するアリール基または電子吸引性の置換基を有する複素環残基を表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表し、前記Mが第9族元素の場合はn=2、第10族元素の場合はn=1となる。また、Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、のいずれかを表す。)
従って、本発明は、上記一般式(4)で表される有機金属錯体を提供するものである。このうち、特に下記一般式(5)で表される有機金属錯体が好ましい。
Figure 0004366332
(式中、R1〜R3は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、R4〜R7のいずれかは電子吸引性の置換基を表し、R4〜R7のうちの残りは水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル機、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表し、前記Mが第9族元素の場合はn=2、第10族元素の場合はn=1となる。また、Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、のいずれかを表す。)
また、前記式(4)で表される有機金属錯体のうち、特に下記一般式(6)で表される有機金属錯体が好ましい。
Figure 0004366332
(式中、R1は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、R8は、電子吸引性の置換基を表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表し、前記Mが第9族元素の場合はn=2、第10族元素の場合はn=1となる。また、Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、のいずれかを表す。)
なお、上記一般式(4)〜(6)において、配位子Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子であれば何れでもよいが、以下の構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかが好ましい。このモノアニオン性の二座キレート配位子は、配位能力が高く、また安価に入手することができるため、有効である。
Figure 0004366332
なお、上記一般式(1)〜(3)で表される構造を有する有機金属錯体、または上記一般式(4)〜(6)で表される有機金属錯体において、電子吸引性の置換基としては、ハロゲノ基またはハロアルキル基のいずれかであることが好ましく、特にフルオロ基やトリフルオロメチル基が好ましい。これらの電子吸引性の置換基により上記一般式(1)〜(3)で表される構造を有する有機金属錯体、または上記一般式(4)〜(6)で表される有機金属錯体の発光量子収率を向上させることができるため、有効である。
また、本発明者らは、下記一般式(14)で表される構造を有する有機金属錯体が、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、また燐光を発光できる化合物であることを見い出した。
Figure 0004366332
(式中、R2およびR3は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Arはアリール基または複素環残基を表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表す。)
従って、本発明は、上記一般式(14)で表される構造を有する有機金属錯体を提供するものである。このうち、特に下記一般式(15)で表される構造を有する有機金属錯体が好ましい。
Figure 0004366332
(式中、R2〜R7、R9〜R13は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表す。)
また、前記式(14)で表される構造を有する有機金属錯体のうち、特に下記一般式(16)で表される構造を有する有機金属錯体が好ましい。
Figure 0004366332
(式中、R8およびR14は水素、ハロゲン原子、ハロアルキル基のいずれかを表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表す。)
また、本発明者らは、下記一般式(17)で表される有機金属錯体が、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、また燐光を発光できる化合物であることを見い出した。
Figure 0004366332
(式中、R2およびR3は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Arは、アリール基または複素環残基を表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表し、前記Mが第9族元素の場合はn=2、第10族元素の場合はn=1となる。また、Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、のいずれかを表す。)
従って、本発明は、上記一般式(17)で表される有機金属錯体を提供するものである。なお、上記一般式(17)において、配位子Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子であれば何れでもよいが、以下の構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかが好ましい。これらのモノアニオン性のキレート配位子は、配位能力が高く、また安価に入手することができるため、有効である。
Figure 0004366332
また、本発明者らは、下記一般式(18)で表される有機金属錯体が、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、燐光を発光できる化合物であることを見い出した。
Figure 0004366332
(式中、R2〜R7、R9〜R13は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表し、前記Mが第9族元素の場合はn=2、第10族元素の場合はn=1となる。また、Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、のいずれかを表す。)
なお、上記一般式(18)において、配位子Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子であれば何れでもよいが、以下の構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかであるのが好ましい。これらのモノアニオン性のキレート配位子は、配位能力が高く、また安価に入手することができるため、有効である。
Figure 0004366332
また、本発明者らは、下記一般式(19)で表される有機金属錯体が、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、また燐光を発光できる化合物であることを見い出した。
Figure 0004366332
(式中、R8およびR14は水素、ハロゲン原子、ハロアルキル基のいずれかを表す。また、Mは第9族元素または第10族元素を表し、前記Mが第9族元素の場合はn=2、第10族元素の場合はn=1となる。また、Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、のいずれかを表す。)
なお、上記一般式(19)において、配位子Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子であれば何れでもよいが、以下の構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の配位子のいずれかであるのが好ましい。これらのモノアニオン性のキレート配位子は、配位能力が高く、また安価に入手することができるため、有効である。
Figure 0004366332
なお、前記一般式(14)で表される構造を有する有機金属錯体、前記一般式(17)で表される有機金属錯体、または前記一般式(17)で表される有機金属錯体における前記Lが下記構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかである有機金属錯体において、(a)R2およびR3の少なくとも一つが電子吸引性の置換基であるか、(b)Arが電子吸引性の置換基を有するか、または(c)R2およびR3の少なくとも一つが電子吸引性の置換基であり且つArが電子吸引性の置換基を有することが、好ましい。これらの電子吸引性の置換基により、前記一般式(14)で表される構造を有する有機金属錯体、前記一般式(17)で表される有機金属錯体、または前記一般式(17)における前記Lが下記構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかである有機金属錯体は、より強い燐光を発することができるため、有効である。
Figure 0004366332
なお、前記一般式(15)で表される構造を有する有機金属錯体、前記一般式(18)で表される有機金属錯体、または前記一般式(18)で表される有機金属錯体における上記Lが下記構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかである有機金属錯体において、R2〜R7、R9〜R13の少なくとも一つが電子吸引性の置換基であることが好ましい。これらの電子吸引性の置換基により、前記一般式(15)で表される構造を有する有機金属錯体、前記一般式(18)で表される有機金属錯体、または前記一般式(18)における前記Lが下記構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかである有機金属錯体は、より強い燐光を発することができるため、有効である。
Figure 0004366332
なお、前記一般式(16)で表される構造を有する有機金属錯体、前記一般式(19)で表される有機金属錯体、または前記一般式(19)で表される有機金属錯体における前記Lが下記構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかである有機金属錯体において、R8およびR14の少なくとも一つが電子吸引性の置換基であることが好ましい。これらの電子吸引性の置換基により、前記一般式(16)で表される構造を有する有機金属錯体、前記一般式(19)で表される有機金属錯体、または前記一般式(19)における前記Lが下記構造式(7)〜(13)で表されるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかである有機金属錯体は、より強い燐光を発することができるため、有効である。
Figure 0004366332
なお、前記一般式(14)〜(19)において、電子吸引性の置換基は、ハロゲノ基またはハロアルキル基のいずれかが好ましく、特にフルオロ基またはトリフルオロメチル基が好ましい。これらの電子吸引性の置換基により、前記一般式(14)〜(16)で表される構造を有する有機金属錯体、または前記一般式(17)〜(19)で表される有機金属錯体の発光量子収率を向上させることができるため、有効である。
なお、より効率よく燐光発光をさせるためには、重原子効果の観点から、中心金属としては重い金属の方が好ましい。従って、本発明では、前記一般式(1)〜(6)および(14)〜(19)において、中心金属Mがイリジウムまたは白金であることを特徴とする。
ところで、本発明の有機金属錯体は、三重項励起エネルギーを発光に変換することが可能であるため、発光素子に適用することにより高効率化が可能となり、非常に有効である。従って、本発明では、本発明の有機金属錯体を用いた発光素子も含むものとする。
この時、本発明の有機金属錯体は、前記非特許文献6で述べられたような増感剤として用いてもよいが、前記非特許文献5で述べられたような発光体としての利用法の方が、発光効率の面で効果的である。従って、本発明は、本発明の有機金属錯体を発光体として用いた発光素子を特徴とする。
このようにして得られた本発明の発光素子は高い発光効率を実現できるため、これを発光素子として用いた発光装置(画像表示デバイスや発光デバイス)は低消費電力を実現できる。従って本発明には、本発明の発光素子を用いた発光装置も含むものとする。
ここで、本明細書および特許請求の範囲中における発光装置とは、発光素子を用いた画像表示デバイスもしくは発光デバイスを指す。また、発光素子にコネクター、例えば異方導電性フィルムもしくはTAB(Tape Automated Bonding)テープもしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TABテープやTCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むものとする。さらに、本発光装置には照明器具等に用いられる発光装置も含むものとする。
本発明を実施することで、励起三重項状態への項間交差が起こりやすく、また燐光を発光できる新規な有機金属錯体を提供することができる。また、本発明の有機金属錯体を用いて発光素子を作製し、発光装置に用いることにより、消費電力の低い発光装置を提供することができる。
以下ではまず、本発明の有機金属錯体の合成方法について例示する。本発明の有機金属錯体〔前記一般式(1)〜(6)あるいは(14)〜(19)〕は、配位子をオルトメタル化反応させることによって得ることができる。例えば、下記一般式(20)で表される配位子を有する本発明の有機金属錯体〔すなわち、前記一般式(15)や(18)〕は、下記一般式(20)で表される配位子をオルトメタル化反応させることにより得られる。以下では、この一般式(20)で表される配位子を用い、前記一般式(18)で表される本発明の有機金属錯体を合成する手法を例示する。
Figure 0004366332
(式中、R2〜R7、R9〜R13は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。)
なお、上記一般式(20)で表される配位子は公知の方法(特開昭48−8788号公報)を用いて合成することができ、例えば、下記合成スキーム(21)にて合成することができる。また、下記一般式(22)で表される配位子も同様な合成スキームにて合成することができる。本発明の有機金属錯体における他の配位子についても、同様の手法で合成可能である。
Figure 0004366332
(式中、R2〜R7、R9〜R13は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。)
Figure 0004366332
(式中、R1〜R3は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、R4〜R7のいずれかは電子吸引性の置換基を有し、R4〜R7のうちの残りは水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基を表す。)
このようにして得られた一般式(20)の配位子を用いて、本発明の有機金属錯体であるオルトメタル錯体を形成する。この時のオルトメタル化反応としては、公知の合成方法を用いればよい。
例えば、イリジウムを中心金属として本発明の有機金属錯体を合成する際は、中心金属原料として塩化イリジウムの水和物を用い、一般式(20)の配位子と混合して窒素雰囲気下にて還流することにより、まず塩素架橋の複核錯体を合成する〔下記合成スキーム(23)〕。次に、得られた前記複核錯体と配位子Lとを混合して窒素雰囲気下にて還流することにより、塩素架橋を配位子Lで切断し、本発明の有機金属錯体を得る〔下記合成スキーム(24)〕。
Figure 0004366332
(式中、R2〜R7、R9〜R13は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。)
Figure 0004366332
(式中、R2〜R7、R9〜R13は水素、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、シアノ基、複素環残基のいずれかを表す。また、Lは、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子、またはカルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、またはフェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、のいずれかを表す。)
なお、本発明で用いる有機金属錯体の合成法は、上記に示す合成方法に限定されるものではない。
このようにして得られる本発明の有機金属錯体は、電子輸送性を有するピラジン誘導体を配位子として用いているため、キャリア輸送性を有しており、電子デバイスの利用が可能である。また、前記一般式(20)で表される配位子の構造を変化させることで様々な発光色等の特性を有する有機金属錯体を得ることができる。その具体例としては、例えば下記表1〜9に示した化合物(25)〜(105)などがある。表中、Lについては、構造式の番号(前述の構造式番号に対応している。)によって表している。ただし、本発明で用いる有機金属錯体は、下記表1〜9に示したものに限定されるものではない。
Figure 0004366332
Figure 0004366332
Figure 0004366332
Figure 0004366332
Figure 0004366332
Figure 0004366332
Figure 0004366332
Figure 0004366332
Figure 0004366332
本発明の有機金属錯体は、光増感剤や燐光材料として用いることができるが、以下では、本発明の有機金属錯体を発光素子に適用する形態について述べる。
本発明における発光素子は、基本的には、一対の電極(陽極および陰極)間に上述した本発明の有機金属錯体〔前記一般式(1)〜(3)および(14)〜(16)の構造を有する有機金属錯体、または前記一般式(4)〜(6)および(17)〜(19)で表される有機金属錯体〕を含む発光物質を含む層〔正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層(ホールブロッキング層)、電子輸送層、電子注入層など〕を挟持した素子構成である。
また、発光物質を含む層に用いる本発明の有機金属錯体以外の材料としては、公知の材料を用いることができ、低分子系材料および高分子系材料のいずれを用いることもできる。なお、発光物質を含む層を形成する材料には、有機化合物材料のみからなるものだけでなく、無機化合物を一部に含む構成も含めてもよい。
以下、本発明の発光素子の実施形態について、さらに詳細に説明する。
〈実施の形態1〉
本実施の形態1では、本発明の有機金属錯体を含む発光層と、低分子系材料からなる正孔注入層、正孔輸送層、ホールブロッキング層および電子輸送層を有する発光素子の素子構成について図1を用いて説明する。
図1では、基板100上に第1の電極101が形成され、第1の電極101上に発光物質を含む層102が形成され、その上に第2の電極103が形成された構造を有する。
なお、ここで基板100に用いる材料としては、従来の発光素子に用いられているものであればよく、例えば、ガラス、石英、透明プラスチック、可撓性基板などからなるものを用いることができる。
また、本実施の形態1における第1の電極101は陽極として機能し、第2の電極103は陰極として機能する。
すなわち、第1の電極101は陽極材料で形成され、ここで用いることのできる陽極材料としては、仕事関数の大きい(仕事関数4.0eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。なお、陽極材料の具体例としては、インジウム錫酸化物、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物、酸化インジウムに2〜20[%]の酸化亜鉛(ZnO)を混合してなるインジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛に数[%]の酸化ガリウム(Ga23)を混合してなる亜鉛ガリウム酸化物の他、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、または金属材料の窒化物(TiN)等を用いることができる。
一方、第2の電極103の形成に用いられる陰極材料としては、仕事関数の小さい(仕事関数3.8eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。なお、陰極材料の具体例としては、元素周期律の1族または2族に属する元素、すなわちLiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li)や化合物(LiF、CsF、CaF2)の他、希土類金属を含む遷移金属を用いて形成することができるが、Al、Ag、ITO等の金属(合金を含む)との積層により形成することもできる。
