JP4326205B2 - ビーム位置制御方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は感光体上にレーザービームを走査させることにより画像を形成する画像形成装置において、感光体上のレーザービームの副走査方向の位置をガルバノミラーにより制御するビーム位置制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
デジタル複写装置においては、複数本のビームで同時に画像形成することによって画像形成の速度を高速化する、いわゆるマルチビーム化がさかんに行われている。このようなマルチビーム化された画像形成装置においては、単一のポリゴンミラーに対して複数本のビームを入射させるように構成することによって、装置の簡略化を図っている。そのため、複数本のビームの副走査方向の位置・間隔については非常に高い精度が要求され、たとえば偏向前光学系にガルバノミラーを設け、複数本のビームの１本１本に対して正確な副走査位置制御を行うことが行われている。
【０００３】
ところで、この副走査方向のビーム位置制御に用いられるガルバノミラーとは、特開平１０―７６０７４号公報等に示されるように、磁石固定ベース、磁石、ボビン、ヨーク、コイル、トーションバー、ミラーから構成されており、さらに例えばシリコーンゲルのようなダンピング剤が用いられることにより、外乱振動等で不所望にミラーが振動されることを防止するような構成となっている。（例えば、特許文献３参照）このような構成のガルバノミラーにおいて、ミラーを傾ける目的でミラーを支持する支持部材に対して電磁コイル等から提供される駆動力と磁気回路から提供される磁力との相互作用により得られるミラー駆動力は、上述したダンピング剤の粘性がコイルの発熱等の影響による温度上昇に起因して変動したり、温度上昇の影響により磁気回路の磁力の大きさが変動することにより、コイルに印加する電流の大きさとミラーの角度の変化分との関係に経時変化（ドリフト）が生じ、ミラーの角度が変化する現象が発生する。
【０００４】
このドリフトの影響を少なくするために、例えば特許文献１においては、ガルバノミラーのドリフト方向を予測しておき、あらかじめドリフトしそうな分だけマージンを持たせて調整することが開示されている。さらに、特許文献２においては、ドリフト方向を制御に反映し、調整のための方向を交互に切り替えながら、かつ移動量を徐々に小さくしながら、ビーム位置を目的位置に追い込んでいくことにより、ドリフトの影響を抑えて調整する方法について開示されている。
【０００５】
しかしながら、これらの公知技術に見られるようなビーム位置の追い込み方は、追い込み方向が副走査方向の上→下方向の調整と、下→上方向の調整を交互に切り替えて行うものであるが、ガルバノミラーの特性として、回転する方向に応じて移動特性が異なると言う点を考慮したものにはなっていない。そのため、最後に追い込む方向がどちらかによって、ドリフトによる位置ずれが起こりやすかったり起こりにくかったりすることにより、誤差が大きくなってしまうと言う問題点を有していた。
【０００６】
【特許文献１】
特開２０００―１４７３９８号公報
【特許文献２】
特開２００１―１００１２７号公報
【特許文献３】
特開平１０―７６０７４号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ガルバノミラーを用いた副走査方向のビーム位置調整において、ガルバノミラーの移動方向の差異に基づいて発生する誤差を最小限に抑え、ガルバノミラーのドリフトによる影響を最小限に抑えることによって、感光体上を走査するレーザービームの位置を正確に制御することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本願発明のビーム位置制御方法は、ガルバノミラーにより副走査方向のビーム位置を調整するものであって、副走査方向の第１の方向に第１の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置を超過するまで連続して行う第１のステップと、この第１のステップにおいてビーム位置が目標位置を超過した場合、前記第１の方向と反対の第２の方向に前記第１の量の２倍の量ビーム位置を移動させる第２のステップと、この第２のステップに続いて、前記第１の方向に前記第１の量より小さい第２の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置を超過するまで連続して行う第３のステップと、この第３のステップにおいてビーム位置が目標位置を超過した場合、前記第２の方向に前記第２の量の２倍の量ビーム位置を移動させる第４のステップと、この第４のステップに続いて、前記第１の方向に前記第２の量より小さい第３の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置に到達するまで連続して行う第５のステップとからなることを特徴とする。
【０００９】
特に、ビーム位置の追い込みを行う際に常に一方向から行い、目標位置を超過した場合は、一旦大きく戻した後、前回の追い込み時よりも小さい値で、再度追い込みを行うことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について詳細に説明する。本発明を、４本のビームを１つのポリゴンミラーにより感光体上を走査させるマルチビーム光学系に適用した例について説明する。
【００１１】
図１は光学系ユニット１３の構成と感光体ドラム１５の位置関係を示している。光学系ユニット１３は、たとえば、４つの光ビーム発生手段としての半導体レーザ発振器３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄを内蔵していて、それぞれのレーザ発振器３１ａ〜３１ｄが、同時に１走査ラインずつの画像形成を行なうことで、ポリゴンミラーの回転数を極端に上げることなく、高速の画像形成を可能としている。
【００１２】
すなわち、レーザ発振器３１ａはレーザドライバ３２ａで駆動され、出力される光ビームは、図示しないコリメータレンズを通過した後、光路制御手段としてのガルバノミラー３３ａに入射する。ガルバノミラー３３ａで反射された光ビームは、ハーフミラー３４ａとハーフミラー３４ｂを通過し、多面回転ミラーとしてのポリゴンミラー３５に入射する。
【００１３】
ポリゴンミラー３５は、ポリゴンモータドライバ３７で駆動されるポリゴンモータ３６によって一定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー３５からの反射光は、ポリゴンモータ３６の回転数で定まる角速度で、一定方向に走査することになる。ポリゴンミラー３５によって走査された光ビームは、図示しないｆ―θレンズのｆ―θ特性により、これを通過することによって、一定速度で、光ビーム検知手段および光ビームパワー検知手段としての光ビーム検知装置３８の受光面、および、感光体ドラム１５上を走査することになる。
【００１４】
レーザ発振器３１ｂは、レーザドライバ３２ｂで駆動され、出力される光ビームは、図示しないコリメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｂで反射し、さらにハーフミラー３４ａで反射する。ハーフミラー３４ａからの反射光は、ハーフミラー３４ｂを通過し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａの場合と同じで、図示しないｆ―θレンズを通過し、一定速度で光ビーム検知装置３８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００１５】
レーザ発振器３１ｃは、レーザドライバ３２ｃで駆動され、出力される光ビームは、図示しないコリメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｃで反射し、さらにハーフミラー３４ｃを通過し、ハーフミラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａ、３１ｂの場合と同じで、図示しないｆ―θレンズを通過し、一定速度で光ビーム検知装置３８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００１６】
レーザ発振器３１ｄは、レーザドライバ３２ｄで駆動され、出力される光ビームは、図示しないコリメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｄで反射し、さらにハーフミラー３４ｃで反射し、ハーフミラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａ、３１ｂ、３１ｃの場合と同じで、図示しないｆ―θレンズを通過し、一定速度で光ビーム検知装置３８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００１７】
なお、レーザドライバ３２ａ〜３２ｄは、それぞれオートパワーコントロール（ＡＰＣ）回路を内蔵しており、後で説明する主制御部（ＣＰＵ）５１から設定される発光パワーレベルで常にレーザ発振器３１ａ〜３１ｄを発光動作させるようになっている。
【００１８】
このようにして、別々のレーザ発振器３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄから出力された各光ビームは、ハーフミラー３４ａ、３４ｂ、３４ｃで合成され、４つの光ビームがポリゴンミラー３５の方向に進むことになる。
【００１９】
したがって、４つの光ビームは、同時に感光体ドラム１５上を走査することができ、従来のシングルビームの場合に比べ、ポリゴンミラー３５の回転数が同じである場合、４倍の速度で画像を記録することが可能となる。
【００２０】
ガルバノミラー３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄは、光ビームの副走査方向位置を調整（制御）するためのものであり、それぞれを駆動するガルバノミラー駆動回路３９ａ、３９ｂ、３９ｃ、３９ｄが接続されている。
【００２１】
光ビーム検知装置３８は、上記４つの光ビームの通過位置、通過タイミングおよびパワーをそれぞれ検知するためのものであり、その受光面が感光体ドラム１５の表面と同等になるよう、感光体ドラム１５の端部近傍に配設されている。この光ビーム検知装置３８からの検知信号を基に、それぞれの光ビームに対応するガルバノミラー３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄの制御（副走査方向の画像形成位置すなわちビーム照射位置制御）、レーザ発振器３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄの発光パワーの制御、および、発光タイミングの制御（主走査方向の画像形成位置制御）が行なわれる。これらの制御を行なうための信号を生成するために、光ビーム検知装置３８には、光ビーム検知装置出力処理回路４０が接続されている。
【００２２】
次に、制御系について説明する。
【００２３】
図３は、主にマルチ光ビーム学系の制御を主体にした制御系を示している。すなわち、５１は全体的な制御を司る主制御部で、たとえば、ＣＰＵからなり、これには、メモリ５２、レーザドライバ３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄ、ポリゴンミラーモータドライバ３７、ガルバノミラー駆動回路３９ａ、３９ｂ、３９ｃ、３９ｄ、信号処理手段としての光ビーム検知装置出力処理回路４０、および同期回路５５が接続されている。
【００２４】
同期回路５５は、各光ビームの光ビーム検知装置３８上を通過するタイミングに同期したクロックを発生し、このクロックに同期して、図示しない画像データＩ／Ｆから各レーザドライバ３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄへ、画像データをレーザ変調信号として送出する。このようにして、各光ビームの走査と同期を取りながら画像データを転送することで、主走査方向に同期がとれた（正しい位置への）画像形成が行なわれるものである。
【００２５】
ガルバノミラー駆動回路３９ａ、３９ｂ、３９ｃ、３９ｄは、主制御部５１からの指示値にしたがってガルバノミラー３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄを駆動する回路である。したがって、主制御部５１は、ガルバノミラー駆動回路３９ａ、３９ｂ、３９ｃ、３９ｄを介して、ガルバノミラー３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄの各角度を自由に制御することができる。
【００２６】
ポリゴンモータドライバ３７は、先に述べた４つの光ビームを走査するポリゴンミラー３５を回転させるためのポリゴンモータ３６を駆動するドライバである。主制御部５１は、このポリゴンモータドライバ３７に対し、回転開始、停止と回転数の切換えを行なうことができる。回転数の切換えは、光ビーム検知装置３８で光ビームの通過位置を確認する際に、必要に応じて、所定の回転速度よりも回転数を落すときに用いる。
【００２７】
レーザドライバ３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄは、先に説明した同期回路５５からの光ビームの走査に同期したレーザ変調信号にしたがってレーザ光を発光させる以外に、主制御部５１からの強制発光信号により、画像データとは無関係に強制的にレーザ発振器３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄを発光動作させる機能を持っている。
【００２８】
また、主制御部５１は、それぞれのレーザ発振器３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄが発光動作するパワーを、各レーザドライバ３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄに対して設定する。発光パワーの設定は、プロセス条件の変化や、光ビームの通過位置検知などに応じて変更される。
【００２９】
メモリ５２は、制御に必要な情報を記憶するためのものである。たとえば、各ガルバノミラー３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄの制御量、光ビームの通過位置を検知するための回路特性（増幅器のオフセット値）、および、光ビームの到来順序などを記憶しておくことで、電源立ち上げ後、即座に光学系ユニット１３を画像形成が可能な状態にすることができる。
【００３０】
ガルバノミラー３３（ａ、ｂ、ｃおよびｄ）は、詳細には、図３および図４を用いて以下に説明するように、ミラー１６０の角度を変位可能に保持する板ばね１６１および板ばね１６１（ミラー１６０）を任意の方向に移動可能に支持するフレーム１６２を有する。
【００３１】
板ばね１６１には、ミラー１６０すなわち板ばね１６１を変位させるための力を発生する推力発生部１６３を構成するボビン１６３ａおよびボビン１６３ａの内側に格納されたコイル１６３ｂが設けられている。また、コイル１６３ｂの内側には、フレーム１６２を露光装置２１の図示しないハウジングの所定の位置に固定するための固定板１６４に一体的に設けられ、コイル１６３ｂに電流が供給された場合に、ボビン１６３ａすなわち板ばね１６１を所定量に移動させるための力を生じさせるための磁界を提供するマグネット１６３ｃがコイル１６３ｂに対して所定の間隔を維持して配列されている。なお、フレーム１６２は、マグネット１６３ｃからの磁力線に対する磁気回路を構成するヨークとしても機能する。
【００３２】
板ばね１６１は、ミラー１６０を支持する支持面１６１ａとフレーム１６２との接続に利用される保持面１６１ｂと支持面１６１ａおよび保持面１６１ｂのそれぞれを連結する２つのねじれ変形部（捩れ部）すなわちトーションバー１６１ｃ、１６１ｃを有し、捩れ部（２カ所）１６１ｃ、１６１ｃが所定の方向に捩れることにより、矢印Ｒ方向に回転可能である。なお、板バネ１６１には、バネ材としてよく知られている、例えばベリリウム銅あるいはばね用ステンレス鋼ＳＵＳ３０４等が用いられる。なお、板バネ１６１は、フレーム１６２に設けられているネジ穴１６２ａ、１６２ａに、例えば樹脂により形成されたばね押さえ１６５、１６５とともに図示しないねじ等により固定される。
【００３３】
また、フレーム１６２とボビン１６３ａとの間の間隙には、外乱振動等によりミラー１６０が振動しないように、例えばシリコーンゲルのようなダンピング剤１７０が充填されている。
【００３４】
上述したガルバノミラー３３（ａ、ｂ、ｃおよびｄ）において、コイル１６３ｂに、主制御部５１の制御による指示値（１４ビット）に応じてガルバノミラー駆動回路３９（ａ、ｂ、ｃおよびｄ）に図示しない所定の極性の電流が供給される（指示値に対応する電圧がコイル１６３ｂに印加される）ことによりマグネット１６３ｃとの間に電磁力が生じ、ミラー１６０が矢印Ｒ方向に回転される。このとき、電流の向きすなわち電流の極性が変化されることにより回転方向が任意の方向に切り替えられる。また、回転角（変位の大きさ）は、電流の大きさに比例して任意に変化される。なお、通電電流を保持することにより、ミラー１６０が位置される角度を維持することができる。ガルバノミラー３３の回転角度変更によるビーム位置の変更は、前述したように１４ビットの指示値を与えることによってなされる。例えば、１ビットあたりの感光体ドラム上のビーム位置移動が０．７６μｍとなるように調整されており、粗調の場合は１２８ビットずつ移動し、最微調の場合は２ビットずつ移動するように定義されている。
【００３５】
このような各ガルバノミラー３３（ａ、ｂ、ｃおよびｄ）のミラー１６０は、画像形成時および電源が入れられた直後のイニシャル時には、ビーム位置検出センサ３８からの検出信号に基づいて、各レーザドライバ３２ａ、３２ｂ、３２ｃおよび３２ｄのそれぞれからのレーザビームが、ビーム位置検出センサ３８に入射した位置を基準として副走査方向の位置のずれが補正されるものである。
【００３６】
次に図５を用いて本願発明の特徴である副走査方向でのビーム位置調整方法について説明する。本実施例のマルチビーム光学系の場合、４つの調整対象が存在するが、調整は１本のレーザごとに行われ、１つが終わると残りのいずれかのビームの調整が次々と行われていくものである。
【００３７】
まず最初に、ビーム光検知装置３８の出力を参照して、現状のビーム位置が、目標位置に対して上に位置しているか下に位置しているかが判断される（Ｓ１）。このときのビーム位置が目標より下に位置していれば、調整の方向は「下→上」の方向となり（Ｓ２）、ビーム位置が目標より上に位置していれば、調整の方向は「上→下」となる（Ｓ３）。調整方向が「下→上」の時は、ガルバノミラーが第１の方向に所定ステップずつ回転し、調整方向が「上→下」の時は、ガルバノミラーが第１の方向とは逆の第２の方向に所定ステップずつ回転することによってビーム位置調整が行われる。
【００３８】
続いて、１回の調整値（Ｘ）として１２８（１４ビット）がセットされ（Ｓ４）、感光体上のビーム走査位置は調整方向に所定量移動する（Ｓ５）。１ステップあたりの移動量を０．７６μｍとした場合は、１回の調整動作で、調整方向に９７．２８μｍ移動することになる。１回の移動の後、目標位置に到達したかどうかが判断される（Ｓ６）。ここで目標に到達していれば調整は終了となるが、そうでない場合は目標を通り越したかどうかが判断され（Ｓ７）、目標を通り越していなければＳ５からＳ７までの処理が繰り返され、調整方向へＸステップの移動が繰り返し行われることになる。
【００３９】
Ｓ７にて目標を通り越したと判断された場合、その位置から、２Ｘステップ（２５６ステップ）分、調整方向とは反対の方向にビーム走査位置を移動させる（Ｓ８）。ここで、これまでの移動量を２倍した分だけ後退させる意味は、ここまでの移動に起因して生じるガルバノミラーのドリフト特性が、目標地点付近に影響を与えないようにするために、充分なマージンを取るためである。
【００４０】
続いて、１回の調整値が「１」になったかどうかが判別される（Ｓ９）。このシステムにおいては、レーザービームの移動の最小ステップは「１」であり、これ以下の量にはならない。調整値が、最小値である「１」に達していないときは、1回の調整値をこれまでより少ない量に変更し、徐々に粗調から微調へと進んでいく。この例では、これまでの半分の値（Ｘ／２）（６４ステップ）で、以降の調整を行っていくことになる（Ｓ１０）。例えば、より細やかな調整を行うのであれば、このＳ１０における調整値の変更量を小さくすれば良い。
【００４１】
Ｓ１０にて調整値が１／２に変更された後、再度調整方向へのビームの移動が行われる（Ｓ５）。そして、目標を通り過ぎるまで移動が行われ（Ｓ７）、目標を通り過ぎたら２Ｘステップ戻り（Ｓ８）、移動量が最小値に達しているか否かを確認後（Ｓ９）、移動量を１／２にして（Ｓ１０）再度調整方向へのビームの移動が行われる。この例では、１回の調整時の移動ステップ数は、１２８→６４→３２→１６→８→４→２→１と変化していくものである。
【００４２】
こうすることによって、ビームは所定の調整方向からのみ目標位置に対して近づいていき、ついには目標位置に到達することになる。この場合、常に同じ方向から目標位置に対して近づく動作が連続して行われることにより、従来のように、「微調の最終段階になって１回ごとに異なる方向に動かそうとすることによって、ガルバノミラーの特性に反発するような動作を繰り返して行うことになり移動量に誤差が生じる」、ことを無くすことができる。
【００４３】
次に本発明の第２の実施例について説明する。この第２の実施例は、第１の実施例では、途中でまだ１回の調整値が大きい値のときにたまたま目標位置に一致してしまった場合は、まだドリフトが完全に収束していない場合がある。このようなケースにおいて、この時点で調整を止めてしまうと、調整後にガルバノミラーがドリフトしてしまい、正しい位置をビームを走査することができなくなってしまう。そこで、第２の実施例においては、必ず調整の最終段階は１ステップずつとなるようにしている。
【００４４】
ステップＳ１からＳ６までは第１の実施例と同じであるため説明を省略する。Ｓ６において目標位置に一致したと判断された場合、そのときの調整値が「１ステップ」かどうかが判断される（Ｓ１１）。目標に一致しても、調整値が「１ステップ」以上であった場合には、逆方向に２Ｘステップ戻った後（Ｓ８）、すでに調整値が最小値「１」に達しているかどうかを判断した後（Ｓ９）、調整値を１／２して（Ｓ１０）、Ｓ５以降の処理を繰り返す。そして、最後に調整値が１ステップごとになった時点で目標位置に一致したら、調整を終了するものである。
【００４５】
このような第２の実施例によれば、第１の実施例において存在した「調整の途中で偶然目標位置に一致してしまった場合に調整が終了してしまう」という問題点を解消することができ、調整を実施した後にガルバノミラーのドリフトにより位置ずれが生じることがなく、より精度の高い調整を行うことができる。
【００４６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のビーム位置制御方法によれば、ビームの位置調整を行う際に、常に一方向から追い込むことにより、調整誤差を少なくすることができ、ガルバノミラーのドリフトの影響を受けることなく、正確にビーム値を制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施例のマルチビーム光学系の機構的構成を示す図である。
【図２】本実施例のマルチビーム光学系の制御的構成を示す図である。
【図３】本実施例のガルバノミラーの攻勢を説明する外略図である。
【図４】本実施例のガルバノミラーの分解斜視図である。
【図５】第１の実施例のビーム位置制御方法の流れを示すフローチャートである。
【図６】第２の実施例のビーム位置制御方法の流れを示すフローチャートである。
【符号の説明】
１５・・・感光体、３１・・・半導体レーザ発振器、３２・・・レーザドライバ、３４・・・ガルバノミラー、３５・・・ポリゴンミラー、３９・・・ガルバノミラー駆動回路、３８・・・ビーム光検知装置、５１・・・主制御部

Claims (7)

1. レーザ発光源から出射されたビームをポリゴンミラーを用いて像面上を走査させて画像を形成する画像形成装置において副走査方向のビーム位置をガルバノミラーを用いて移動するよう制御を行う方法であって、
   副走査方向の第１の方向に第１の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置を超過するまで連続して行う第１のステップと、
   この第１のステップにおいてビーム位置が目標位置を超過した場合、前記第１の方向と反対の第２の方向に前記第１の量の２倍の量ビーム位置を移動させる第２のステップと、
   この第２のステップに続いて、前記第１の方向に前記第１の量より小さい第２の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置を超過するまで連続して行う第３のステップと、
   この第３のステップにおいてビーム位置が目標位置を超過した場合、前記第２の方向に前記第２の量の２倍の量ビーム位置を移動させる第４のステップと、
   この第４のステップに続いて、前記第１の方向に前記第２の量より小さい第３の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置に到達するまで連続して行う第５のステップと、
   からなることを特徴とするビーム位置制御方法。
2. 請求項１記載のビーム位置制御方法において、前記副走査方向のビーム移動量である前記第１の量、第２の量および第３の量は、いずれもガルバノミラーの振り角により表されることを特徴とするビーム位置制御方法。
3. 請求項１記載のビーム位置制御方法において、前記第２の量および第３の量は、それぞれ前記第１の量および第２の量の２分の１であることを特徴とするビーム位置制御方法。
4. 請求項１記載のビーム位置制御方法において、前記第１、第２および第３の量はいずれも２のべき乗数であることを特徴とするビーム位置制御方法。
5. レーザ発光源から出射されたビームをポリゴンミラーを用いて像面上を走査させて画像を形成する画像形成装置において副走査方向のビーム位置をガルバノミラーを用いて移動するよう制御を行う方法であって、
   副走査方向の第１の方向に第１の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置を超過するまで連続して行う第１のステップと、
   この第１のステップにおいてビーム位置が目標位置を超過した場合、前記第１の方向と反対の第２の方向に前記第１の量の２倍の量ビーム位置を移動させる第２のステップと、
   この第２のステップに続いて、前記第１の方向に前記第１の量より小さい第２の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置に到達するまで連続して行う第３のステップと、
   からなることを特徴とするビーム位置制御方法。
6. レーザ発光源から出射されたビームをポリゴンミラーを用いて像面上を走査させて画像を形成する画像形成装置において副走査方向のビーム位置をガルバノミラーを用いて移動するよう制御を行う方法であって、
   副走査方向の第１の方向に第１の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置を超過するまで連続して行う第１のステップと、
   この第１のステップにおいてビーム位置が目標位置を超過した場合、前記第１の方向と反対の第２の方向に前記第１の量の２倍の量ビーム位置を移動させる第２のステップと、
   この第２のステップに続いて、前記第１の方向に前記第１の量の２分の１の第２の量ずつビーム位置を移動させる動作を、目標位置に到達するまで連続して行う第３のステップと、
   前記第１乃至第３のステップを前記第２の量が所定の値に達するまで繰り返す第４のステップと、
   からなることを特徴とするビーム位置制御方法。
7. 請求項６記載のビーム位置制御方法において、前記所定の値は前記ビーム位置を移動する際の最小単位であることを特徴とするビーム位置制御方法。

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