JP4362324B2 - 微粒子保持プレートとその製造方法 - Google Patents

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  • Micromachines (AREA)
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は粒径の小さい微粒子を所定の位置で保持するための微粒子保持プレートとその製造方法に関し、詳しくは、はんだボールや細胞を所定の位置に保持するための微粒子保持プレートとその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
数十μmから数百μmの微粒子を所定の位置に保持するための微粒子保持プレートは、多くの分野で利用されている。
例えば半導体実装の分野では以下に示すような利用がなされている。大量の情報を高速に処理する情報処理装置においては、半導体チップに電子回路や電子部品を集積したLSI、VLSI等が多く用いられている。このような半導体チップを配線基板に取り付けるために、配線基板上の配線部分に合わせてはんだを配置し、はんだの溶着により、半導体チップを配線基板上に固定するとともに、電気的な接続を行っていた。
【0003】
以下に従来の一般的な半導体チップの取り付け方法を示す。図8は従来の半導体チップの配線基板への取り付け方法を示した図である。微粒子保持プレート20はシリコンからなっており、シリコンの異方性エッチングの性質を利用して、図8(a)に示すような壁面が平面に対して傾斜した貫通孔が所定の位置にあけられている。はんだボール310は微粒子保持プレート20のこの貫通孔に配置される。この時、はんだボール310は貫通孔の一方の開口部から負圧吸引されることによって、しっかりと微粒子保持プレート20に固定される。なお図8では負圧吸引の機構は図示されていない。
【0004】
一方、配線基板410には所定の位置に配線420が形成されている。この配線420の位置と、微粒子保持プレート20にあけられた貫通孔の位置は、同じ位置関係にあり、図8(a)に示すように、配線基板410上の配線420の位置に、はんだボール310を移動させることができる。
【0005】
はんだボール310を配線420の部分まで移動させた後、負圧吸引を絶つことで、図8(b)のように配線420上に、はんだボール310を配置させることができる。
【0006】
その後、電気接続部520が形成されている半導体チップ510を配線基板410に押さえつけ(図8(c))、はんだボール310を電気接続部520及び配線420に溶着することで、半導体チップ510と配線基板420の接続が完了する(図8(d))。以上が従来の一般的な半導体チップの取り付け方法である。
【0007】
さらに、バイオテクノロジーの分野でも微粒子保持プレートは利用されている(例えば特許文献1、特許文献2参照)。バイオテクノロジー分野では、多量の細胞の懸濁液の中から細胞を一個づつ独立に吸着させ、その細胞を複数の細胞処理チャンバー(細胞処理室)を有する細胞処理装置に個別、かつ一括して注入させるのに用いられている。
【0008】
上記のはんだボールや細胞を保持する微粒子保持プレートは、いずれもシリコンの異方性エッチングを利用して製造されている。シリコンをウェットエッチングする場合、エッチングされる方向によってエッチング速度に違いが生じるため、ある決まった一定の形状でエッチングがなされる。これが一般にシリコンの異方性エッチングと呼ばれているものである。この異方性エッチングによって製造された微粒子保持プレート20は図8(a)に示されるように、加工部壁面が平面に対して決まった角度θ=約55度で形成される。
【0009】
【特許文献1】
特開平1−191676号公報(第5頁、図1)
【特許文献2】
特開平8−33476号公報(第6頁、図3)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
図8(a)にあるように、微粒子(はんだボール310)をしっかりと保持するためには、微粒子保持プレート20の厚みtに、ある程度の厚みが必要となる。しかしながら、従来の微粒子保持プレート20では、その厚みtを厚くしようとすると、角度θで傾いた貫通孔壁面は微粒子保持プレート20の平面方向に広がってしまい、隣り合った貫通孔同士の間隔Pを一定の幅以上に狭めることができなかった。その結果、微粒子を狭い間隔で高密度に並べて保持することができなかった。
【0011】
本発明の目的は、微粒子を狭い間隔で高密度に並べて保持することが可能な微粒子保持プレートとその製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の微粒子保持プレートは、以下に示す構成を採用した。すなわち、本発明の微粒子保持プレートは、貫通孔を有し、貫通孔内部に微粒子を保持して使用する微粒子保持プレートであって、材質が結晶軸のZ軸に対して垂直な面が平面になるようにカットされるZ板である水晶からなり、貫通孔はウェットエッチング法によって形成され、且つ貫通孔の内壁が円筒部分と3つの斜面部分とを有することを特徴とする。
【0013】
さらに円筒部分の直径が微粒子の直径とほぼ同じ寸法であるのが望ましい。
【0014】
さらには、内径形状が円筒形状である部分が貫通孔の深さの1/2以上の深さにわたって形成されているのが望ましい。
【0018】
また本発明の微粒子保持プレートの製造方法は、結晶軸のZ軸に対して垂直な面が平面になるようにカットされるZ板である水晶板の両平面上に水晶のエッチング液に対して耐食性を有する保護膜を成膜し、かつ一方の平面に成膜された保護膜を所望の形状でパターン化する工程と、
保護膜が形成された水晶板をウェットエッチングをし、内周形状が円筒形状と3つの斜面を有する孔を形成する工程と、
保護膜を除去し貫通孔を開口させる工程とを有している。
【0020】
さらに所望の形状には、少なくとも微粒子の直径とほぼ同じ寸法の直径からなる円形状が含まれているのが望ましい。
【0021】
(作用)
本発明の上記手段では、水晶板をウェットエッチング法によって加工し、その時に生じる水晶の異方性エッチング性を利用することによって、平面に対して所定の角度で傾斜した3つの傾斜面と、平面に対してほぼ垂直に円筒状にあけられた壁面とを有する貫通孔を形成している。本発明の微粒子保持プレートでは、このような特殊な形状(円筒形状と3つの斜面を備えた形状)で開けられた貫通孔に微粒子を収め、貫通孔の一方の開口部から負圧吸引することで、微粒子を保持させるようにした。このように平面に対して傾斜した斜面と垂直な円筒状の壁面からなる貫通孔によって、傾斜面だけからなっていた従来の微粒子保持プレートよりも、隣り合った貫通孔同士の間隔を狭めることが出来、その結果、本発明の微粒子保持プレートでは従来よりも微粒子を狭い間隔で保持することが出来るようになった。
【0022】
また、微粒子を負圧吸引して保持する時、微粒子は板厚方向においては円筒形状の壁面で保持され、平面方向おいては3つの斜面で保持される。このように多くの部分で接触して保持されるため、本発明の微粒子保持プレートでは微粒子を従来よりもしっかりと保持できる。
【0023】
以上のように、本発明により微粒子を狭い間隔で高密度に並べて保持することが可能な微粒子保持プレートを提供することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)
図1は本発明の微粒子保持プレートに形成される貫通孔の形状を示した図である。図1(a)は本発明の微粒子保持プレートに形成される貫通孔を斜め上方から見た斜視図で、図1(b)は本発明の微粒子保持プレートに形成される貫通孔を真上から見た平面図、図1(c)は図1(b)におけるA−A部の断面図である。図1に示すように、本発明における貫通孔は円筒部壁面に3つの斜面α、β、γ(図1(a)では斜面γは壁面に隠れて見えていない。)が形成される内壁形状になっている。これら3つの斜面α、β、γは図1(c)に示されるように円筒部から連続的に連なって形成されており、且つ図1(b)に示されるように等間隔に120度間隔で形成される。このような内壁形状をした貫通孔は水晶板をウェットエッチング法によって加工することで形成することができる。
【0025】
図2は本発明の微粒子保持プレートの製造方法を示した図である。以下に本発明の微粒子保持プレート10の製造方法の一例を説明する。まず図2(a)に示すように、水晶板120の両平面に水晶のエッチング液に対して耐食性を有する保護膜130及び保護膜140を平面のほぼ全てに成膜する。さらに、保護膜140上に感光性レジスト210を保護膜140を覆うようにして塗布し、一方保護膜130上には感光性レジスト200を所望の形状でパターン化して形成する。
【0026】
なお本発明において使用される水晶板は結晶軸のZ軸に対して垂直な面が平面になるようにカットされるZ板である事が重要である。
【0027】
本実施形態では感光性レジスト200を所望の微粒子の直径とほぼ同じ大きさの直径dからなる円形状(平面形状)の抜きパターンでパターニングした。感光性レジスト200のパターニングはどのような方法を用いても良いが、一般にLSI分野で利用されているフォトリソグラフィー法を用いるのが、高精度及び微細化という点で有効である。
【0028】
本実施形態では、保護膜130、保護膜140として、上層がAuで下層がCrからなる2層構造の膜を用いた。上層のAuは水晶のエッチング液(一般にフッ酸水溶液が利用される。)に対して耐食性を有しているという理由で、一方、下層のCrは水晶板120とAuとの密着性をよくするためにそれぞれ選択した。
【0029】
次に図2(b)に示すように、感光性レジスト200のパターンをマスクとして用い、保護膜130をエッチングし、感光性レジスト200とほぼ同じ形状を有する保護膜135を形成した。なお本実施形態では保護膜130であるAu及びCrを、それぞれ王水、硝酸系Crエッチャントによってエッチングした。
【0030】
さらに図2(c)に示すように、感光性レジスト200及び感光性レジスト210をそれぞれ除去する。除去には有機溶剤が一般に利用される。その結果、水晶板の一方の面には所望の微粒子の直径とほぼ同じ大きさの直径dからなる円形状の抜きパターンで形成された保護膜135が表面にあらわれる。
【0031】
次に図2(d)に示すように、保護膜135と保護膜140をマスクとして利用し、水晶板をウェットエッチング法によって加工する。本実施形態ではエッチング液として液温50℃の40wt%フッ酸水溶液を使用した。エッチングは保護膜135に形成された直径dの円形状の抜きパターンに沿って進行し内壁に円筒部11’が形成されるが、水晶のエッチングには異方性エッチングの性質があるため、エッチングで開口された孔の内壁には円筒部11’以外に一定の方向に傾斜する3つの斜面部12’も形成される。なおこの水晶の異方性エッチングとは、一定の方向のみエッチング速度が遅いために発生する現象である。
【0032】
さらにウェットエッチングを進めると、斜面部12’であった部分もエッチングが更に進み、図2(e)に示すように、円筒部11の範囲が広まり、斜面部12の範囲が狭まっていく。
【0033】
水晶板110の保護膜135が形成されている一方の平面から円筒部11と斜面部12の交わる点までの深さをt1とし、円筒部11と斜面部12の交わる点から水晶板110の保護膜140が形成されている他方の平面までの深さをt2とした場合、本実施形態ではt1≧t2になるようにしてエッチングを終了させた。
【0034】
最後に保護膜135及び保護膜140をエッチングによって除去し、水晶からなる本発明の微粒子保持プレートが完成した。
【0035】
次に本発明の微粒子プレートの一応用例を示す。図6は本発明の微粒子保持プレートを用いた半導体チップの取り付け方法を示した図である。はんだボール310は微粒子保持プレート10に多数あけられた貫通孔内に配置される。この時、はんだボール310は貫通孔の斜面が形成されている側の一方の開口部から負圧吸引されることによって、しっかりと微粒子保持プレート10に固定される。なお図6(a)において、負圧吸引機構は本発明に関し特に重要な部分ではないので、省略して図示されていない。
【0036】
一方、配線基板410には所定の位置に配線420が形成されている。この配線420の位置と、微粒子保持プレート10にあけられた貫通孔の位置は、同じ位置関係にあり、図6(a)に示すように、配線基板410上の配線420の位置に、はんだボール310を移動させることができる。
【0037】
はんだボール310を配線420の部分まで移動させた後、負圧吸引を絶つことで、図6(b)のように配線420上にはんだボール310を配置させることができる。
【0038】
その後、電気接続部520が形成されている半導体チップ510を配線基板410に押さえつけ(図6(c))、はんだボール310を電気接続部520及び配線420に溶着することで、半導体チップ510と配線基板410ははんだボール315を介して接続される(図6(d))。
【0039】
本発明の微粒子保持プレート10によれば、配線420が非常に狭い間隔で形成されている配線基板410であっても半導体チップ510を接続させることが可能になった。図4は本発明の微粒子保持プレートによるはんだボールの保持状態と従来の微粒子保持プレートによるはんだボールの保持状態とを比較した図である。図4(b)に示すように従来の微粒子保持プレート20で保持される2つのはんだボール310の間隔P2に対して、図4(a)に示されるように、本発明の微粒子保持プレート10で保持される2つのはんだボールの間隔P1は狭い間隔にすることができる。これは従来貫通孔の内壁全てが斜面であったものを、貫通孔の一方の開口部側内壁のみに斜面を形成し、別の開口部側内壁には平面に対して垂直な壁面(円筒状の壁面)を形成した効果である。
【0040】
また本発明の微粒子保持プレート10によれば、はんだボール310を吸引する際の吸引力を、従来の微粒子保持プレート20よりも大きくすることができ、その結果、はんだボール310の保持不良を少なくすることができた。図5は本発明の微粒子保持プレートによるはんだボールの吸引状態と従来の微粒子保持プレートによるはんだボールの吸引状態とを比較した図である。また図3は本発明の微粒子保持プレートの貫通孔断面形状とはんだボールの保持状態を示した図である。従来の微粒子保持プレート20によりはんだボール310を吸引した場合、図5(b)に示すように、四角形の内周形状をなす貫通孔で球状のはんだボール310を保持するため、貫通孔の角部に必ず隙間が生じる。そのため吸引してもその隙間から空気が抜けてしまい、吸引力が小さかった。
【0041】
本発明の微粒子保持プレート10ではんだボール310を吸引すると、図5(a)及び図3(a)に示すように、貫通孔の一方の開口部側の内壁が微粒子の直径Dとほぼ同じ直径dの円筒形状で形成されているため、微粒子と円筒状の内壁面との間にはほとんど隙間が生じない構造になっている。そのため、空気の抜けが少なく、充分に大きな吸引力を得ることができる。
【0042】
このような理由から、本発明の微粒子保持プレート10によりはんだボール310を保持した場合、はんだボール310を保持できず落としてしまうといった保持不良は非常に少なくなった。
【0043】
さらに、本発明の微粒子保持プレートでは、図3(a)に示すように、貫通孔の断面形状の最適化をはかることによって、はんだボール310の保持不良をより少なくすることができる。
【0044】
水晶板110の保護膜135が形成されている一方の平面から円筒部11と斜面部12の交わる点までの深さをt1とし、円筒部11と斜面部12の交わる点から水晶板110の保護膜140が形成されている他方の平面までの深さをt2とした場合において、図3(b)に示すようにt1<t2の寸法で形成した微粒子保持プレート10’では、はんだボールを斜面部12’でしか保持することができない。一方、図3(a)に示すようにt1≧t2の寸法で形成した微粒子保持プレート10では、はんだボールを斜面部12と円筒部11との両方で保持できることがわかる。よって本発明の微粒子保持プレート10において、t1≧t2である貫通孔、すなわち円筒形状である部分が貫通孔の深さの1/2以上の深さにわたって形成されている貫通孔であれば、はんだボール310の保持不良をさらにより少なくすることができる。
【0045】
(第2の実施形態)
次に本発明の微粒子プレートの別の応用例を示す。本発明の微粒子保持プレートはバイオテクノロジーの分野にも利用することができる。バイオテクノロジーの分野では、少量の細胞を培養して増やし、そこで増やされた細胞を、同時に一括して検査することによって、一度に多くの結果を得て、バイオテクノロジー技術の進歩に役立てている。そうした検査工程の中で、多量の細胞が培養されている培養チャンバー内から検査チャンバー内に細胞を一つ一つ取り出す作業は非常に時間のかかる作業であり、検査の作業効率を悪くする工程であった。本実施形態により、本発明の微粒子保持プレートをこの検査工程に利用することによって、検査の作業効率を向上させることができる。
【0046】
図7は本発明の微粒子保持プレートを用いた培養チャンバーから検査チャンバーへの細胞の移し替え方法を示した図である。図7(a)に示すように培養チャンバー700内には培養液800が満たされており、その培養液800中には培養された多量の細胞320が混入されている。この培養チャンバー800内に本発明の微粒子保持プレート10を負圧吸引しながら降ろすと、微粒子保持プレート10の貫通孔内に、1つずつ細胞320が吸着される。
【0047】
次に、図7(b)に示すように、細胞320が吸着された状態のまま、微粒子保持プレート10を検査チャンバー600の位置まで移動し、そこで負圧吸引を止めると、検査チャンバー600内に1つ1つ細胞320を配置させることができる(図7(c))。このようにして本発明の微粒子保持プレート10を用いることによって、細胞320を一括して培養チャンバー内から取り出し、且つ個別に検査チャンバー600内に移すことができるため、非常に作業効率が良好になった。
【0048】
【発明の効果】
本発明の微粒子保持プレートによれば、微粒子を狭い間隔で高密度に並べて保持することが可能となった。その結果例えば本発明の微粒子保持プレートを半導体チップの接続作業に使用した場合、非常に狭い間隔で配線が形成されている配線基板であっても半導体チップを接続させることが可能になった。
【0049】
また本発明の微粒子保持プレートによれば、微粒子を吸引する際の吸引力を、従来のものより大きくすることができ、その結果、微粒子の保持不良を少なくすることができた。
【0050】
さらに本発明の微粒子保持プレートをバイオテクノロジー分野に利用することも可能であり、本微粒子保持プレートを用いることによって、細胞を一括して培養チャンバー内から取り出し、且つ個別に検査チャンバー内に移すことができ、その結果、このような作業における作業効率が向上した。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の微粒子保持プレートに形成される貫通孔の形状を示した図である。
【図2】本発明の微粒子保持プレートの製造方法を示した図である。
【図3】本発明の微粒子保持プレートの貫通孔断面形状とはんだボールの保持状態を示した図である。
【図4】本発明の微粒子保持プレートによるはんだボールの保持状態と従来の微粒子保持プレートによるはんだボールの保持状態とを比較した図である。
【図5】本発明の微粒子保持プレートによるはんだボールの吸引状態と従来の微粒子保持プレートによるはんだボールの吸引状態とを比較した図である。
【図6】本発明の微粒子保持プレートを用いた半導体チップの取り付け方法を示した図である。
【図7】本発明の微粒子保持プレートを用いた培養チャンバーから検査チャンバーへの細胞の移し替え方法を示した図である。
【図8】従来の半導体チップの配線基板への取り付け方法を示した図である。
【符号の説明】
10、10’ 微粒子保持プレート
11、11’ 円筒部
12、12’ 斜面部
20 微粒子保持プレート
110、120 水晶板
130、135、140 保護膜
200、210 感光性レジスト
310、315 はんだボール
320 細胞
410 配線
420 配線基板
510 半導体チップ
520 電気接続部
550 第2の成形型
600 検査チャンバー
700 培養チャンバー
800 培養液

Claims (5)

  1. 貫通孔を有し、該貫通孔内部に微粒子を保持して使用する微粒子保持プレートであって、材質が結晶軸のZ軸に対して垂直な面が平面になるようにカットされるZ板である水晶からなり、前記貫通孔はウェットエッチング法によって形成され、且つ前記貫通孔の内壁が円筒部分と3つの斜面部分とを有する微粒子保持プレート。
  2. 前記円筒部分の内径が、保持する微粒子の直径とほぼ同じ寸法であることを特徴とする請求項1に記載の微粒子保持プレート。
  3. 前記円筒部分が前記貫通孔の深さの1/2以上の深さにわたって形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の微粒子保持プレート。
  4. 結晶軸のZ軸に対して垂直な面が平面になるようにカットされるZ板である水晶板の両平面上に水晶のエッチング液に対して耐食性を有する保護膜を成膜し、一方の平面に成膜された該保護膜を所望の形状でパターン化する工程と、
    前記保護膜が形成された水晶板をウェットエッチングをし、内壁が円筒部分と3つの斜面部分とを有する孔を形成する工程と、
    前記保護膜を除去し前記孔を開口させて貫通孔を形成する工程とを有する微粒子保持プレートの製造方法。
  5. 前記所望の形状には、保持する微粒子の直径とほぼ同じ寸法の直径からなる円形状が含まれていることを特徴とする請求項4に記載の微粒子保持プレートの製造方法。
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