なお、上述した陽極材料および陰極材料は、蒸着法、スパッタリング法等により薄膜を形成することにより、それぞれ第1の電極101および第2の電極103を形成する。膜厚は、10〜500nmとするのが好ましい。最後にSiN等の無機材料やポリテトラフルオロエチレン、スチレンポリマー等の有機材料からなる保護層(バリア層)を形成する。バリア層は、透明であっても不透明であってもよく、上記無機材料または有機材料は、蒸着法、スパッタリング法等により形成する。
さらに、発光素子の有機層や電極の酸化や湿気から防ぐためにSrOxやSiOx等の乾燥剤を電子ビーム照射法、蒸着法、スパッタリング法、ゾル・ゲル法等により形成する。
また、本発明の発光素子において、発光層におけるキャリアの再結合により生じる光は、第1の電極101または第2の電極103の一方、または両方から外部に出射される構成となる。すなわち、第1の電極101から光を出射させる場合には、第1の電極101を透光性の材料で形成することとし、第2の電極103側から光を出射させる場合には、第2の電極103を透光性の材料で形成することとする。
また、発光物質を含む層102は複数の層を積層することにより形成されるが、本実施の形態1では、正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113、ホールブロッキング層114、および電子輸送層115を積層することにより形成される。
正孔注入層111を形成する正孔注入性材料としては、フタロシアニン系の化合物が有効である。例えば、フタロシアニン(略称:H2−Pc)、銅フタロシアニン(略称:Cu−Pc)等を用いることができる。また、4,4’−ビス[N−(4−(N,N−ジ−m−トリルアミノ)フェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DNTPD)なども用いることができる。
正孔輸送層112を形成する正孔輸送性材料としては、芳香族アミン系(すなわち、ベンゼン環−窒素の結合を有するもの)の化合物が好適である。広く用いられている材料として、例えば、4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(略称:TPD)の他、その誘導体である4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(略称:α−NPD)、あるいは4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−トリフェニルアミン(略称:MTDATA)などのスターバースト型芳香族アミン化合物が挙げられる。また、MoOx等の導電性無機化合物と上記有機化合物との複合材料を用いることもできる。
発光層113は、前記一般式(1)〜(3)および(14)〜(16)の構造を有する有機金属錯体、または前記一般式(4)〜(6)および(17)〜(19)で表される有機金属錯体を含み、この有機金属錯体とホスト材料とを共蒸着することにより形成される。ホスト材料としては公知の材料を用いることができ、トリフェニルアミノキノキサリン(略称:TPAQn)、4,4’−ビス(N−カルバゾリル)−ビフェニル(略称:CBP)や、2,2’,2”−(1,3,5−ベンゼントリ−イル)−トリス[1−フェニル−1H−ベンズイミダゾール](略称:TPBI)などの他、上述した正孔輸送材料や後述の電子輸送性材料などが挙げられる。
ホールブロッキング層114を形成するホールブロッキング性の材料としては、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)等を用いることができる。
電子輸送層115を形成する場合の電子輸送性材料としては、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq3)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq3)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム略称:BeBq2)などのキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体や、先に述べたBAlqなどが好適である。また、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX)2)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ)2)などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体もある。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)や、先に述べたOXD−7、TAZ、p−EtTAZ、BPhen、BCPなども電子輸送性材料として用いることができる。また、TiOx等の無機材料も用いることができる。
以上により、本発明の有機金属錯体を含む発光層113と、低分子系材料からなる正孔注入層111、正孔輸送層112、ホールブロッキング層114および電子輸送層115を有する発光素子を形成することができる。
なお、本実施の形態1においては、発光層113において、本発明の有機金属錯体をゲスト材料として用いており、本発明の有機金属錯体から得られる発光を発光色とする発光素子である。
〈実施の形態2〉
本実施の形態2では、本発明の有機金属錯体を含む発光層と、高分子系材料からなる正孔注入層を有し、これらを湿式プロセスにて形成する発光素子の素子構成について図2を用いて説明する。
なお、基板200、第1の電極201、第2の電極203については、実施の形態1と同様の材料を用いて、同様にして形成することができるため説明を省略する。
また、発光物質を含む層202は複数の層を積層することにより形成されるが、本実施の形態2では、正孔注入層211、発光層212を積層することにより形成される。
正孔注入層211を形成する正孔注入性の材料としては、ポリスチレンスルホン酸(略称:PSS)をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン(略称:PEDOT)や、ポリアニリン、ポリビニルカルバゾール(略称:PVK)などを用いることができる。
発光層212は、前記一般式(1)〜(3)および(14)〜(16)の構造を有する有機金属錯体、または前記一般式(4)〜(6)および(17)〜(19)で表される、本発明の有機金属錯体をゲスト材料として含む。ホスト材料はバイポーラ性の材料であればよいが、ホール輸送材料と電子輸送材料とを混合してバイポーラ性としてもよい。ここでは、まず、ホール輸送性の高分子化合物(例えばPVK)と前述した電子輸送性材料(例えばPBD)とを7:3(モル比)で同一溶媒に溶かし、さらには本発明の有機金属錯体を適量(5wt%程度)添加した溶液を調製する。この溶液を湿式塗布することによって、発光層212を得ることができる。
以上により、本発明の有機金属錯体を含む発光層212と、高分子系材料からなる正孔注入層211を有し、これらを湿式プロセスにて形成する発光素子を得ることができる。
〈実施の形態3〉
本実施の形態3では、本発明の有機金属錯体と蛍光性化合物の二種類を含む発光層と、低分子系材料からなる正孔注入層、正孔輸送層、ホールブロッキング層(正孔阻止層)および電子輸送層を有する発光素子の素子構成について図3を用いて説明する。
なお、基板300、第1の電極301、発光物質を含む層302、第2の電極303、正孔注入層311、正孔輸送層312、発光層313、ホールブロッキング層314、電子輸送層315については、実施の形態1と同様の材料を用いて、同様にして形成することができるため説明を省略する。
本実施の形態の発光層313は、ホスト材料と、第一のゲスト材料である本発明の有機金属錯体と、第二のゲスト材料である蛍光性化合物と、からなる。ホスト材料としては、実施の形態1で述べた材料を用いればよい。
また、第二のゲスト材料としては公知の蛍光性化合物を用いることができ、具体的には、DCM1、DCM2、DCJTB、キナクリドン、N,N−ジメチルキナクリドン、ルブレン、ペリレン、DPT、Co−6、PMDFB、BTX、ABTX等を用いることができる。
本実施の形態3においては、前述非特許文献6と同様、発光層313において第一のゲスト材料である本発明の有機金属錯体は増感剤として作用し、第二のゲスト材料である蛍光性化合物の励起一重項状態の数を増幅する。従って、本実施の形態3の発光素子は、蛍光性化合物から得られる発光を発光色とする発光素子であり、なおかつ、蛍光性化合物の発光効率を従来の状態に比べて向上させることができる。なお、本発明の有機金属錯体を用いた発光素子は、陽極、および陰極のどちらから積層してもよい。
例えば、図4(A)は、発光素子の陽極から積層した図であり、図4(B)は発光素子の陰極から積層した図である。図4(A)において、陽極401から正孔注入層402、正孔輸送層403、発光層404、電子輸送層405、電子注入層406、陰極407と順に積層する。ここでは、陽極にpチャネル型TFT408を取り付けるものとする。また、図4(B)において、陰極421から電子注入層422、電子輸送層423、発光層424、正孔輸送層425、正孔注入層426、陽極427と順に積層する。ここでは、陰極にnチャネル型TFT428を取り付けるものとする。また、本実施例では陽極と陰極とに挟持される発光物質を含む層に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を示すが、必ずしもその必要はなく、ホールブロッキング層や上記各層をあわせた混合層等の補助層を形成することもできる。
〈実施の形態4〉
本実施の形態4においては、ガラス、石英、金属、バルク半導体、透明プラスチック、可撓性基板などからなる基板500上に発光素子を作製している。基板上にこのような発光素子を複数作製することで、パッシブ型の発光装置を作製することができる。また、ガラス、石英、透明プラスチック、可撓性基板などからなる基板以外に、例えば図5に示すように、薄膜トランジスタ(TFT)アレイと接する発光素子を作製してもよい。ここでは、511と512をTFTとし、513を本発明の有機金属錯体を有する発光素子を作製する。発光素子513のうち第1の電極514、発光物質を含む層515、また第2の電極516を作製することができる。さらに配線517を第2の電極516に接して作製する。これにより、TFTによって発光素子の駆動を制御するアクティブマトリクス型の発光装置を作製できる。なお、TFTの構造は、特に限定されない。例えば、スタガ型でもよいし、逆スタガ型でもよい。また、TFTを構成している半導体層の結晶性についても特に限定されず、結晶質のものでもよいし非晶質のものでもよい。
《実施例1》
本実施例1は、下記構造式(106)で表される本発明の有機金属錯体の合成例である。この有機金属錯体は、前記表6中、構造式(70)として示した有機金属錯体で、前記一般式(17)中、R2=H、R3=H、Ar=フェニル基、M=Ir、Lは前記式(7)〔=[化12]中の式(7)〕で表されるβ−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子である有機金属錯体(以下、Ir(dppr)2(acac)と略称する。)である。
Figure 0004366332
〈ステップ1:配位子Hdpprの合成〉
本発明の有機金属錯体に用いられる配位子Hdpprは、それ自体公知の方法(例えば特開昭48−8788号公報参照)を用いて合成することができる。本実施例では、特開昭48−8788号公報に記載の方法に準じて合成した。まず、ベンジル21.0g(100mmol)とエチレンジアミン6.1g(101mmol)を、脱水エタノール300mLを溶媒として、窒素雰囲気下6時間還流させた。さらに、溶液を5分の1まで濃縮し、析出した沈殿物を回収した。得られた沈殿物を冷エタノールで洗浄することにより、2、3−ジフェニル−5、6−ジヒドロピラジンを得た(収率78%)。
特開昭48−8788号公報
次に、2、3−ジフェニル−5、6−ジヒドロピラジン18.3g(78.2mmol)と水酸化カリウム4.4gを溶解したグリセリン200mLに加え、190℃で20分間加熱攪拌した。冷却後エーテルで数回抽出し、エーテルを除去し、酢酸エチル/ヘキサン溶媒にてカラム精製した。酢酸エチル/ヘキサン溶媒を除去することにより、配位子Hdppr(2,3−ジフェニルピラジン)を得た(アプリコットオレンジ粉末、収率22%)。本ステップ1での反応を式(107)として示している。
Figure 0004366332
〈ステップ2:複核錯体[Ir(dppr)2Cl]2の合成〉
まず、2−エトキシエタノール30mLと水10mLとの混合液を溶媒として、配位子Hdppr(2,3−ジフェニルピラジン)を1.86g、塩化イリジウム(IrCl3・HCl・H2O)を0.96g混合し、窒素雰囲気下17時間還流することにより、複核錯体[Ir(dppr)2Cl]2 を得た(褐色粉末、収率81%)。本ステップ2での反応を式(108)として示している。
Figure 0004366332
〈ステップ3:本発明の有機金属化合物Ir(dppr)2(acac)の合成〉
さらに、2−エトキシエタノール30mLを溶媒として、上記で得られた[Ir(dppr)2Cl]2 を1.29g、アセチルアセトン(Hacac)を0.29mL、炭酸ナトリウムを0.99g混合し、窒素雰囲気下にて17時間還流した。これを濾過して得られた溶液を、ジクロロメタン溶媒にてカラム精製した。ジクロロメタン/メタノール溶媒より再結晶を行い、本発明の有機金属化合物Ir(dppr)2(acac)を得た(緋色粉末、収率10%)。本ステップ3での反応を式(109)として示している。
Figure 0004366332
本有機金属化合物、すなわち有機金属錯体Ir(dppr)2(acac)を核磁気共鳴分光法(1H−NMR)により分析した。この分析結果は下記のとおりである。1H−NMR.δ(CDCl3):8.48(d,2H),8.32(d,2H),7.69(m,4H),7.51(m,6H),6.85(d,2H),6.66(t,2H),6.47(t,2H),6.34(d,2H),5.27(s,1H),1.86(s,6H).
また、得られた本発明の有機金属化合物Ir(dppr)2(acac)の分解温度TdをTG−DTAにより測定したところ、Td=306℃であり、良好な耐熱性を示すことがわかった。
次に、Ir(dppr)2(acac)のジクロロメタン溶液中における吸収スペクトル、光励起したときの励起スペクトルおよび発光スペクトル(すなわち、紫外・可視領域吸収および蛍光スペクトル)を図6に示す。なお、図6中、吸収スペクトルは点線、励起スペクトルは細い実線、発光スペクトルは太い実線で表す。励起スペクトルは、600nmの発光波長に対応する励起スペクトルである。また、発光スペクトルは、励起スペクトルの最大ピーク(468nm)で励起した際の発光スペクトルである。なお、図6において、縦軸は強度〔任意単位:auxiliary unit(a.u.)〕、横軸は波長(nm)を表す。本発明の有機金属化合物Ir(dppr)2(acac)は231nm、281nm、320nm、400nmおよび501nmに吸収ピークを有している。また、発光スペクトルは600nmに発光ピークを有する赤橙色発光であった。
このように、本発明の有機金属錯体Ir(dppr)2(acac)は、長波長側にいくつもの吸収ピークが観測される。これは、オルトメタル錯体等によく見られる有機金属錯体特有の吸収であり、一重項MLCT遷移、三重項π−π*遷移、三重項MLCT遷移などに対応すると類推される。特に、最も長波長側の吸収ピークが可視領域においてブロードな裾を引いており、三重項MLCT遷移特有の吸収スペクトルであると考えられる。すなわち、Ir(dppr)2(acac)は励起三重項状態への直接光励起や項間交差が可能な化合物であることが分かった。
また、本発明の有機金属化合物Ir(dppr)2(acac)のジクロロメタン溶液に光照射し、酸素置換すると化合物由来の発光がほとんど見られないのに対し、アルゴン置換すると発光が見られることから、燐光であることが示唆される。
《実施例2》
本実施例2は、本発明の有機金属錯体を、発光物質を含む層の一部に用いて発光素子を作製した例であり、より具体的には、本発明の有機金属錯体を発光層のゲスト材料として用いた発光素子の作製例である。その素子構造について図7を用いて説明する。
まず、基板600上に発光素子の第1の電極601が形成される。なお、本実施例では、第1の電極601は陽極として機能する。材料として透明導電膜であるITOを用い、スパッタリング法により110nmの膜厚で形成した。
次に、第1の電極(陽極)601上に発光物質を含む層602が形成される。なお、本実施例における発光物質を含む層602は、正孔注入層611、正孔輸送層612、発光層613、ホールブロッキング層614、電子輸送層615、および電子注入層616からなる積層構造を有している。
第1の電極601が形成された基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに第1の電極601が形成された面を下方にして固定し、真空蒸着装置内部に備えられた蒸発源にDNTPDを入れ、抵抗加熱法に用いた蒸着法により50nmの膜厚で正孔注入層611を形成する。なお、正孔注入層611を形成する材料としては、公知の正孔注入材料を用いることができる。
次に、正孔輸送性に優れた材料により正孔輸送層612を形成する。正孔輸送層612を形成する材料としては、公知の正孔輸送材料を用いることができるが、本実施例では、α−NPDを同様の方法により、10nmの膜厚で形成した。
次に、発光層613を形成する。なお、発光層613において正孔と電子が再結合し、発光を生じる。正孔輸送層612と接して形成される発光層613は、ホスト材料と本発明の有機金属錯体であるゲスト材料を用いることにより形成する。
具体的には、ホスト材料としてCBPをゲスト材料としてIr(dppr)2(acac)を用い、30nmの膜厚で共蒸着法により形成した。ゲスト材料の割合は5.0質量%とした。
次に、ホールブロッキング層614を形成する。ホールブロッキング層614を形成する材料としては、公知のホールブロッキング性の材料を用いることができるが、本実施例では、BCPを10nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、電子輸送層615を形成する。電子輸送層615を形成する材料としては、公知の電子輸送材料を用いることができるが、本実施例では、Alq3を10nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、電子注入層616を形成する。電子注入層616を形成する材料としては、公知の電子注入材料を用いることができるが、本実施例では、CaF2を1nmの膜厚で蒸着法により形成した。
このようにして、正孔注入層616、正孔輸送層612、発光層613、ホールブロッキング層614、電子輸送層615、および電子注入層616を積層して形成される発光物質を含む層602を形成した後、陰極として機能する第2の電極603をスパッタリング法または蒸着法により形成する。なお、本実施例では、発光物質を含む層602上にアルミニウムを150nmの膜厚で蒸着法により形成することにより第2の電極603を得る。
以上により、本発明の有機金属錯体を用いた発光素子を作製した。
また、形成された発光素子に電圧を印加すると、該発光素子においては、8.4Vの時は発光輝度537cd/m2が観測された。また、その時の発光効率は10.0cd/Aであった。また、電流効率−輝度特性を図8に示す。通常の励起三重項状態への項間交差が起きる有機金属錯体を用いた発光素子では高輝度側(高電流領域)において、著しい電流効率の低下が見られるが、本発明の発光素子ではほとんど見られない。従って、高輝度においても高効率が得られる特徴がある。
また、発光素子に電圧を印加し、2000cd/m2の輝度で発光させたときに得られた発光スペクトルを図9に示す。なお、図9において、縦軸はEL(Electro Luminescence)強度(a.u.)、横軸は波長(nm)を表す。図9のとおり、601nmにピークを有する高輝度な赤橙色発光が得られた。
《実施例3》
本実施例3は、本発明の有機金属錯体を、発光物質を含む層の一部に用いて白色発光素子を作製した例である。その素子構造について図10を用いて説明する。
なお、基板700、第1の電極701、第2の電極703については、実施例2と同様の材料を用いて、同様にして形成することができるため説明を省略する。
また、発光物質を含む層702は複数の層を積層することにより形成されるが、本実施例では正孔注入層711、正孔輸送層712、第1の発光層713、第2の発光層714、ホールブロッキング層715、電子輸送層716、電子注入層717を積層することにより形成される。
