JP4358037B2 - 水処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、オゾン処理槽において被処理水にオゾンガスを注入して被処理水のオゾン処理を行う水処理装置に関する。
従来、上水、下水、排水処理等を行う様々な水処理装置において、被処理水に酸化力の強いオゾンガスを注入するオゾン処理が行われている。特に近年では、取水源の水質が悪化しているため、水道水の浄水処理において上述のオゾン処理は有効な手段の一つとなっている。
一方、オゾン処理を行う被処理水に臭素イオンが含まれる場合には、被処理水をオゾンガスにより酸化すると、臭素イオンも酸化されて有害な臭素酸が生成されることが知られている。水道水の新しい水質基準では、この臭素酸の濃度を10μg/L以下とすることが提唱されており、被処理水に多量の臭素イオンが含まれる場合には、基準値以上の濃度の臭素酸が生成されるおそれがある。
さらに、この有害な臭素酸は、オゾン処理の下流側において行われる活性炭処理や塩素処理ではほとんど除去することができない。このため、オゾン処理において臭素酸の生成を抑制するか、生成された臭素酸を別の方法で除去する処理を行う必要がある。しかしながら、臭素酸の生成を抑制するために、必要以上にオゾンガスの注入量を低減すると、本来のオゾン処理の目的である、被処理水中の有機物質分解処理、トリハロメタン生成能の低減処理、異臭味の除去処理等を有効に行うことができない。
ここで、臭素酸の生成を抑制する有効な手段として、被処理水にpH調整剤を注入してこの被処理水のpH値を調整する方法が挙げられる。具体的には、オゾン処理槽内の被処理水のpH値を調整して一定値に保つことによって臭素酸の生成を抑制する水処理装置が用いられている(例えば、特許文献1参照)。その他、オゾン処理における臭素酸の生成の抑制方法に関する発明としては、例えば特許文献2乃至4等が知られている。
特開2000−107778号公報 特開2003−88882号公報 特開2002−210462号公報 特開2000−288562号公報
しかしながら、被処理水にpH調整剤を注入してこの被処理水のpHを調整する上述の方法においては、常に被処理水のpH値の調整を行っていた場合にはpH調整剤の費用が高くなるという問題がある。
また、全国の浄水場において原水の水質の差は大きく、この原水の臭素イオン濃度は水源によってそれぞれ異なる。また、大雨や台風が発生した際には突発的に臭素イオン濃度が上昇することがある。
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、その目的は、オゾン処理槽において被処理水にオゾンガスを注入して被処理水のオゾン処理を行う水処理装置において、pH調整剤注入装置から被処理水に注入されるpH調整剤の注入率を、被処理水の臭素イオン濃度およびpH調整剤の注入後の被処理水のpH値に基づいて制御装置により制御することによって、被処理水のpH値を十分に低下させ臭素酸の生成を抑止するとともに、pH調整剤の過剰注入を抑止してその費用を最小限に抑えることができる水処理装置を提供することにある。
本発明は、オゾン処理槽において被処理水にオゾンガスを注入して被処理水のオゾン処理を行う水処理装置において、オゾン処理槽の上流側に設けられ、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度を測定する臭素イオン濃度測定器と、オゾン処理槽の上流側に設けられ、オゾン処理前の被処理水にpH調整剤を注入するpH調整剤注入装置と、オゾン処理槽とpH調整剤注入装置との間に設けられ、オゾン処理前の被処理水のpH値を測定するpH測定器と、予め定められたオゾン処理前設定pH値を臭素イオン濃度測定器によるオゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度によって補正してオゾン処理前目標制御pH値を算出するオゾン処理前目標制御pH値演算部と、pH測定器によるオゾン処理前の被処理水のpH値がオゾン処理前目標制御pH値となるようpH調整剤注入装置におけるpH調整剤の注入率を制御するオゾン処理前pH調整剤注入率制御部とを有する制御装置と、を備え、前記制御装置のオゾン処理前目標制御pH値演算部は、予め定められたオゾン処理前設定pH値から、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度に基づいて定められるpH補正値を減算することによりオゾン処理前目標制御pH値を算出し、この際に、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度が第1の臭素イオン基準濃度よりも小さい場合はpH補正値を0とし、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度が第1の臭素イオン基準濃度から大きくなるにつれてpH補正値を大きくし、pH補正値を予め設定されたpH最大補正値よりも大きくしないようにすることを特徴とする水処理装置である。
