JP4322871B2 - クロロスルホニルイソシアナートの製造方法 - Google Patents
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Description
従来、クロロスルホニルイソシアナートは、三酸化硫黄とクロロシアンとの反応で合成できることが知られており、その製造方法がいくつか報告されている。例えば、(a)Chem.Ber.,89,1071(1956)、および西ドイツ特許928896号公報には、−50℃以下の低温下で、クロロシアン中に三酸化硫黄を添加して反応させる方法が記載されている。また、(b)ヨーロッパ特許294613号公報、およびスイス国特許680292A5号公報には、三酸化硫黄とクロロシアンとを100℃〜200℃で反応させる方法が記載されている。
しかし、前記(a)の方法の場合、三酸化硫黄に対して多量(1.5〜3倍モル)のクロロシアンを使用するため、経済面から好ましいものとはいえない。また、毒性の強いクロロシアンを過剰に使用するものであるため、安全上の観点からも好ましいものとはいえなかった。さらに、得られるクロロスルホニルイソシアナートの単離収率が60〜62%と低いことや、品質(特に純度)が市場の要求を満たしていないという問題があった。また、(b)の方法の場合には、三酸化硫黄およびクロロシアンを反応系に供給する流量の制御が容易ではなく、(a)の方法と同様、得られるクロロスルホニルイソシアナートの収率が低いことや、品質面に問題があった。
これら問題を解決すべく、(c)反応系の温度を20℃〜50℃に保ちつつ、三酸化硫黄中へクロロシアンを添加して反応させる方法(特開昭63−77855号公報)や、(d)反応系の温度を10℃〜50℃に保ちつつ、三酸化硫黄とクロロシアンを同時に反応系内に供給して反応させる方法(特開平1−228955号公報)、(e)塩素系炭化水素溶媒中で、三酸化硫黄とクロロシアンとを反応させる方法(特開平4−164063号公報)、(f)反応系の温度を−10℃〜17℃に保ちつつ、三酸化硫黄とクロロスルホニルイソシアナートの混合物にクロロシアンを供給して反応させる方法(特開2000−53630号公報)などが提案されている。
さらに最近では、(g)クロロスルホニルイソシアナートを蒸留分離した釜残液の分解処理を行うと共に、クロロスルホニルイソシアナートの蒸留分離や釜残液の分解・蒸留処理により得られる低沸点留分を回収し、この回収液を三酸化硫黄とクロロシアンとの反応に投入することにより再利用する方法(特開2003−40854号公報)も提案されている。
これら(c)〜(g)の方法によれば、いずれも、工業的に比較的簡単な手法でクロロスルホニルイソシアナートを、比較的高収率(74%〜91%)かつ高純度(90%〜98%)で得ることが可能である。
しかしながら、(c)〜(f)の方法では、三酸化硫黄とクロロシアンとの発熱反応を、適切な温度範囲に維持するための冷却操作が必要であり、冷却設備費が高価となる為、工業的な製法としては満足できるものではなかった。また、これらの方法において収率を向上させるためには、副生成物であるクロロピロスルホニルイソシアナートを熱分解処理することにより、クロロスルホニルイソシアナートを得ることが必須である。クロロピロスルホニルイソシアナートの熱分解操作は、危険で煩雑かつ高コストであり、工業的に問題があった。
さらに、(f)の方法の場合、低沸点留分を回収して再利用するためには、工程数が多く、煩雑な後処理操作が必要となり、そのための必要設備が多くなることが問題となっていた。
本発明は、上記した従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、高収率で高純度のクロロスルホニルイソシアナートを得ることができ、かつ省設備化が達成できる、簡便で、操作性のよいクロロスルホニルイソシアナートの製造方法を提供することを課題とする。
かくして本発明によれば、三酸化硫黄とクロロシアンとを反応させてクロロスルホニルイソシアナートを製造する方法において、反応溶媒としてクロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液を用い、還流下、クロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で、それぞれ希釈した三酸化硫黄およびクロロシアンを反応系に略等モルずつ同時供給することを特徴とするクロロスルホニルイソシアナートの製造方法が提供される。
本発明のクロロスルホニルイソシアナートの製造方法においては、還流温度が50℃〜110℃であるのが好ましい。
本発明の製造方法は、三酸化硫黄とクロロシアンとを反応させてクロロスルホニルイソシアナートを製造する方法である。
(1)三酸化硫黄
本発明に用いる三酸化硫黄は、液状のものであればその種類に特に制限されないが、反応性に富む点から特にγ体が好ましい。本発明に用いる三酸化硫黄の純度は特に制限されないが、通常90重量%以上、好ましくは95重量%以上である。また、本発明に用いる三酸化硫黄は、有機ケイ素、四塩化炭素、ジメチル硫酸、ホウ素化合物、リン化合物、芳香族スルホン酸等公知の重合防止剤を含有するものであってもよい。重合防止剤の含有量は特に制限されないが、通常0.001〜1重量%の範囲である。
(2)クロロシアン
本発明の製造方法においては、液状状態のクロロシアンを使用する。クロロシアンは青酸と塩素から工業的に製造されており、脱水剤あるいは蒸留により脱水されたものの使用が好ましい。また、用いるクロロシアンの純度は特に制限されないが、通常90重量%以上、好ましくは95重量%以上である。
クロロシアンの使用量(連続式の場合には単位時間あたりの使用量)は、三酸化硫黄に対して、通常0.8〜1.2モル当量、好ましくは0.9〜1.1モル当量である。クロロシアンの使用量が、0.8モル当量未満あるいは1.2モル当量を超える場合には、クロロピロスルホニルイソシアナートや2,6−ジクロロ−1,4,3,5−オキサチアジアジン−4,4−ジオキシド等の副生成物の生成が多くなり、収率の低下や完結時間が長引く等の弊害が起こるため、好ましくない。
(3)クロロスルホニルイソシアナートの製造方法
本発明の製造方法は、反応溶媒としてクロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液を用い、還流下、クロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で、それぞれ希釈した三酸化硫黄およびクロロシアンを反応系に略等モルずつ同時供給することを特徴とする。
反応溶媒並びに三酸化硫黄およびクロロシアンの希釈用として使用するクロロスルホニルイソシアナートの純度については特に限定的ではなく、高純度のクロロスルホニルイソシアナートであっても、クロロスルホニルイソシアナートを含有する液であってもよい。
クロロスルホニルイソシアナートを含有する液としては、クロロスルホニルイソシアナート製造の際の反応液、蒸留精製の際に留出する初留分、本留分、釜残等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、反応液の一部を次バッチの溶媒用として反応槽に残してもよい。
本発明において、反応溶媒として用いるクロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液の使用量は、攪拌および温度管理が可能となる量であれば特に限定されない。通常は三酸化硫黄の使用量に対して0.2〜1モル当量、好ましくは0.2〜0.5モル当量である。
本発明においては、三酸化硫黄とクロロシアンは、クロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で希釈したものを用いる。
三酸化硫黄およびクロロシアンをクロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で希釈して用いることにより、流量を制御しながら、このクロロシアンと三酸化硫黄の希釈液を還流下に供給することができる。したがって、副生成物の生成を抑え、選択的に、クロロスルホニルイソシアナートを得ることができる。
クロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で希釈した三酸化硫黄とクロロシアンの使用量は、三酸化硫黄の希釈に関しては特に限定されない。クロロシアンに関しては希釈液であるクロロスルホニルイソシアナート中からクロロシアンが揮発しないだけの量が必要となる。通常はクロロシアンの使用量に対して0.2〜1モル当量、好ましくは0.2〜0.5モル当量である。
クロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で希釈した三酸化硫黄、およびクロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で希釈したクロロシアン(以下、これらをまとめて「原料」ということがある。)の供給方法は、回分式であっても連続式であっても差し支えない。連続式の場合には、反応槽のほかに、反応を完結させるための完結槽を設けることもできる。
本発明の製造方法においては、クロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で、それぞれ希釈した三酸化硫黄とクロロシアンは、反応溶媒還流下に略等モルずつ同時に供給する。ここで、「略等モルずつ」とは、三酸化硫黄とクロロシアンの供給量の比が、三酸化硫黄:クロロシアンのモル比で、0.8:1.2〜1.2:0.8、好ましくは1.1:0.9〜0.9:1.1の範囲であることを意味する。なお、供給量は、連続式の場合には単位時間あたりの供給量である。
前記原料の供給バランスが崩れた場合は、クロロピロスルホニルイソシアナートや、2,6−ジクロロ−1,4,3,5−オキサチアジアジン−4,4−ジオキシド等の副生成物の生成量が多くなり、収率低下や反応完結の時間が長引く等の弊害が起こる。
前記原料の供給温度および反応温度は、溶媒であるクロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液の還流温度である。還流温度は通常50℃〜110℃である。クロロピロスルホニルイソシアナートや2,6−ジクロロ−1,4,3,5−オキサチアジアジン−4,4−ジオキシド等の副生成物を短時間で分解させることを考えると、還流温度は100〜110℃であることが好ましい。この範囲でクロロスルホニルイソシアナートを反応溶媒として使用する場合には冷却設備が不要であり、クロロピロスルホイソシアナートを含む副生成物の熱分解処理を同時に行うことができる。
本発明における原料供給時間は、凝縮器の能力範囲内であれば特に限定されない。回分式の場合は、通常0.25〜2.5時間である。連続式の場合は、設備の処理能力に応じた原料供給量で反応させればよい。
本発明の製造方法においては、副生成物の分解を完全に行い、収率よく目的とするクロロスルホニルイソシアナートを製造するために十分な反応時間を設けるのが好ましい。反応時間は、原料の消費および副生成物の分解が十分であればよく、通常は0.5〜15時間、好ましくは5〜10時間である。
(4)後処理操作
反応終了後、反応液を精製して、目的とするクロロスルホニルイソシアナートを単離することができる。反応液の精製は、通常、反応完結後の反応液を常圧下あるいは減圧下において、通常の蒸留塔を用いて蒸留することにより行うことができる。蒸留の条件、例えば、圧力、温度、段数、回数等は特に限定されない。なお、連続式の場合には、前記反応完結槽から連続的に反応液を取り出し、連続的に蒸留することにより、目的とするクロロスルホニルイソシアナートを単離することができる。
以下、実施例および比較例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(比較例)
凝縮器を取り付けた容量100mlの四つ口フラスコにクロロスルホニルイソシアナート14.3g(0.1モル)を量り取り、攪拌しながら還流温度まで昇温した。この液中に、還流下、三酸化硫黄40.2g(0.5モル)およびクロロシアン30.8g(0.5モル)を60分間かけて同時に滴下した。その際、クロロシアンは液状のものを一度気化させて流量計を通し、別の凝縮器で再び液化して反応系に滴下したが、クロロシアンの流量は一定しなかった。その後さらに反応液の還流温度(95℃→109℃へ徐々に上昇)において9時間攪拌した。この時点におけるクロロスルホニルイソシアナート収率は67%(使用した三酸化硫黄基準。反応溶媒および原料希釈用として用いたクロロスルホニルイソシアナートは差し引いている。)であった。
Claims (2)
- 三酸化硫黄とクロロシアンとを反応させてクロロスルホニルイソシアナートを製造する方法において、反応溶媒としてクロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液を用い、還流下、クロロスルホニルイソシアナートまたはその含有液で、それぞれ希釈した三酸化硫黄およびクロロシアンを反応系に略等モルずつ同時供給することを特徴とするクロロスルホニルイソシアナートの製造方法。
- 還流温度が50℃〜110℃である請求項1記載のクロロスルホニルイソシアナートの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003417611 | 2003-12-16 | ||
JP2003417611 | 2003-12-16 | ||
PCT/JP2004/019132 WO2005058806A1 (ja) | 2003-12-16 | 2004-12-15 | クロロスルホニルイソシアナートの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005058806A1 JPWO2005058806A1 (ja) | 2007-07-12 |
JP4322871B2 true JP4322871B2 (ja) | 2009-09-02 |
Family
ID=34697069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005516384A Expired - Fee Related JP4322871B2 (ja) | 2003-12-16 | 2004-12-15 | クロロスルホニルイソシアナートの製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7468174B2 (ja) |
EP (1) | EP1695958B1 (ja) |
JP (1) | JP4322871B2 (ja) |
KR (1) | KR100783343B1 (ja) |
CN (1) | CN100386311C (ja) |
AT (1) | ATE387424T1 (ja) |
DE (1) | DE602004012151T2 (ja) |
WO (1) | WO2005058806A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5037055B2 (ja) * | 2006-07-31 | 2012-09-26 | 日本曹達株式会社 | クロロスルホニルイソシアネートの分解処理方法 |
CN101891657B (zh) * | 2010-07-15 | 2011-08-31 | 营口三征新科技化工有限公司 | 氯磺酰异氰酸酯的制造方法 |
JPWO2014024682A1 (ja) | 2012-08-06 | 2016-07-25 | 日本曹達株式会社 | ビス(ハロスルホニル)アミンの製造方法 |
JP6999114B2 (ja) * | 2016-02-19 | 2022-02-10 | 日立造船株式会社 | ゼオライト分離膜およびその製造方法 |
CN109400506B (zh) * | 2018-11-14 | 2021-04-13 | 四平市精细化学品有限公司 | 一种高纯氯磺酰异氰酸酯的合成方法 |
CN112174860B (zh) * | 2020-10-09 | 2023-10-13 | 天津昊然分离科技有限公司 | 一种连续反应精馏制备氯磺酰异氰酸酯的工艺方法 |
CN112321462B (zh) * | 2020-11-02 | 2023-02-24 | 四平市精细化学品有限公司 | 一种连续法合成氯磺酰异氰酸酯的方法 |
CN115140715B (zh) * | 2022-06-27 | 2023-10-31 | 多氟多新材料股份有限公司 | 一种双氟磺酰亚胺碱金属盐的制备方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE928896C (de) | 1952-03-24 | 1955-06-13 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung Stickstoff enthaltender chlorierter Schwefelverbindungen |
JPS6355404A (ja) * | 1986-08-26 | 1988-03-09 | Inoue Japax Res Inc | 歪計用抵抗体 |
JPH072709B2 (ja) | 1986-09-19 | 1995-01-18 | 株式会社クラレ | クロロスルホニルイソシアネ−トの製造方法 |
DE3719303A1 (de) | 1987-06-10 | 1988-12-29 | Hoechst Ag | Verfahren und anlage zur kontinuierlichen herstellung von chlorsulfonylisocyanat |
JPH01228955A (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd | クロロスルホニルイソシアネートの製造法 |
US5118487A (en) * | 1990-09-11 | 1992-06-02 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing chlorosulfonyl isocyanate |
CH680292A5 (en) | 1990-10-04 | 1992-07-31 | Lonza Ag | Chlorosulphonyl isocyanate continuous prodn. - comprises reacting cyanogen chloride and sulphur tri:oxide in liq. prod. using heat of reaction for distn. |
JP3161723B2 (ja) | 1990-10-29 | 2001-04-25 | 株式会社クラレ | クロロスルホニルイソシアナートの製造方法 |
JPH04261063A (ja) * | 1991-01-25 | 1992-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
JP2000053630A (ja) * | 1998-05-14 | 2000-02-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | クロロスルホニルイソシアネ―トの製造方法 |
JP2003040854A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Kuraray Co Ltd | クロロスルホニルイソシアナートの製造方法 |
JP4004867B2 (ja) | 2002-06-20 | 2007-11-07 | 日本曹達株式会社 | クロロスルホニルイソシアネートの製造方法 |
-
2004
- 2004-12-15 WO PCT/JP2004/019132 patent/WO2005058806A1/ja active IP Right Grant
- 2004-12-15 JP JP2005516384A patent/JP4322871B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-15 EP EP04807489A patent/EP1695958B1/en active Active
- 2004-12-15 CN CNB2004800373548A patent/CN100386311C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-15 KR KR1020067011648A patent/KR100783343B1/ko active IP Right Grant
- 2004-12-15 US US10/583,194 patent/US7468174B2/en active Active
- 2004-12-15 AT AT04807489T patent/ATE387424T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-12-15 DE DE602004012151T patent/DE602004012151T2/de active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20060101532A (ko) | 2006-09-25 |
US20070286789A1 (en) | 2007-12-13 |
EP1695958A4 (en) | 2007-01-10 |
CN1894205A (zh) | 2007-01-10 |
US7468174B2 (en) | 2008-12-23 |
WO2005058806A1 (ja) | 2005-06-30 |
DE602004012151D1 (de) | 2008-04-10 |
EP1695958B1 (en) | 2008-02-27 |
DE602004012151T2 (de) | 2009-03-26 |
JPWO2005058806A1 (ja) | 2007-07-12 |
EP1695958A1 (en) | 2006-08-30 |
KR100783343B1 (ko) | 2007-12-07 |
CN100386311C (zh) | 2008-05-07 |
ATE387424T1 (de) | 2008-03-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090512 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090603 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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