第1の電極701上に正孔注入性に優れた材料により正孔注入層711を形成する。正孔注入層711を形成する材料としては、公知の正孔注入材料を用いることができるが、本実施例では、Cu−Pcを20nmの膜厚で蒸着法により形成する。
次に、正孔輸送層712を形成する。実施例2と同様の材料を用いて、同様にして20nmの膜厚で形成することができるため説明を省略する。
次に、第1の発光層713を形成する。第1の発光層713は、ホスト材料とゲスト材料を用いることにより形成する。
具体的には、ホスト材料としてα−NPDをゲスト材料としてペリレンを用い、10nmの膜厚で共蒸着法により形成する。ゲスト材料の割合は4.0質量%とする。
次に、第2の発光層714を形成する。第2の発光層714は、ホスト材料と本発明の有機金属錯体であるゲスト材料を用いることにより形成する。
具体的には、ホスト材料としてBAlqをゲスト材料としてIr(dppr)2(acac)を用い、まずホスト材料のみを10nmの膜厚で蒸着法により形成し、次にゲスト材料との共蒸着層を10nmの膜厚で形成する。ゲスト材料の割合は5.0質量%とする。
次に、ホールブロッキング層715を形成する。ホールブロッキング層715を形成する材料としては、公知のホールブロッキング性の材料を用いることができるが、本実施例では、BAlqを20nmの膜厚で蒸着法により形成する。
次に、電子輸送層716を形成する。電子輸送層716を形成する材料としては、実施例2と同様の材料を用いて、同様にして20nmの膜厚で形成することができるため説明を省略する。
次に、電子注入層717を形成する。電子注入層717を形成する材料としては、実施例2と同様の材料を用いて、同様にして1nmの膜厚で形成することができるため説明を省略する。
次に、陰極として機能する第2の電極703をスパッタリング法または蒸着法により形成する。なお、本実施例では、発光物質を含む層702上にアルミニウムを150nmの膜厚で蒸着法により形成することにより第2の電極703を得る。
以上により、本発明の有機金属錯体を用いた白色発光素子が作製される。例えば、本発明の有機金属錯体の一例(実施例1参照)であるIr(dppr)2(acac)は、高輝度の赤橙色発光を有するため、本実施例のように白色発光素子への適用にも極めて有効である。
《実施例4》
本実施例4は、下記構造式(110)で表される本発明の有機金属錯体の合成例である。この有機金属錯体は、前記一般式(17)中、R2=H、R3=H、Ar:4−メチルフェニル基、M=Ir、Lは[化12]中式(7)で表されるβ−ジケトン構造を有するモノアニオン性の配位子である有機金属錯体〔略称:Ir(bmppr)2(acac)〕である。
Figure 0004366332
〈ステップ1:複核錯体(略称:[Ir(bmppr)2Cl]2)の合成〉
本発明の有機金属錯体の合成に用いられる配位子は、2,3−ビス(4−メチルフェニル)ピラジン(CAS番号:92405−82−8,略称:Hbmppr)である。まず、2−エトキシエタノール60mLと水20mLとの混合液を溶媒として、配位子Hbmpprを5.01g、塩化イリジウム(IrCl3・HCl・H2O)を2.30g混合し、窒素雰囲気下16時間還流することにより、複核錯体[Ir(bmppr)2Cl]2 を得た(褐色粉末、収率65%)。本ステップ1での反応式を式(111)として示している。
Figure 0004366332
〈ステップ2:本発明の有機金属化合物〔略称:Ir(bmppr)2(acac)〕の合成〉
さらに、2−エトキシエタノール30mLを溶媒として、上記で得られた[Ir(bmppr)2Cl]2を1.85g、アセチルアセトン(略称:Hacac)を0.38mL、炭酸ナトリウムを1.31g混合し、窒素雰囲気下にて17時間還流した。これを濾過して得られた溶液を、酢酸エチル溶媒にてカラム精製した。酢酸エチル/ヘキサン溶媒より再結晶を行い、本発明の有機金属化合物Ir(bmppr)2(acac)を得た(茶色粉末、収率10%)。本ステップ2での反応式(112)として示している。
Figure 0004366332
本有機金属化合物、すなわち有機金属錯体Ir(bmppr)2(acac)を核磁気共鳴分光法(1H−NMR)により分析した。この分析結果は以下のとおりである。1H−NMR.δ(CDCl3):8.43(d,2H),8.27(d,2H),7.59(d,4H),7.59(m,4H),6.83(d,2H),6.33(d,2H),6.17(s,2H),5.27(s,1H),2.46(s,6H),2.03(s,6H),1.86(s,6H)。
また、得られた本発明の有機金属化合物Ir(bmppr)2(acac)の分解温度Tdを示唆熱熱重量同時測定装置(セイコー電子株式会社製,TG/DTA)により測定したところ、Td=362℃であり、良好な耐熱性を示すことがわかった。
次に、Ir(bmppr)2(acac)のジクロロメタン中における吸収スペクトル、励起スペクトルおよび発光スペクトル(PL:Photo Luminescence)を図11に示す。本発明の有機金属化合物Ir(bmppr)2(acac)は390nm(sh)、440nm(sh)、510nm(sh)および540nm(sh)に吸収ピークを有していることが観察された。また、発光スペクトルは600〜615nmに発光強度が強い強度分布を有した橙色発光であった。なお、図11中、吸収スペクトルは点線、励起スペクトルは細い実線、発光スペクトルは太い実線で表す。
また、本発明の有機金属化合物Ir(bmppr)2(acac)を含んだジクロロメタン溶液に酸素を溶存させ光照射した状態と、アルゴンを溶存させ光照射した状態におけるIr(bmppr)2(acac)発光強度を調べた。その結果、アルゴンを溶存させた状態の方がIr(bmppr)2(acac)がより強く発光し、燐光を発光する物質と同様な傾向が見られた。このことから、本発明の有機金属化合物Ir(bmppr)2(acac)に由来する発光は、蛍光ではなく燐光による発光であることが示唆された。
《実施例5》
本実施例5は、本発明の有機金属錯体を、発光物質を含む層の一部に用いて発光素子を作製した例であり、特に、本発明の有機金属錯体を発光層のゲスト材料として用いた発光素子の作製例である。その素子構造について図12を用いて説明する。
まず、基板800上に発光素子の第1の電極801を形成した。なお、本実施例では、第1の電極801は陽極として機能する。材料として透明導電膜であるSiO2を含むITOを用い、スパッタリング法により110nmの膜厚で形成した。
次に、第1の電極(陽極)801上に発光物質を含む層802を形成した。なお、本実施例における発光物質を含む層802は、正孔注入層811、正孔輸送層812、発光層813、電子輸送層814、および電子注入層815からなる積層構造となるように形成した。
第1の電極801上に正孔注入層811を形成した。正孔注入層811を形成した材料として本実施例では、Cu−Pcを20nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、正孔輸送層812を形成した。正孔輸送層812を形成した材料として本実施例では、α−NPDを40nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に発光層813をホスト材料とゲスト材料を用いることにより形成した。具体的には、ホスト材料としてα−NPDをゲスト材料としてIr(dppr)2(acac)を用い、30nmの膜厚で共蒸着法により形成した。ゲスト材料の割合は5質量%とした。なお共蒸着法とは、抵抗加熱によりホスト材料とゲスト材料のそれぞれを蒸発させ、気相中で混合して蒸着する方法である。
次に、電子輸送層814を形成した。電子輸送層814を形成した材料として本実施例では、BAlqを10nmの膜厚で形成した上に、Alq3を45nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、電子注入層815を形成した。電子注入層815を形成した材料として本実施例では、CaF2を1nmの膜厚で蒸着法により形成した。
このようにして、正孔注入層811、正孔輸送層812、発光層813、電子輸送層814、および電子注入層815を積層して形成した発光物質を含む802を形成した後、陰極として機能する第2の電極803をスパッタリング法または蒸着法により形成した。なお、本実施例では、発光物質を含む層802上にアルミニウムを150nmの膜厚で蒸着法により第2の電極803を形成した。
以上により、本発明の有機金属錯体を用いた発光素子を製造した。
また、作製した発光素子に電圧を印加すると、該発光素子においては、8.0Vの時は発光輝度938cd/m2が観測された。また、その時の発光効率は23.4cd/Aであった。また、電流効率−輝度特性を図13に示す。通常の励起三重項状態への項間交差が起きる有機金属錯体を用いた発光素子では高輝度側(高電流領域)において、著しい電流効率の低下が見られるが、本発明の発光素子ではほとんど見られない。従って、高輝度においても高効率が得られる特徴がある。
また、発光素子に電圧を印加し、4500cd/m2の輝度で発光させたときに得られた発光スペクトルを図14に示す。なお、図14において、縦軸はEL強度(a.u.)、横軸は波長(nm)を表す。図14のとおり、583nmにピークを有する高輝度な赤橙色発光が得られた。
《実施例6》
本実施例6は、本発明の有機金属錯体を、発光物質を含む層の一部に用いて発光素子を作製した例であり、より具体的には、本発明の有機金属錯体を発光層のゲスト材料として用いた発光素子の作製例である。その素子構造について図15を用いて説明する。
まず、基板900上に発光素子の第1の電極901を形成した。なお、本実施例では、第1の電極901は陽極として機能する。材料として透明導電膜であるSiO2を含むITOを用い、スパッタリング法により110nmの膜厚で形成した。
次に、第1の電極(陽極)901上に発光物質を含む層902を形成した。なお、本実施例における発光物質を含む層902は、正孔注入層911、正孔輸送層912、発光層913、電子輸送層914、および電子注入層915からなる積層構造となるように形成した。
第1の電極901上に正孔注入層911を形成した。正孔注入層911を形成した材料として本実施例では、Cu−Pcを20nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、正孔輸送層912を形成した。正孔輸送層912を形成した材料として本実施例では、α−NPDを40nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に発光層913をホスト材料とゲスト材料を用いることにより形成した。具体的には、ホスト材料としてBAlqをゲスト材料としてIr(dppr)2(acac)を用い、30nmの膜厚で共蒸着法により形成した。ゲスト材料の割合は5質量%とした。
次に、電子輸送層914を形成した。電子輸送層914を形成した材料として、本実施例では、Alq3を50nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、電子注入層915を形成した。電子注入層915を形成した材料として本実施例では、CaF2を1nmの膜厚で蒸着法により形成した。
このようにして、正孔注入層911、正孔輸送層912、発光層913、電子輸送層914、および電子注入層915を積層して形成した発光物質を含む902を形成した後、陰極として機能する第2の電極903をスパッタリング法または蒸着法により形成した。なお、本実施例では、発光物質を含む層902上にアルミニウムを150nmの膜厚で蒸着法により第2の電極903を形成した。
以上により、本発明の有機金属錯体を用いた発光素子を製造した。
また、作製した発光素子に電圧を印加すると、該発光素子においては、9.8Vの時は発光輝度1090cd/m2が観測された。また、その時の発光効率は14.7cd/Aであった。また、電流効率−輝度特性を図16に示す。通常の励起三重項状態への項間交差が起きる有機金属錯体を用いた発光素子では高輝度側(高電流領域)において、著しい電流効率の低下が見られるが、本発明の発光素子ではほとんど見られない。従って、高輝度においても高効率が得られる特徴がある。
また、発光素子に電圧を印加し、3200cd/m2の輝度で発光させたときに得られた発光スペクトルを図17に示す。なお、図17において、縦軸はEL強度(a.u.)、横軸は波長(nm)を表す。図17のとおり、592nmにピークを有する高輝度な赤橙色発光が得られた。
《実施例7》
本実施例7は、本発明の有機金属錯体を、発光物質を含む層の一部に用いて白色発光素子を作製した例である。その素子構造について図18を用いて説明する。
まず、基板1000上に発光素子の第1電極1001を形成した。なお、本実施例では、第1の電極1001は陽極として機能する。材料として透明導電膜であるSiO2を含むITOを用い、スパッタリング法により110nmの膜厚で形成した。
次に、第1の電極(陽極)1001上に発光物質を含む層1002を形成した。なお、本実施例における発光物質を含む層1002は、正孔注入層1011、正孔輸送層1012、第1の発光層1013、阻止層1014、第2の発光層1015、電子輸送層1016、電子注入層1017からなる積層構造となるように形成した。
第1の電極1001上に正孔注入層1011を形成した。正孔注入層1011を形成した材料として本実施例では、Cu−Pcを20nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、正孔輸送層1012を形成した。正孔輸送層1012を形成した材料として本実施例では、α−NPDを30nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に第1の発光層1013をホスト材料とゲスト材料を用いることにより形成した。具体的には、ホスト材料としてα−NPDをゲスト材料として2,5,8,11−テトラ(tert−ブチル)ペリレン(略称:TBP)を用い、20nmの膜厚で共蒸着法により形成した。ゲスト材料の割合は1質量%とした。
次に、阻止層1014を形成した。阻止層1014を形成した材料として本実施例では、BAlqを5.0nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に第2の発光層1015をホスト材料とゲスト材料を用いることにより形成した。具体的には、ホスト材料としてBAlqをゲスト材料としてIr(dppr)2(acac)を用い、20nmの膜厚で共蒸着法により形成した。ゲスト材料の割合は5質量%とした。
次に、電子輸送層1016を形成した。電子輸送層1016を形成した材料として本実施例では、Alq3を30nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、電子注入層1017を形成した。電子注入層1017を形成した材料として本実施例では、CaF2を1nmの膜厚で蒸着法により形成した。
次に、陰極として機能する第2の電極1003をスパッタリング法または蒸着法により形成した。なお、本実施例では、発光物質を含む層1002上にアルミニウムを150nmの膜厚で蒸着法により第2の電極1003を形成した。
以上により、本発明の有機金属錯体を用いた発光素子を製造した。
また、作製した発光素子に電圧を印加すると、該発光素子においては、8.6Vの時は発光輝度1040cd/m2が観測された。また、その時の発光効率は7.66cd/Aであった。また、電流効率−輝度特性を図19に示す。通常の励起三重項状態への項間交差が起きる有機金属錯体を用いた発光素子では高輝度側(高電流領域)において、著しい電流効率の低下が見られるが、本発明の発光素子ではほとんど見られない。従って、高輝度においても高効率が得られる特徴がある。
また、発光素子に電圧を印加し、1700cd/m2の輝度で発光させたときに得られた発光スペクトルを図20に示す。なお、図20において、縦軸はEL強度(a.u.)、横軸は波長(nm)を表す。図20のとおり、青色領域、緑色領域、赤色領域のそれぞれにピークを有する高輝度な白色発光が得られた。なお、このときのCIE色度座標は(x,y)=(0.31,0.34)であった。低輝度領域(10cd/m2程度)から高輝度領域(10000cd/m2程度)まで、色度座標はほとんど変化せず、広い輝度領域で良好な白色を発光を示した。
以上により、Ir(dppr)2(acac)とTBPの発光を効率良く取り出すことができ、本実施例のように白色発光として視認することができた。よって、本発明は、本実施例のように白色の発光をする場合への適用にも極めて有効である。
《実施例8》
本実施例8では、画素部に本発明の発光素子を有する発光装置について図21を用いて説明する。なお、図21(A)は、発光装置を示す上面図、図21(B)は図21(A)をA−A’で切断した断面図である。点線で示された1101は駆動回路部(ソース側駆動回路)、1102は画素部、1103は駆動回路部(ゲート側駆動回路)である。また、1104は封止基板、1105はシール材であり、シール材1105で囲まれた内側1107は、空間になっている。
なお、1108はソース側駆動回路1101およびゲート側駆動回路1103に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)1109からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基盤(PWB)が取り付けられていてもよい。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。
次に、断面構造について図21(B)を用いて説明する。基板1110上には駆動回路部および画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路部であるソース側駆動回路1101と、画素部1102が示されている。
なお、ソース側駆動回路1101はnチャネル型TFT1123とpチャネル型TFT1124とを組み合わせたCMOS回路が形成される。また、駆動回路を形成するTFTは、公知のCMOS回路、PMOS回路もしくはNMOS回路で形成してもよい。また、本実施例では、基板上に駆動回路を形成したドライバー一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、基板上ではなく外部に形成することもできる。
また、画素部1102はスイッチング用TFT1111と、電流制御用TFT1112とそのドレインに電気的に接続された第1の電極1113とを含む複数の画素により形成される。なお、第1の電極1113の端部を覆って絶縁物1114が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。
また、成膜性を良好なものとするため、絶縁物1114の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物1114の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物1114の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物1114として、感光性の光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、あるいは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。さらには、絶縁物1114の材料として有機物に限らず無機物が用いることができ、例えば、酸化珪素、酸窒化珪素等を用いることができる。
第1の電極1113上には、発光物質を含む層1116、および第2の電極1117がそれぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する第1の電極1113に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、インジウムスズ酸化物からなる膜、酸化珪素を含むインジウムスズ酸化物からなる膜、インジウム亜鉛酸化物からなる膜、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。
また、発光物質を含む層1116は、蒸着マスクを用いた蒸着法、またはインクジェット法によって形成される。発光物質を含む層1116には、本発明の有機金属錯体が含まれる。また、これらの有機金属錯体に組み合わせて用いる材料としては、低分子系材料、中分子材料(オリゴマー、デンドリマーを含む)、または高分子系材料であっても良い。また、発光物質を含む層に用いる材料としては、通常、有機化合物を単層もしくは積層で用いる場合が多いが、本発明においては、有機化合物からなる膜の一部に無機化合物を用いる構成も含めることとする。
さらに、発光物質を含む層1116上に形成される第2の電極(陰極)1117に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、Mg、Inまたはこれらの合金であるMg:Ag、Mg:In、Al:Li、またはCaF2、またはCaN等)を用いればよい。なお、発光物質を含む層1116で生じた光が第2の電極1117を透過させる場合には、第2の電極(陰極)1117として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜〔酸化インジウム−酸化スズ合金(ITO)、酸化インジウム−酸化亜鉛合金(In23−ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等〕との積層を用いるのがよい。
さらにシール材1105で封止基板1104を素子基板1110と貼り合わせることにより、素子基板1110、封止基板1104、およびシール材1105で囲まれた空間1107に発光素子1118が備えられた構造になっている。なお、空間1107には、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材1105で充填される構成も含むものとする。
なお、シール材1105にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板1104に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass-Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、マイラー、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
《実施例9》
本実施例9では、本発明の発光素子を有する発光装置を用いて完成させた様々な電気器具について説明する。
本発明の発光素子を用いて形成される発光装置を用いて作製された電気器具として、テレビジョン、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置〔具体的にはデジタルビデオディスク(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうる表示装置を備えた装置〕、照明器具などが挙げられる。これらの電気器具の具体例を図22に示している。
図22(A)は表示装置であり、筐体1201、支持台1202、表示部1203、スピーカー部1204、ビデオ入力端子1205等を含む。本発明を用いて形成される発光装置をその表示部1203に用いることにより作製される。なお、表示装置は、パーソナルコンピューター用、TV放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用装置が含まれる。
図22(B)はノート型パーソナルコンピュータであり、本体1301、筐体1302、表示部1303、キーボード1304、外部接続ポート1305、ポインティングマウス1306等を含む。本発明の発光素子を有する発光装置をその表示部1303に用いることにより作製される。
図22(C)はビデオカメラであり、本体1401、表示部1402、筐体1403、外部接続ポート1404、リモコン受信部1405、受像部1406、バッテリー1407、音声入力部1408、操作キー1409、接眼部1410等を含む。本発明の発光素子を有する発光装置をその表示部1402に用いることにより作製される。
図22(D)は卓上照明器具であり、照明部1501、傘1502、可変アーム1503、支柱1504、台1505、電源1506を含む。本発明の発光素子を用いて形成される発光装置を照明部1501に用いることにより作製される。なお、照明器具には天井固定型の照明器具または壁掛け型の照明器具なども含まれる。
ここで、図22(E)は携帯電話であり、本体1601、筐体1602、表示部1603、音声入力部1604、音声出力部1605、操作キー1606、外部接続ポート1607、アンテナ1608等を含む。本発明の発光素子を有する発光装置をその表示部1603に用いることにより作製される。
以上のようにして、本発明の発光素子を有する発光装置を用いた電気器具を得ることができる。
本実施例に示す発光装置を用いた電気器具は、前述、本発明の発光素子の構成、構造、本発明の発光素子を有する発光装置の構成、構造を自由に組み合わせて実施することが可能である。また、本実施例に示す発光装置を用いた電気器具は、必要に応じてカラーフィルター等の色度変換膜や偏光板を用いてもよい。
本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図 本発明の発光素子の素子構造を説明する図 発光装置について説明する図 本発明の有機金属錯体の吸収スペクトル、光励起したときの励起スペクトルおよび発光スペクトルを示す図(実施例1) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図(実施例2) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の電流効率−輝度特性を示す図(実施例2) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の発光スペクトルを示す図(実施例2) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図(実施例3) 本発明の有機金属錯体の紫外・可視領域吸収および蛍光スペクトルを示す図(実施例4) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図(実施例5) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の電流効率−輝度特性を示す図(実施例5) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の発光スペクトルを示す図(実施例5) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図(実施例6) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の電流効率−輝度特性を示す図(実施例6) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の発光スペクトルを示す図(実施例6) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の素子構造を説明する図(実施例7) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の電流効率−輝度特性を示す図(実施例7) 本発明の有機金属錯体を用いた発光素子の発光スペクトルを示す図(実施例7) 発光装置について説明する図(実施例8) 発光装置を用いて作製された電気器具について説明する図(実施例9)
符号の説明
100 基板
101 第1の電極
102 発光物質を含む層
103 第2の電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 ホールブロッキング層
115 電子輸送層
200 基板
201 第1の電極
202 発光物質を含む層
203 第2の電極
211 正孔注入層
212 発光層
300 基板
301 第1の電極
303 第2の電極
311 正孔注入層
312 正孔輸送層
313 発光層
314 ホールブロッキング層
315 電子輸送層
401 陽極
402 正孔注入層
403 正孔輸送層
404 発光層
405 電子輸送層
406 電子注入層
407 陰極
408 pチャネル型TFT
421 陰極
422 電子注入層
423 電子輸送層
424 発光層
425 正孔輸送層
426 正孔注入層
427 陽極
428 nチャネル型TFT
500 基板
511 TFT
512 TFT
513 本発明の有機金属錯体を有する発光素子
514 第1の電極
515 発光物質を含む層
516 第2の電極
517 配線
600 基板
601 第1の電極
602 発光物質を含む層
603 第2の電極
611 正孔注入層
612 正孔輸送層
613 発光層
614 ホールブロッキング層
615 電子輸送層
616 電子注入層
700 基板
701 第1の電極
702 発光物質を含む層
703 第2の電極
711 正孔注入層
712 正孔輸送層
713 第1の発光層
714 第2の発光層
715 ホールブロッキング層
716 電子輸送層
717 電子注入層
800 基板
801 第1の電極
802 発光物質を含む層
803 第2の電極
811 正孔注入層
812 正孔輸送層
813 発光層
814 電子輸送層
815 電子注入層
900 基板
901 第1の電極
902 発光物質を含む層
903 第2の電極
911 正孔注入層
912 正孔輸送層
913 発光層
914 電子輸送層
915 電子注入層
1000 基板
1001 第1の電極
1002 発光物質を含む層
1003 第2の電極
1011 正孔注入層
1012 正孔輸送層
1013 第1の発光層
1014 阻止層
1015 第2の発光層
1016 電子輸送層
1017 電子注入層
1101 駆動回路部(ソース側駆動回路)
1102 画素部
1103 駆動回路部(ゲート側駆動回路)
1104 封止基板
1105 シール材
1107 シール材1105で囲まれた内側(空間)
1108 ソース側駆動回路1101およびゲート側駆動回路1103に入力される信号を伝送するための配線
1109 外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)
1110 基板
1111 スイッチング用TFT
1112 電流制御用TFT
1113 ドレインに電気的に接続された第1の電極
1114 絶縁物
1116 発光物質を含む層
1117 第2の電極
1118 発光素子
1123 nチャネル型TFT
1124 pチャネル型TFT
1201 筐体
1202 支持台
1203 表示部
1204 スピーカー部
1205 ビデオ入力端子
1301 本体
1302 筐体
1303 表示部
1304 キーボード
1305 外部接続ポート
1306 ポインティングマウス
1401 本体
1402 表示部
1403 筐体
1404 外部接続ポート
1405 リモコン受信部
1406 受像部
1407 バッテリー
1408 音声入力部
1409 操作キー
1410 接眼部
1501 照明部
1502 傘
1503 可変アーム
1504 支柱
1505 台
1506 電源
1601 本体
1602 筐体
1603 表示部
1604 音声入力部
1605 音声出力部
1606 操作キー
1607 外部接続ポート
1608 アンテナ

Claims (4)

  1. 下記一般式(110)で表される構造を有する有機金属錯体。
    Figure 0004366332
  2. 請求項1に記載の有機金属錯体を用いたことを特徴とする発光素子。
  3. 請求項1に記載の有機金属錯体を、発光体として用いたことを特徴とする発光素子。
  4. 請求項2または3に記載の発光素子を用いたことを特徴とする発光装置。
JP2005105790A 2004-04-02 2005-04-01 有機金属錯体、該有機金属錯体を用いた発光素子および発光装置 Expired - Fee Related JP4366332B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005105790A JP4366332B2 (ja) 2004-04-02 2005-04-01 有機金属錯体、該有機金属錯体を用いた発光素子および発光装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004110133 2004-04-02
JP2005105790A JP4366332B2 (ja) 2004-04-02 2005-04-01 有機金属錯体、該有機金属錯体を用いた発光素子および発光装置

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009104729A Division JP4975056B2 (ja) 2004-04-02 2009-04-23 有機金属錯体、発光素子、照明器具
JP2009170335A Division JP5216707B2 (ja) 2004-04-02 2009-07-21 発光素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005314414A JP2005314414A (ja) 2005-11-10
JP4366332B2 true JP4366332B2 (ja) 2009-11-18

Family

ID=35442196

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005105790A Expired - Fee Related JP4366332B2 (ja) 2004-04-02 2005-04-01 有機金属錯体、該有機金属錯体を用いた発光素子および発光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4366332B2 (ja)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101163711B (zh) 2005-03-17 2013-05-29 株式会社半导体能源研究所 有机金属络合物、以及使用所述有机金属络合物的发光元件、发光装置和发光电子-装置
JP4912704B2 (ja) * 2005-03-17 2012-04-11 株式会社半導体エネルギー研究所 有機金属錯体およびそれを用いた発光素子、発光装置、電子機器
JP4906073B2 (ja) * 2005-05-20 2012-03-28 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及びそれを用いた電子機器
US7960038B2 (en) * 2005-05-20 2011-06-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and electronic appliance using the same
KR101478004B1 (ko) 2005-12-05 2015-01-02 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 유기금속 착체, 및 이를 사용하는 발광 소자, 발광 장치 및 전자 기기
JP2007182429A (ja) * 2005-12-05 2007-07-19 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 有機金属錯体および前記錯体を用いた発光素子、発光装置、並びに電子機器
JP5043330B2 (ja) * 2005-12-13 2012-10-10 昭和電工株式会社 高分子発光材料、有機エレクトロルミネッセンス素子および表示装置
JP5043329B2 (ja) * 2005-12-13 2012-10-10 昭和電工株式会社 高分子発光材料、有機エレクトロルミネッセンス素子および表示装置
TWI481616B (zh) 2006-03-21 2015-04-21 Semiconductor Energy Lab 有機金屬錯合物及使用該有機金屬錯合物之發光元件,發光裝置和電子裝置
JP5244329B2 (ja) * 2006-03-21 2013-07-24 株式会社半導体エネルギー研究所 有機金属錯体及び発光材料
US7911135B2 (en) 2006-11-29 2011-03-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting element, light emitting device, electronic appliance, and method of manufacturing the same
EP2087063B1 (en) * 2006-11-30 2016-10-19 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Light-emitting device
EP1973386B8 (en) * 2007-03-23 2016-01-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device and electronic device
WO2008117633A1 (en) * 2007-03-23 2008-10-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Composition, method for fabricating light-emitting element, light-emitting element, light-emitting device, and electronic device
JPWO2008120355A1 (ja) * 2007-03-29 2010-07-15 パイオニア株式会社 有機el素子
KR101324155B1 (ko) 2007-05-18 2013-11-01 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 유기금속 착체
JP5384856B2 (ja) * 2007-06-04 2014-01-08 株式会社半導体エネルギー研究所 有機金属錯体、発光素子、発光装置、照明装置、及び電子機器
WO2008149828A1 (en) * 2007-06-05 2008-12-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Organometallic complex, and light-emitting materia light-emitting element, light-emitting device and electronic device
JP5500813B2 (ja) * 2007-10-24 2014-05-21 株式会社半導体エネルギー研究所 有機金属錯体
EP2196518B1 (en) * 2008-11-17 2018-09-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-Emitting Element and Light-Emitting Device
US8664383B2 (en) 2010-10-15 2014-03-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Organometallic complex, and light-emitting element and display device using the organometallic complex
KR101750040B1 (ko) 2011-02-16 2017-06-22 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 소자
JP6034676B2 (ja) * 2011-11-30 2016-11-30 株式会社半導体エネルギー研究所 有機金属錯体、発光素子、発光装置、電子機器、照明装置
KR101803537B1 (ko) * 2012-02-09 2017-11-30 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 소자
JP6139235B2 (ja) * 2012-04-18 2017-05-31 株式会社半導体エネルギー研究所 発光材料、発光素子、酸素センサ、発光装置、電子機器及び照明装置
US9994954B2 (en) * 2013-07-26 2018-06-12 Versum Materials Us, Llc Volatile dihydropyrazinly and dihydropyrazine metal complexes

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4154140B2 (ja) * 2000-09-26 2008-09-24 キヤノン株式会社 金属配位化合物
JP4154139B2 (ja) * 2000-09-26 2008-09-24 キヤノン株式会社 発光素子
WO2002045466A1 (fr) * 2000-11-30 2002-06-06 Canon Kabushiki Kaisha Element luminescent et ecran

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005314414A (ja) 2005-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4366332B2 (ja) 有機金属錯体、該有機金属錯体を用いた発光素子および発光装置
JP5216707B2 (ja) 発光素子
JP3810789B2 (ja) 発光素子
JP5171910B2 (ja) 複核錯体、有機金属錯体、及び有機金属錯体の作製方法
JP4574358B2 (ja) 燐光性化合物
JP4312678B2 (ja) 有機金属錯体、及びそれを用いた発光装置、電子機器
JP4080518B2 (ja) 電界発光素子、発光装置、及び電気器具

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071001

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090423

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090526

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090721

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090818

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090824

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120828

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4366332

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120828

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120828

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130828

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees