JP4319356B2 - フッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼及びそれを用いた装置 - Google Patents
フッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼及びそれを用いた装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4319356B2 JP4319356B2 JP2000586977A JP2000586977A JP4319356B2 JP 4319356 B2 JP4319356 B2 JP 4319356B2 JP 2000586977 A JP2000586977 A JP 2000586977A JP 2000586977 A JP2000586977 A JP 2000586977A JP 4319356 B2 JP4319356 B2 JP 4319356B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stainless steel
- gas
- film
- fluorinated
- passive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/80—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Description
本発明は、フッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼及びそれを用いた装置に係る。
背景技術
半導体製造プロセスでは多種多様な特殊ガスが使用されており、その大部分はそれ自身腐食性を示したり、あるいは雰囲気中の水分と反応し腐食性を示す物質を形成する。通常これらの特殊ガスを取り扱う容器、ガス配管、ガス供給に不可欠なバルブ等は、ステンレス鋼で構成されており、上記特殊ガスにより容易に腐食される欠点を有している。
また、半導体デバイスは年々集積度が向上されており、単位素子の寸法も集積度の向上に伴って年々小さくなってきている。単位素子の寸法が小さくなってくると、半導体製造過程においてシリコン基板に作り込む寸法が極端に小さくなり、従来使用していたg線やi線を用いた露光装置では、要求される寸法が描けなくなってきている。
そこで、現在注目を集めているのがエキシマレーザー露光装置である。エキシマレーザー露光装置のレーザーチャンバには、希釈フッ素ガスが充填されている。
図5にレーザチャンバの概略図を示す。
図5が示すように、レーザーチャンバー1は、2つのステンレス製のハウジング部材13,14からなり、ハウジング部材13,14は、O−リング15によりシールされている。ハウジング部材13には、絶縁体16、カソード電極支持部材17を介してカソード電極18が固定されている。アノード電極19はアノード電極支持部材20を介し、ハウジング部材13に固定されている。21はカソード電極18とパルス発振器(図示せず)との接続用のコネクターである。また、22はO−リング等のシール部材である。
レーザーチャンバー1の内部には,ガスを循環するためのブロワー、熱交換器その他の装置(図示せず)が配設されている。
27はフッ素ガス供給ライン用のガス配管でありステンレス鋼からなる。
しかし、従来のかかる装置においては、主にステンレス鋼で構成される希釈フッ素ガス供給ライン用の配管27の内面、ハウジング13,14の内面、あるいはチャンバー1内部に設置されている装置の外面がフッ素ガスと反応し、フッ素ガスが消費されてしまう。その結果、希釈フッ素ガスを安定に供給することが困難である。そこで、現状では、希釈フッ素ガス供給ライン用のガス配管27を組立後、希釈フッ素ガスを供給ラインに封入し供給ライン内面とフッ素を事前に反応させ使用していた。
しかしながら、事前に反応させる期間中は半導体製造ラインを稼働させることができない。また、事前に反応させた供給ラインであっても、使用中にさらにフッ素と供給ライン内面との反応が進み、濃度等が安定した希釈フッ素ガスを使用することが困難な状況にある。
この課題を解決するために、本発明者等は従来から金属表面の腐食性、反応性に関して研究を重ねた結果、ステンレス鋼表面に積極的にフッ素化に十分な温度でフッ素を作用させ、金属フッ化物を主成分とする皮膜を形成した後、この皮膜を不活性ガス雰囲気中で熱処理することにより腐食性ガス、とりわけフッ素ガスに対して良好な耐食性を有するフッ化不動態膜を形成しうることを見いだし、これに基づく発明を既に出願した(特開平2−263972号公報、特開平3−215656号公報、特開平5−33115号公報)。
本発明者等はこの新技術について引き続き研究を行った所、次の様な事実を見いだした。
即ち、上記出願のフッ化不動態皮膜の膜厚はいずれも500Å以上の膜厚を有している。このように、フッ化不動態膜の膜厚が厚いと、第1にガス配管等を溶接施工する際に、金属析出物が発生し、発生した金属析出物が配管内に滞留しパーティクルとなってしまうということである。第2に、継ぎ手シール面及びバルブシート面に膜厚の厚いフッ化不動態膜が形成されているとリークが発生し使用できないということである。
対応策としては、溶接前に溶接箇所のフッ化不動態皮膜を除去してから溶接したり、継ぎ手シール面やバルブシール面だけをマスキングしフッ化不動態処理を施すことが考えられる。
しかし、どちらも生産性に欠け、実用上困難な状況であった。とりわけ配管施工においては、溶接箇所が数百カ所にもなるため施工に要する期間が膨大なものとなってしまう。
本発明は、施工が容易でかつ溶接を行ったとしてもパーティクルの発生が無いフッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼及びそれを用いた装置を提供することを目的とする。