この水処理装置によれば、被処理水のpH値を十分に低下させ臭素酸の生成を抑止するとともに、pH調整剤の過剰注入を抑止してその費用を最小限に抑えることができる。
本発明の水処理装置においては、制御装置のオゾン処理前pH調整剤注入率制御部におけるpH調整剤の注入率の制御は、PID制御により行われることが好ましい。
このことにより、オゾン処理前pH調整剤注入率制御部は、オゾン処理前の被処理水のpH値がより的確にオゾン処理前目標制御pH値となるようpH調整剤の注入率の制御を行うことができる。
本発明の水処理装置においては、制御装置のオゾン処理前目標制御pH値演算部において、オゾン処理前目標制御pH値は下記式により算出されることが好ましい。
オゾン処理前目標制御pH値=予め定められたオゾン処理前設定pH値
−pH補正値・・・式(1)
pH補正値=0 (C<Cである場合)・・・式(2)
pH補正値=pH最大補正値×(C−C)÷(C−C) (C≦C≦Cである場合)・・・式(3)
pH補正値=pH最大補正値(C<Cである場合)・・・式(4)
Cは、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度、
pH最大補正値は、予め設定された値、
、Cは、それぞれ、予め設定された第1、第2の臭素イオン基準濃度。
このことにより、被処理水の臭素イオン濃度が高い場合は、被処理水の臭素イオン濃度が低い場合に比べて被処理水のpH値をより低下させることができ、生成される臭素酸濃度を基準値以下とすることができる。
本発明の水処理装置においては、オゾン処理槽の下流側に設けられ、オゾン処理後のオゾン処理水にpH調整剤を注入する追加のpH調整剤注入装置と、追加のpH調整剤注入装置の下流側に設けられ、オゾン処理後のオゾン処理水のpH値を測定する追加のpH測定器とを更に備え、制御装置は、追加のpH測定器によるオゾン処理後のオゾン処理水のpH値が予め設定されたオゾン処理後目標制御pH値となるよう追加のpH調整剤注入装置におけるpH調整剤の注入率を制御するオゾン処理後pH調整剤注入率制御部を更に有することが好ましい。
このことにより、この水処理装置から排出されるオゾン処理水のpH値を所望の値に再調整することができる。
本発明のオゾン処理を行う水処理装置によれば、pH調整剤注入装置から被処理水に注入されるpH調整剤の注入率を、被処理水の臭素イオン濃度およびpH調整剤の注入後の被処理水のpH値に基づいて制御装置により制御することによって、被処理水のpH値を十分に低下させ臭素酸の生成を抑止するとともに、pH調整剤の過剰注入を抑止してその費用を最小限に抑えることができる。
第1の実施の形態
以下、図面を参照して本発明の第1の実施の形態について説明する。図1乃至図3は、本発明の第1の実施の形態を示す図である。
このうち、図1は、本発明の第1の実施の形態による水処理装置の構成を示す構成図であり、図2は、オゾン処理前の被処理水のpH値とオゾン処理により生成される臭素酸の濃度との関係を示すグラフであり、図3は、図1の制御装置のオゾン処理前目標制御pH値演算部における臭素イオン濃度とpH補正値との関係を示すグラフである。
水処理装置は、被処理水にオゾンガスを注入して被処理水のオゾン処理を行うオゾン処理槽70と、オゾン処理槽70の上流側に設けられ、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度を測定する臭素イオン濃度測定器51と、臭素イオン濃度測定器51の更に上流側に設けられ、オゾン処理前の被処理水にpH調整剤を注入するpH調整剤注入装置75とを備えている。また、オゾン処理槽70とpH調整剤注入装置75との間に、オゾン処理前の被処理水のpH値を測定するpH測定器52が設けられている。
更にオゾン処理槽70の上流側には、上流から下流に向かって、被処理水中の有機物や濁質等を凝集沈澱処理により除去する凝集沈澱設備71と、残留している濁質等を砂濾過処理により除去する砂濾過設備72と、被処理水の流量を測定する流量計74とが順次設けられ、またオゾン処理槽70の下流側には、オゾン処理水中に残留している有機物等の更なる除去を行う活性炭吸着設備73が設けられている。
また、臭素イオン濃度測定器51、pH測定器52およびpH調整剤注入装置75には、pH調整剤注入装置75におけるpH調整剤の注入率を制御する制御装置10が接続されている。
この制御装置10は、予め定められたオゾン処理前設定pH値を臭素イオン濃度測定器51で測定したオゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度によって補正して、オゾン処理前目標制御pH値を算出するオゾン処理前目標制御pH値演算部21と、pH測定器52によって測定したオゾン処理前の被処理水のpH値がオゾン処理前目標制御pH値となるようpH調整剤注入装置75におけるpH調整剤の注入率を制御するオゾン処理前pH調整剤注入率制御部25とを備えている。
上述のように、オゾン処理槽70の前段には、被処理水中の有機物や濁質等を凝集沈澱処理により除去する凝集沈澱設備71と、残留している濁質等を砂濾過処理により除去する砂濾過設備72とが設けられているが、この砂濾過設備72は省略することもできる。
また、上述のように、オゾン処理槽70の後段には活性炭吸着設備73が設けられている。この活性炭吸着設備73においては、例えば粒状活性炭(GAC)や生物活性炭(BAC)が用いられるがこれらのものに限定されることはない。
なお、活性炭吸着設備73の後段に更に後砂濾過設備(図示せず)を設けてもよい。
砂濾過設備72とオゾン処理槽70との間の流入ラインには、上述のように、pH調整剤注入装置75によってpH調整剤が注入される箇所の上流側に、被処理水の流量を測定する流量計74が設けられている。
図1に示すように、臭素イオン濃度測定器51およびpH測定器52は、凝集沈澱設備71とオゾン処理槽70との間に設けられている。これらの臭素イオン濃度測定器51およびpH測定器52は、凝集沈澱設備71の前段に設置してもよい。
制御装置10は、前述のようにオゾン処理前目標制御pH値を算出するオゾン処理前目標制御pH値演算部21と、このオゾン処理前目標制御pH値に基づいてpH調整剤の注入率を制御するオゾン処理前pH調整剤注入率制御部25とを備えている。また、この制御装置10は、流量計74による被処理水の流量と、オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25により制御されるpH調整剤の注入率とに基づいてpH調整剤注入装置75から被処理水に注入されるpH調整剤の注入量を算出するオゾン処理前pH調整剤注入量演算部23を有している。
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
水源から送られた被処理水は、凝集沈澱設備71に送られて凝集沈澱処理により被処理水中の有機物・濁質等が除去される。次に、凝集沈澱設備71からの被処理水は、砂濾過設備72に送られて砂濾過処理により更に残留している濁質等が除去される。
砂濾過設備72から送られた被処理水は、流量計74によりその流量が測定される。次に、被処理水は、pH調整剤注入装置75によりpH調整剤が注入され、このことにより被処理水のpH値が調整される。
次に、被処理水の臭素イオン濃度が臭素イオン濃度測定器51により測定され、また、pH調整剤が注入された被処理水のpH値がpH測定器52により測定される。
そして、被処理水はオゾン処理槽70に送られて、オゾンガスが注入されることによりオゾン処理が行われる。オゾン処理槽70から排出されたオゾン処理水は活性炭吸着設備73に送られて、この活性炭吸着設備73においてオゾン処理水中に残留している有機物等の更なる除去が行われ、浄水として流出される。
一方、オゾン処理槽70において被処理水のオゾン処理が行われる際に、被処理水中の臭素イオンが酸化されて臭素酸が生成される。この臭素酸は有害物質であり、その発生を抑制する必要がある。
図2に、被処理水のpHと、オゾン処理により生成される臭素酸の濃度との関係を示す。図2のグラフに示すように、オゾン処理により生成される臭素酸の濃度は被処理水のpH値によって決まる。これは、被処理水中の臭素イオンが臭素酸に酸化される際に生成される中間物質(HOBr/OBr)の濃度が被処理水のpH値の影響を受けるからであると考えられる。
ここで、図2に示すように、被処理水のpH値が同一であるときに、被処理水の臭素イオン濃度が高い場合は、被処理水の臭素イオン濃度が低い場合に比べて臭素酸濃度が高くなる。このため、臭素酸濃度を予め定められた基準値(例えば、10μg/L)以下とする際には、被処理水の臭素イオン濃度が高い場合は、被処理水の臭素イオン濃度が低い場合に比べて被処理水のpH値をより低下させる必要がある。
以下に、制御装置10における、pH調整剤注入装置75によるpH調整剤の注入率の制御について詳述する。
臭素イオン濃度測定器51により測定されたオゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度の情報が制御装置10のオゾン処理前目標制御pH値演算部21に送られる。
このオゾン処理前目標制御pH値演算部21において、例えばオペレータによって予め定められたオゾン処理前設定pH値を、臭素イオン濃度によって補正することによりオゾン処理前目標制御pH値が算出される。この臭素イオン濃度による補正について図3を参照して説明する。
オゾン処理前目標制御pH値は、下記式(1)〜(4)により算出される。ここで、Cは、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度であり、pH最大補正値は、予め設定された値である。また、C、Cは、それぞれ、予め設定された第1、第2の臭素イオン基準濃度である。
オゾン処理前目標制御pH値=予め定められたオゾン処理前設定pH値−pH補正値・・・式(1)
pH補正値=0 (C<Cである場合)・・・式(2)
pH補正値=pH最大補正値×(C−C)÷(C−C) (C≦C≦Cである場合)・・・式(3)
pH補正値=pH最大補正値(C<Cである場合)・・・式(4)
すなわち、被処理水の臭素イオン濃度Cが予め設定された第1の臭素イオン基準濃度Cよりも小さい場合には、オゾン処理前目標制御pH値は予め定められたオゾン処理前設定pH値となる。
一方、被処理水の臭素イオン濃度Cが予め設定された第1の臭素イオン基準濃度C以上であって第2の臭素イオン基準濃度C以下である場合には、この臭素イオン濃度Cが大きくなるに従ってオゾン処理前目標制御pH値が小さくなるよう補正される。
また、被処理水の臭素イオン濃度Cが予め設定された第2の臭素イオン基準濃度Cよりも大きい場合には、オゾン処理前目標制御pH値は、予め定められたオゾン処理前設定pH値からpH最大補正値を引いた値となる。
制御装置10のオゾン処理前目標制御pH値演算部21において上記の補正が行われることにより、被処理水の臭素イオン濃度が高い場合は、被処理水の臭素イオン濃度が低い場合に比べて被処理水のpH値をより低下させることができる。
次に、オゾン処理前目標制御pH値演算部21において算出されたオゾン処理前目標制御pH値は、オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25に送られる。
オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25において、pH測定器52によるオゾン処理前の被処理水のpH値がオゾン処理前目標制御pH値となるようpH調整剤注入装置75におけるpH調整剤の注入率が制御される。
ここで、オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25におけるpH調整剤の注入率の制御は、PID制御により行われる。PID制御とは、比例制御(P制御)、積分制御(I制御)および微分制御(D制御)を同時に行う制御のことをいう。
このことにより、オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25は、オゾン処理前の被処理水のpH値がより的確にオゾン処理前目標制御pH値となるようpH調整剤の注入率の制御を行うことができる。
オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25は、pH測定器52によるオゾン処理前の被処理水のpH値がオゾン処理前目標制御pH値よりも小さい場合には、pH調整剤の注入率の制御を行わないよう構成されているものであってもよい。
また、オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25における制御は、フィードフォワード制御、フィードバック制御またはこれらの制御を組み合わせた制御であってもよい。
次に、オゾン処理前pH調整剤注入量演算部23において、オゾン処理前pH調整剤注入率制御部25により制御されるpH調整剤の注入率と流量計74による被処理水の流量とを掛け合わせることにより、pH調整剤注入装置75から被処理水に注入されるpH調整剤の注入量が算出される。
pH調整剤注入装置75によるpH調整剤の実際の注入量の情報は、再びオゾン処理前pH調整剤注入量演算部23に送られる。このことによりオゾン処理前pH調整剤注入量演算部23においてpH調整剤の注入量のフィードバック制御が行われる。
本発明の水処理装置によれば、制御装置10の処理前目標制御pH値演算部21によって、予め定められたオゾン処理前設定pH値を臭素イオン濃度測定器51によるオゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度によって補正してオゾン処理前目標制御pH値が算出される。
そして、制御装置10のオゾン処理前pH調整剤注入率制御部25によって、pH測定器52によるオゾン処理前の被処理水のpH値がオゾン処理前目標制御pH値となるようpH調整剤注入装置75におけるpH調整剤の注入率が制御される。
このように、pH調整剤注入装置から被処理水に注入されるpH調整剤の注入率を、被処理水の臭素イオン濃度およびpH調整剤の注入後の被処理水のpH値に基づいて制御装置により制御することによって、被処理水のpH値を十分に低下させ臭素酸の生成を抑止するとともに、pH調整剤の過剰注入を抑止してその費用を最小限に抑えることができる。
すなわち、本発明の水処理装置によれば、被処理水に注入されるpH調整剤の注入率が過小となり被処理水のpH値が所望の値よりも大きい状態となって臭素酸が多量に生成されることを抑止することができる。また、被処理水に注入されるpH調整剤の注入率が過大となり、pH調整剤の消費量が臭素酸生成の抑制に必要な量よりも多くなってしまうことを抑止することができる。
第2の実施の形態
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。図4は、本発明の第2の実施の形態を示す図である。
第2の実施の形態に係わる水処理装置においては、オゾン処理槽の下流側に追加のpH調整剤注入装置と追加の測定器とを更に設けた点が異なるのみであり、他は図1乃至図3に示す第1の実施の形態と略同一である。
図4に示す第2の実施の形態において、図1に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
図4に示すように、オゾン処理槽70の下流側に、オゾン処理後のオゾン処理水にpH調整剤を注入する追加のpH調整剤注入装置76が設けられ、かつ、追加のpH調整剤注入装置76の下流側に、オゾン処理後のオゾン処理水のpH値を測定する追加のpH測定器63が設けられている。
そして、制御装置10は、追加のpH測定器63および追加のpH調整剤注入装置76に接続されたオゾン処理後pH調整剤注入率制御部26を更に有している。このオゾン処理後pH調整剤注入率制御部26は、追加のpH測定器63により測定されたオゾン処理後のオゾン処理水のpH値が、予め設定されたオゾン処理後目標制御pH値となるよう追加のpH調整剤注入装置76のpH調整剤の注入率を制御するものである。
また、制御装置10は、予め設定されたオゾン処理後設定pH値に基づいてオゾン処理後目標制御pH値を算出するオゾン処理後目標制御pH値演算部22と、追加のpH調整剤注入装置76からオゾン処理水に注入されるpH調整剤の注入量を算出するオゾン処理後pH調整剤注入量演算部24とを更に備えている。
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
図4において、オゾン処理槽70から排出されたオゾン処理水は、追加のpH調整剤注入装置76によりpH調整剤が注入され、このことによりオゾン処理水のpH値が調整される。
次に、pH調整剤が注入されたオゾン処理水のpH値が追加のpH測定器63により測定される。
以下に、制御装置10における追加のpH調整剤注入装置76によるpH調整剤の注入率の制御について詳述する。
まず、オゾン処理後目標制御pH値演算部22において、例えばオペレータによって予め定められたオゾン処理後設定pH値に基づいて、オゾン処理後目標制御pH値が算出される。
次に、オゾン処理後目標制御pH値演算部22において算出されたオゾン処理後目標制御pH値がオゾン処理後pH調整剤注入率制御部26に送られる。
オゾン処理後pH調整剤注入率制御部26において、追加のpH測定器63によるオゾン処理水のpH値がオゾン処理後目標制御pH値となるよう追加のpH調整剤注入装置76におけるpH調整剤の注入率が制御される。
オゾン処理後pH調整剤注入率制御部26は、追加のpH測定器63によるオゾン処理水のpH値がオゾン処理後目標制御pH値よりも大きい場合には、pH調整剤の注入率の制御を行わないよう構成されているものであってもよい。
ここで、オゾン処理後pH調整剤注入率制御部26におけるpH調整剤の注入率の制御は、PID制御により行われることが好ましい。
このことにより、オゾン処理後pH調整剤注入率制御部26は、オゾン処理後のオゾン処理水のpH値がより的確にオゾン処理後目標制御pH値となるよう制御を行うことができる。
そして、オゾン処理後pH調整剤注入量演算部24において、オゾン処理後pH調整剤注入率制御部26により制御されるpH調整剤の注入率と流量計74による被処理水の流量74aとを掛け合わせることにより、追加のpH調整剤注入装置76からオゾン処理水に注入されるpH調整剤の注入量が算出される。
追加のpH調整剤注入装置76によるpH調整剤の実際の注入量の情報は、再びオゾン処理後pH調整剤注入量演算部24に送られる。このことによりオゾン処理後pH調整剤注入量演算部24においてpH調整剤の注入量のフィードバック制御が行われる。
本実施の形態の水処理装置によれば、制御装置10は、追加のpH測定器63によるオゾン処理後のオゾン処理水のpH値が、予め設定されたオゾン処理後目標制御pH値となるよう追加のpH調整剤注入装置76のpH調整剤の注入率をオゾン処理後pH調整剤注入率制御部26により制御することができる。このことにより、この水処理装置から排出されるオゾン処理水のpH値を所望の値に再調整することができる。
第3の実施の形態
次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。図5は、本発明の第3の実施の形態を示す図である。
第3の実施の形態に係わる水処理装置においては、オゾン処理槽の上流側に水質指標測定手段を更に設けた点が異なるのみであり、他は図4に示す第2の実施の形態と略同一である。
図5に示す第3の実施の形態において、図4に示す第2の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
第3の実施の形態の水処理装置において、オゾン処理槽70の上流側に、水質指標測定手段65が設置されている。
この水質指標測定手段65は、被処理水の水温を測定する水温計53、被処理水の導電率を測定する導電率測定器54、被処理水のアルカリ度を測定するアルカリ度測定器55、被処理水の濁度を測定する濁度計56、被処理水の紫外線吸光度を測定する紫外線吸光度測定器57、被処理水の蛍光強度を測定する蛍光強度計58、被処理水の過マンガン酸カリウム消費量を測定する過マンガン酸カリウム消費量測定器59、被処理水の全有機炭素濃度を測定する全有機炭素濃度計60、被処理水の化学的酸素要求量を測定する化学的酸素要求量測定器61および被処理水のアンモニア性窒素濃度を測定するアンモニア性窒素濃度計62を有している。
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
制御装置10のオゾン処理前目標制御pH値演算部21において、予め定められたオゾン処理前設定pH値を臭素イオン濃度測定器51によるオゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度によって補正する。同時に、オゾン処理前目標制御pH値演算部21において、水質指標測定手段65の各測定器53、54、55、56、57、58、59、60、61、62で測定したオゾン処理前の被処理水の水質指標によって補正してオゾン処理前目標制御pH値が算出される。
具体的には、オゾン処理前目標制御pH値は下記式(5)により算出される。
オゾン処理前目標制御pH値=予め定められたオゾン処理前設定pH値
−ΣpH補正値i(i=1〜11)・・・式(5)
(i=1:臭素イオン濃度補正値、i=2:水温補正値、i=3:導電率補正値、i=4:アルカリ度補正値、i=5:濁度補正値、i=6:紫外線吸光度補正値、i=7:蛍光強度補正値、i=8:過マンガン酸カリウム補正値、i=9:全有機炭素濃度補正値、i=10:化学的酸素要求量補正値、i=11:アンモニア性窒素濃度補正値)
このことにより、オゾン処理槽70に流入される被処理水のpH値を、この被処理水の様々な水質指標に基づいてより的確に所望の値とすることができるので、より一層オゾン処理槽70における臭素酸の発生を抑制することができる。
なお、水質指標測定手段65が、被処理水の水温を測定する水温計53と、被処理水の導電率を測定する導電率測定器54と、被処理水のアルカリ度を測定するアルカリ度測定器55と、被処理水の濁度を測定する濁度計56と、被処理水の紫外線吸光度を測定する紫外線吸光度測定器57と、被処理水の蛍光強度を測定する蛍光強度計58と、被処理水の過マンガン酸カリウム消費量を測定する過マンガン酸カリウム消費量測定器59と、被処理水の全有機炭素濃度を測定する全有機炭素濃度計60と、被処理水の化学的酸素要求量を測定する化学的酸素要求量測定器61と、被処理水のアンモニア性窒素濃度を測定するアンモニア性窒素濃度計62とを有する例を示したが、水質指標測定手段65が上記測定器のうちいずれか一つのみを有していてもよく、上記測定器のうち数種類の測定器を組み合わせたものであってもよい。
本発明の第1の実施の形態による水処理装置の構成を示す構成図。 オゾン処理前の被処理水のpH値とオゾン処理により生成される臭素酸の濃度との関係を示すグラフ。 図1の制御装置のオゾン処理前目標制御pH値演算部における臭素イオン濃度とpH補正値との関係を示すグラフ。 本発明の第2の実施の形態による水処理装置の構成を示す構成図。 本発明の第3の実施の形態による水処理装置の構成を示す構成図。
符号の説明
10 制御装置
21 オゾン処理前目標制御pH値演算部
22 オゾン処理後目標制御pH値演算部
23 オゾン処理前pH調整剤注入量演算部
24 オゾン処理後pH調整剤注入量演算部
25 オゾン処理前pH調整剤注入率制御部
26 オゾン処理後pH調整剤注入率制御部
51 臭素イオン濃度測定器
52 pH測定器
53 水温計
54 導電率測定器
55 アルカリ度測定器
56 濁度計
57 紫外線吸光度測定器
58 蛍光強度計
59 過マンガン酸カリウム消費量測定器
60 全有機炭素濃度計
61 化学的酸素要求量測定器
62 アンモニア性窒素濃度計
63 追加のpH測定器
65 水質指標測定手段
70 オゾン処理槽
71 凝集沈澱設備
72 砂濾過設備
73 活性炭吸着設備
74 流量計
74a 被処理水の流量
75 pH調整剤注入装置
76 追加のpH調整剤注入装置

Claims (4)

  1. オゾン処理槽において被処理水にオゾンガスを注入して被処理水のオゾン処理を行う水処理装置において、
    オゾン処理槽の上流側に設けられ、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度を測定する臭素イオン濃度測定器と、
    オゾン処理槽の上流側に設けられ、オゾン処理前の被処理水にpH調整剤を注入するpH調整剤注入装置と、
    オゾン処理槽とpH調整剤注入装置との間に設けられ、オゾン処理前の被処理水のpH値を測定するpH測定器と、
    予め定められたオゾン処理前設定pH値を臭素イオン濃度測定器によるオゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度によって補正してオゾン処理前目標制御pH値を算出するオゾン処理前目標制御pH値演算部と、pH測定器によるオゾン処理前の被処理水のpH値がオゾン処理前目標制御pH値となるようpH調整剤注入装置におけるpH調整剤の注入率を制御するオゾン処理前pH調整剤注入率制御部とを有する制御装置と、
    を備え
    前記制御装置のオゾン処理前目標制御pH値演算部は、予め定められたオゾン処理前設定pH値から、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度に基づいて定められるpH補正値を減算することによりオゾン処理前目標制御pH値を算出し、この際に、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度が第1の臭素イオン基準濃度よりも小さい場合はpH補正値を0とし、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度が第1の臭素イオン基準濃度から大きくなるにつれてpH補正値を大きくし、pH補正値を予め設定されたpH最大補正値よりも大きくしないようにすることを特徴とする水処理装置。
  2. 制御装置のオゾン処理前pH調整剤注入率制御部におけるpH調整剤の注入率の制御は、PID制御により行われることを特徴とする請求項1記載の水処理装置。
  3. 制御装置のオゾン処理前目標制御pH値演算部において、オゾン処理前目標制御pH値は下記式により算出されることを特徴とする請求項1または2記載の水処理装置。
    オゾン処理前目標制御pH値=予め定められたオゾン処理前設定pH値−pH補正値・・・式(1)
    pH補正値=0 (C<Cである場合)・・・式(2)
    pH補正値=pH最大補正値×(C−C)÷(C−C) (C≦C≦Cである場合)・・・式(3)
    pH補正値=pH最大補正値(C<Cである場合)・・・式(4)
    Cは、オゾン処理前の被処理水の臭素イオン濃度、
    pH最大補正値は、予め設定された値、
    、Cは、それぞれ、予め設定された第1、第2の臭素イオン基準濃度。
  4. オゾン処理槽の下流側に設けられ、オゾン処理後のオゾン処理水にpH調整剤を注入する追加のpH調整剤注入装置と、
    追加のpH調整剤注入装置の下流側に設けられ、オゾン処理後のオゾン処理水のpH値を測定する追加のpH測定器とを更に備え、
    制御装置は、追加のpH測定器によるオゾン処理後のオゾン処理水のpH値が予め設定されたオゾン処理後目標制御pH値となるよう追加のpH調整剤注入装置におけるpH調整剤の注入率を制御するオゾン処理後pH調整剤注入率制御部を更に有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の水処理装置。
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