本発明は、継手シール面やバルブシート面にフッ化不動態皮膜を作製してもリークが発生しないフッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼及びそれを用いた装置を提供することを目的とする。
発明の開示
本発明のフッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼は、表面の少なくとも一部に、金属フッ化物を主成分とするフッ化不動態膜が190Å以下の厚さで形成されていることを特徴とする。
ここで、ステンレス鋼としては、オーステナイト系ステンレス鋼、フェライト系ステンレス鋼その他の系のステンレス鋼を用いることができる。特にSUS316あるいはSUS316Lが好適に用いられる。
本発明では、フッ化不動態膜が形成されているが、この不動態膜の厚さを190Å以下とする。190Åを臨界値として溶接時のパーティクルの発生は激減し、また、シール性が急激に向上する。
なお、下限としては、5Åが好ましい。これ未満では、皮膜として存在し難くなるからである。
フッ化不動態膜の形成は、例えば次ぎのように行うことが好ましい。
ステンレス鋼の表面を電解研磨等により鏡面仕上げした後、高純度の不活性ガス(たとえば窒素、アルゴン、ヘリウム等)中でベーキングを行い、ステンレス鋼表面の水分を除去する。不活性ガスとしては、水分等の不純物濃度が50ppb以下とすることが好ましく、20ppb以下とすることがより好ましく、15ppb以下とすることがさらに好ましい。
次ぎに、ステンレス鋼表面の少なくとも一部または全面に金属フッ化物からなる皮膜を形成する(フッ素化)。
フッ素化時のガスは、100%フッ素ガスあるいはフッ素ガスを不活性ガスで希釈したガスを用いる。なお、フッ素化時のガスは水分等の不純物濃度が50ppb以下のガスを用いることが好ましく、20ppb以下のガスを用いることがより好ましく、15ppb以下のガスを用いることがさらに好ましい。
フッ素化の温度は、50℃以上が好ましく、100〜200℃がより好ましく、120〜170℃が最も好ましい。フッ素化の時間は、10分以上が好ましく30分〜5時間がより好ましい。
フッ化不動態膜の膜厚の制御は、フッ素化時の温度、時間、不活性ガス中のフッ素濃度を適宜変化させればよい。
例えば、窒素ガスで希釈した1%フッ素ガスを用いて、150℃で3時間フッ素化を行えば約190のフッ化不動態膜が形成される。
フッ素化の後の熱処理は、50℃以上が好ましく、100〜400℃がより好ましい。処理時間は10分以上が好ましく、30分〜15時間がより好ましい。
発明を実施するための最良の形態
本発明の技術的内容をより明確にするため、代表的な例を抽出して以下に実施例として例示するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
内面を電解研磨により鏡面化した1/4インチ径のSUS316Lステンレス鋼管に表1に示す条件でフッ化不動態処理を施した。フッ化不動態処理は以下の手順で行っている。
▲1▼上記SUS316Lステンレス管を窒素気流中で表1に示す所定温度まで加熱した。
▲2▼温度を保持したまま窒素ガスをフッ素ガスに切り替えフッ素とステンレス管表面とを表1に示す所定時間反応させた。
▲3▼フッ素とステンレス管表面とを表1に示す所定温度で所定時間反応させた後、フッ素ガスを窒素ガスに切り替え表1に示す所定温度で所定時間、後熱処理を行った。
フッ化不動態膜は、水和物を含有せず略化学量論比を満たす組成であった。
尚、表1に示したフッ化処理条件は一例であり温度時間が変わっても所定の膜厚が得られれば良い。
表1に示したサンプル1、2たるステンレス製のガス配管101(図1)をそれぞれ10本ずつ作成した。10本のガス配管101を用いて、溶接回転速度30rpmで各々9ケ所突き合わせ溶接を行った。溶接後、一端はパーティクル測定器103に接続し、他端をガス導入口104とし、ガス導入口104からアルゴンガスを導入した。アルゴンガスを導入することによりガス配管101内からでてくるパーティクル数を、PARTICLE MESUREMENT SYSTEMS INC社のHIGHPRESSURE GAS PROBE 103を用いて測定した。なお、アルゴンガスの導入ガス流量は0.1cf/minとし、測定粒径は0.1μm以上とした。
測定結果を表2に示す。
表2に示すように、サンプル1(フッ化不動態膜の膜厚が190Åのステンレス管)からはパーティクルが発生しなかった。サンプル2(フッ化不動態膜の膜厚が1000Åのステンレス管)からは、多量のパーティクルが発生しており、薄いフッ化不動態皮膜の優位性が確認された。
(実施例2)
フッ素化の温度と時間を変化させることによりフッ化膜の膜厚を50Åから1000Åまで変化させ実施例1と同様のテストを行った。
その結果を図2に示す。
図2に示すように、フッ化不動態膜の膜厚が190Åを境にして、190Å以下の場合パーティクルの発生がないが190Åよりも厚い場合はパーティクルが発生することが明らかとなった。
(実施例3)
実施例1と同様なフッ化不動態膜の形成条件で、ステンレス鋼からなる継ぎ手のシール表面にフッ化不動態膜を形成した。
図3に示すように、継ぎ手201,204をガスケット203を介して当接し、ナット202及びオスナット205を用いて締め付けを行った。ガスケット203の一端にリーク検出器206を接続し、面シール部分からのリークの測定を行った。
その結果を表3に示す。
表3に示すように、フッ化不動態膜の厚さが190Å以下の継ぎ手では、リークは検出下限以下であった。一方、膜厚が1000Å程度の継ぎ手ではリークが発生した。
膜厚が1000Å程度のフッ化不動態膜を継ぎ手に施し使用するには、継ぎ手シール部分にフッ化不動態膜が形成されないように、たとえばシール部分にマスキングし、フッ化処理を施した後マスキングを除去して使用しなければならなかったが、薄いフッ化不動態膜では継ぎ手シール部分にフッ化不動態膜が形成していても、リークが無く継ぎ手として十分な性能を発揮するので、フッ化処理過程でシール部分にマスキングする必要がなく、薄いフッ化不動態膜の優位性が確認された。
(実施例4)
実施例1と同様な条件で、図6に示すシートバルブの本体401にフッ化不動態処理を施した。
ダイヤフラム400をバルブ本体401内に組み込みバルブを作成し、そのバルブにつきリークテストを行い、シート部からのリークの測定を行った。リーク測定にはヘリウムリークディテクターを用いた。
測定結果を表4に示す。
表4に示すように、フッ化不動態皮膜の厚さが190Å以下のバルブでは、リークは検出下限以下であったが、膜厚が1000Å程度のバルブではリークが発生した。
膜厚1000Å程度のフッ化不動態膜をバルブに施し使用するには、バルブシート部分にフッ化不動態膜が形成されないように、たとえばシート部分にマスキングし、フッ化処理を施した後マスキングを除去して使用しなければならなかったが、薄いフッ化不動態膜ではバルブシート部分にフッ化不動態膜が形成していても、リークが無くバルブとして十分な性能を発揮するので、フッ化処理過程でシール部分にマスキングする必要がなく、薄いフッ化不動態膜の優位性が確認された。
(実施例5)
薄いフッ化不動態膜の性能を評価するため、ステンレス製のフィルタを用いてフッ素ガスとの反応性を調査した。
本例では 図7に示すようなフィルターを用いた。すなわち、ハウジング502とハウジング502内に溶接により固着したフィルターメンブレム501とからなるフィルター500である。
フィルターメンブレム501の全面とハウジング502との内面に膜厚190Åのフッ化不動態膜を実施例1と同様の条件で形成した。
一方、フィルターメンブレム501とハウジング502ともフッ化不動態膜を内面に形成していないフィルタを用意し、図4に示すシステムを構築し、フィルタ303内部に1%フッ素/99%ネオン混合ガスを封入した後、一定時間放置しフィルタ303内部の圧力を圧力計302により測定した。
表5に示すように、膜厚190Å以下のフッ化不動態膜を内部に形成したフィルタではテスト前後で圧力変化が認められずフッ素ガスとの反応がない。一方、フッ化不動態処理を施していないフィルタ内部の圧力はテスト後減少しており、フィルタ内面と封入したフッ素ガスの約80%が反応していることが判明した。本結果から明らかなように薄いフッ化不動態膜であっても、フッ素ガスに対する良好な耐食性能をもっており、ガス供給系に本フッ化不動態処理を施せばフッ素ガスの濃度変化等をおこすことなく安定に供給することができる。
産業上の利用可能性
本発明によれば、フッ素系ガスのガス供給ラインに薄いフッ化不動態膜を施せば、容易に配管施工を行えると共に、安定にガスを供給することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
図1は、フッ化不動態処理を施した配管を溶接した後配管内からでてくるパーティクルを測定する実験系を示した図面である。
図2は、フッ化不動態膜の膜厚と溶接時のパーティクル発生との関係を示すグラフである。
図3は、フッ化不動態処理を施した継ぎ手シール面からのリーク測定を行う実験系を示した図面である。
図4は、フィルタ内部に封入したフッ素ガスの圧力変化を測定する実験系を示した図面である。
図5は、エキシマレーザのチャンバの断面図である。
図6は、シートバルブの断面図である。
図7は、フィルターの断面図である。
(符号の説明)
101 1/4インチステンレス配管、102 溶接箇所、
103 パーティクル測定装置、104 ガス導入口、
201 フッ化不動態処理を施した継ぎ手、202 ナット、
203 ガスケット、204 フッ化不動態処理を施した継ぎ手、
205 オスナット、206 ヘリウムリーク検出器、
207 ヘリウムガス吹き付け箇所、301 フッ素ガス導入口、
302 圧力計、303 ステンレス製フィルター、
304 1/4インチステンレス配管、305 バルブ、
306 真空排気口、307 排気口、400 バルブ本体、
401 ダイヤフラム、500 フィルター、
501 フィルターメンブレム、502 ハウジング。
Claims (7)
- 表面の少なくとも一部に、金属フッ化物を主成分とするフッ化不動態膜が190Å以下の厚さで形成されていることを特徴とするフッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼。
- 前記フッ化不動態膜が、フッ素含有ガス雰囲気中で加熱することにより金属フッ化膜を形成した後、不活性ガス雰囲気中で熱処理して得られた膜であることを特徴とする請求項1に記載のステンレス鋼。
- 前記フッ化不動態膜の少なくとも表面部分がフッ化鉄を主成分とする層から成ることを特徴とする請求項1または2に記載のステンレス鋼。
- 前記フッ化鉄は略化学量論比を満たすフッ化鉄であることを特徴とする請求項3記載のステンレス鋼。
- 請求項1ないし4のいずれか1項に記載のステンレス鋼の表面をガスを外部から遮断するためのシール面としていることを特徴とする装置。
- 前記装置は、ガス貯蔵用装置、ガス配送用装置又はガス反応装置であることを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 前記装置はエキシマレーザー発信器であることを特徴とする請求項5に記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP1998/005491 WO2000034546A1 (fr) | 1998-12-04 | 1998-12-04 | Acier inoxydable revetu d'un film au fluorure passif et equipement produit au moyen de cet acier |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4319356B2 true JP4319356B2 (ja) | 2009-08-26 |
Family
ID=14209549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000586977A Expired - Fee Related JP4319356B2 (ja) | 1998-12-04 | 1998-12-04 | フッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼及びそれを用いた装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6699603B1 (ja) |
EP (1) | EP1146135B1 (ja) |
JP (1) | JP4319356B2 (ja) |
KR (1) | KR100620857B1 (ja) |
DE (1) | DE69841643D1 (ja) |
TW (1) | TW476805B (ja) |
WO (1) | WO2000034546A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100499793B1 (ko) * | 2004-09-16 | 2005-07-07 | 주식회사 부광 | 무전해 도금처리 방법 |
JP4912163B2 (ja) * | 2007-01-12 | 2012-04-11 | ステラケミファ株式会社 | フッ化不動態膜を形成した炭素鋼又は特殊鋼及びその形成方法 |
JP4358892B1 (ja) * | 2008-10-16 | 2009-11-04 | エア・ウォーター株式会社 | フッ化処理方法およびフッ化処理装置ならびにフッ化処理装置の使用方法 |
CN102713004B (zh) * | 2010-01-20 | 2015-03-25 | 杰富意钢铁株式会社 | 接触电阻低的通电部件用不锈钢及其制造方法 |
KR102322973B1 (ko) * | 2016-04-05 | 2021-11-08 | 칸토 덴카 코교 가부시키가이샤 | 재료, 이 재료를 이용한 보존 용기, 이 보존 용기에 부착되는 밸브, 및 ClF의 보존 방법, ClF 보존 용기의 사용 방법 |
JP7116328B2 (ja) | 2017-08-01 | 2022-08-10 | セントラル硝子株式会社 | 充填済み容器の製造方法、及び、充填済み容器 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5009963A (en) * | 1988-07-20 | 1991-04-23 | Tadahiro Ohmi | Metal material with film passivated by fluorination and apparatus composed of the metal material |
JPH02175855A (ja) | 1988-07-20 | 1990-07-09 | Hashimoto Kasei Kogyo Kk | フッ化不働態膜が形成された金属材料並びにその金属材料を用いた装置 |
JPH02298024A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-10 | Tadahiro Omi | リアクティブイオンエッチング装置 |
JP3030351B2 (ja) | 1990-01-19 | 2000-04-10 | ステラケミファ株式会社 | フッ化不働態膜が形成されたステンレス鋼、その製造方法並びにそのステンレスを用いた装置 |
JP3581900B2 (ja) * | 1994-10-28 | 2004-10-27 | 三菱アルミニウム株式会社 | フロロカーボン膜が形成された金属材料、その製造方法並びにその材料を用いた装置 |
DE69717182T2 (de) * | 1996-03-07 | 2003-07-24 | Tadahiro Ohmi | Excimerlasergenerator |
JP4125406B2 (ja) * | 1997-08-08 | 2008-07-30 | 忠弘 大見 | フッ化不働態処理が施された溶接部材の溶接方法および再フッ化不働態処理方法ならびに溶接部品 |
JP3215656B2 (ja) | 1997-09-01 | 2001-10-09 | 栖二 元島 | コイル状炭素繊維の製造方法及びその製造装置 |
-
1998
- 1998-12-04 JP JP2000586977A patent/JP4319356B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-04 DE DE69841643T patent/DE69841643D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-04 WO PCT/JP1998/005491 patent/WO2000034546A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1998-12-04 KR KR1020017006850A patent/KR100620857B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-12-04 US US09/857,117 patent/US6699603B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-04 EP EP98957181A patent/EP1146135B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-17 TW TW087121101A patent/TW476805B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW476805B (en) | 2002-02-21 |
EP1146135A1 (en) | 2001-10-17 |
KR100620857B1 (ko) | 2006-09-13 |
EP1146135B1 (en) | 2010-04-28 |
DE69841643D1 (de) | 2010-06-10 |
KR20010107997A (ko) | 2001-12-07 |
EP1146135A4 (en) | 2006-10-18 |
US6699603B1 (en) | 2004-03-02 |
WO2000034546A1 (fr) | 2000-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2768952B2 (ja) | 金属酸化処理装置及び金属酸化処理方法 | |
KR950000905B1 (ko) | 스텐레스 강의 표면 부동화 처리방법 | |
JP3181053B2 (ja) | ステンレス鋼の不動態膜形成方法並びにステンレス鋼及び接流体部品 | |
SG184948A1 (en) | A coating method for gas delivery system | |
AU648165B2 (en) | Stainless steel surface passivation treatment | |
JPH06212394A (ja) | 封入酸素を用いた炭素鋼の不動化 | |
JP2976301B2 (ja) | ステンレス鋼及びその製造方法並びに減圧装置 | |
JP4319356B2 (ja) | フッ化不動態膜が形成されたステンレス鋼及びそれを用いた装置 | |
US5224998A (en) | Apparatus for oxidation treatment of metal | |
US5407492A (en) | Process for forming passivated film | |
JP2976333B2 (ja) | ステンレス鋼及びその製造方法並びに減圧装置 | |
WO1995018240A1 (fr) | Acier austenitique inoxydable, systeme de tuyauterie et pieces en contact avec les fluides | |
JP2918385B2 (ja) | ステンレス鋼部材の表面処理方法 | |
JP2867376B2 (ja) | フッ化不動態膜が形成された金属材料、その金属材料を用いたガス装置、並びに該フッ化不動態膜の形成方法 | |
JP3250002B2 (ja) | オゾン使用装置へのオゾン供給系路及びその不動態化処理方法 | |
JP3030351B2 (ja) | フッ化不働態膜が形成されたステンレス鋼、その製造方法並びにそのステンレスを用いた装置 | |
WO2021154599A1 (en) | Biopharmaceutical manufacturing process and product | |
US6962283B2 (en) | Welding method for fluorine-passivated member for welding, fluorine-passivated method after being weld, and welded parts priority data | |
JPH10298734A (ja) | ステンレス鋼及びその製造方法並びに減圧装置 | |
JP3084306B2 (ja) | フッ化不動態膜の形成方法 | |
Izumi et al. | Studies of moisture adsorption on various kinds of solid surfaces using anhydrous hydrogen fluoride | |
WO1994029492A1 (fr) | Element ou partie d'un systeme d'alimentation en gaz ultra-haute purete | |
JP2001226760A (ja) | 酸化クロムを主成分とする酸化不動態膜の形成方法およびステンレス鋼 | |
WO1992014858A1 (fr) | Procede d'elaboration de film passive | |
CA2100751A1 (en) | Process for forming passivated film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20081015 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090121 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090302 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090327 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090513 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090528 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120605 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120605 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130605 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |