JP4307302B2 - Cover tape and carrier tape system - Google Patents
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Description
本発明は、基板に実装されるまでチップ型電子部品等を搬送するのに用いられるキャリアテープシステム及びその蓋材として用いるカバーテープに関する。 The present invention relates to a carrier tape system used for transporting chip-type electronic components and the like until they are mounted on a substrate, and a cover tape used as a cover material for the carrier tape system.
IC等のチップ型電子部品を搬送するのに、一般的にキャリアテープが用いられている。即ちエンボステープに一定間隔で形成された電子部品収納様の凹部に、前記のチップ型電子部品を挿入して、該エンボステープの上面に、基材上に易剥離性の接着層を有するカバーテープをヒートシールして該電子部品を封入した後、リール状に巻き取られて搬送する。このようにして搬送されたキャリアテープは、基板への実装工程に運ばれ、カバーテープを剥離して内容物であるチップ型電子部品が取り出され、該電子部品が基板に実装される。このカバーテープの剥離がスムースに行われないと、この剥離の際に内容物である電子部品が飛び散ってしまうようなトラブルを生じるので、該カバーテープの剥離の際に適正範囲の剥離強度が大きく変動しないようにする試みが提案されている(例えば、特許文献1及び2)。 In general, a carrier tape is used to convey a chip-type electronic component such as an IC. That is, a cover tape having an easily peelable adhesive layer on a base material on the top surface of the embossed tape by inserting the chip-type electronic component into a recess for storing an electronic component formed at regular intervals on the embossed tape. After heat sealing and encapsulating the electronic component, it is wound into a reel and transported. The carrier tape thus transported is carried to the mounting process on the substrate, the cover tape is peeled off, the chip-type electronic component as the contents is taken out, and the electronic component is mounted on the substrate. If the cover tape is not peeled smoothly, troubles may occur in which the electronic components that are the contents are scattered at the time of peeling. Therefore, the peel strength of the appropriate range is large when peeling the cover tape. Attempts to prevent fluctuations have been proposed (for example, Patent Documents 1 and 2).
該電子部品をキャリアテープに詰める工程での工程管理やそのキャリアテープ詰められた部品を使用する際等の受入検査については、カバーテープを300mm/minの速度にて剥がし管理することがJIS C−0806に記載されている。しかし、この電子部品の実装速度は年々高速化してきており、それに伴いカバーテープを剥がす速度も高速化してきていて、実際には高速実装の観点からカバーテープの剥離速度は3000mm/min〜12000mm/minにも及ぶと言われており、それに伴って剥離の際に内容物が飛び出したり、カバーテープが切れるなどのトラブルが増加してきている。これは300mm/minで測定された剥離強度が高速実装時にはその数倍の強度となってカバーテープに加わるためである。
本発明は、剥離強度が剥離速度の影響を受けにくく、従来の剥離強度管理方法においても高速実装時の剥離強度が異常に高まらないカバーテープ及びそのカバーテープを用いたキャリアテープシステムを提供するものである。 The present invention provides a cover tape and a carrier tape system using the cover tape in which the peel strength is not easily affected by the peel speed, and the peel strength at the time of high-speed mounting is not increased abnormally even in the conventional peel strength management method. It is.
即ち本発明は、少なくとも基材層と易剥離性のヒートシール層を有し、下記の要件を具備するカバーテープである。
(1)カバーテープの総厚が40〜75μm。
(2)基材層の厚さが10〜60μmであり、その引張弾性率が600〜40000MPaである。
(3)ヒートシール層が、ポリスチレン系樹脂(a)及びポリエチレン系樹脂(b)を主成分とし且つ脂肪酸アミドを含有し、その厚さが2〜30μmであり、その引張弾性率が10〜500MPaである。
本発明の基材層としては、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂及びポリカーボネート樹脂の1種又は2種以上の樹脂成分からなることが好ましい。一方で本発明は、エンボステープと前記カバーテープで構成され、該エンボステープがポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂の1種又は2種以上の樹脂成分からなるチップ型電子部品包装用キャリアテープシステムである。更に本発明は、ヒートシールされたエンボステープとカバーテープを、剥離速度300mm/分で剥離したときの平均剥離強度(P3)が0.3〜0.5Nであり、剥離速度4500mm/分で剥離したときの平均剥離強度(P45)が0.7〜0.9Nであり、且つP45とP3の差が0.4N以下である請求項3に記載のチップ型電子部品包装用キャリアテープシステムである。
That is, the present invention is a cover tape having at least a base material layer and an easily peelable heat seal layer and having the following requirements.
(1) The total thickness of the cover tape is 40 to 75 μm.
(2) The base material layer has a thickness of 10 to 60 μm and a tensile modulus of 600 to 40000 MPa.
(3) The heat seal layer is mainly composed of a polystyrene resin (a) and a polyethylene resin (b), contains a fatty acid amide, has a thickness of 2 to 30 μm, and has a tensile modulus of 10 to 500 MPa. It is.
As a base material layer of this invention, it is preferable to consist of 1 type, or 2 or more types of resin components of a polyester resin, a nylon resin, a polypropylene resin, a polystyrene-type resin, a polyethylene-type resin, and a polycarbonate resin. On the other hand, the present invention comprises an embossed tape and the cover tape, and the embossed tape comprises a chip type electronic component packaging carrier tape system comprising one or more resin components of polystyrene resin, polycarbonate resin and polyester resin. It is. Further, in the present invention, the average peel strength (P 3 ) when the heat-sealed embossed tape and the cover tape are peeled at a peeling speed of 300 mm / min is 0.3 to 0.5 N, and the peeling speed is 4500 mm / min. peeling average peel strength when the (P 45) is 0.7~0.9N, and chip-type electronic component packaging carrier according to claim 3 difference P 45 and P 3 is equal to or less than 0.4N It is a tape system.
本発明のカバーテープは、キャリアテープから剥離する際の剥離強度が、剥離速度の影響を受けにくく、従来の剥離強度管理方法においても高速実装時の剥離強度が異常に高まらないカバーテープであり、IC等のチップ型電子部品の実装時の剥離の際に、このカバーテープを用いたキャリアテープシステムにより、内容物が飛び出したりカバーテープが切れるなどのトラブルを防止することができる。 The cover tape of the present invention is a cover tape in which the peel strength when peeling from the carrier tape is not easily affected by the peel speed, and the peel strength at the time of high-speed mounting is not abnormally increased even in the conventional peel strength management method, When the chip-type electronic component such as an IC is peeled off during mounting, the carrier tape system using the cover tape can prevent troubles such as the contents popping out or the cover tape being cut off.
以下、本発明を詳細に説明する。本発明のカバーテープは、基材層と易剥離性のヒートシール層を必ず有している。ここで「有している」とは基材層/ヒートシール層の2層構造であってもよいし、異なる材料を積層した2層以上からなる基材層/ヒートシール層のような多層構造であってもよいことを意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. The cover tape of the present invention necessarily has a base material layer and an easily peelable heat seal layer. Here, “having” may be a two-layer structure of base material layer / heat seal layer, or a multilayer structure such as a base material layer / heat seal layer composed of two or more layers in which different materials are laminated. Means it may be.
基材層が単層の場合、基材層はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂及びポリカーボネート樹脂の何れか1種、又は2種以上の熱可塑性樹脂より製膜されたフィルムで、これらの樹脂の二軸延伸フィルムを好適に用いることができる。更に透明性や強靱性の点で二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。 When the base material layer is a single layer, the base material layer is any of polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefin resins such as polypropylene, polyamide resins such as nylon, polystyrene resins, polyethylene resins and polycarbonate resins. A film formed from one or two or more thermoplastic resins, and biaxially stretched films of these resins can be suitably used. Furthermore, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is more preferable in terms of transparency and toughness.
本発明においてポリスチレン系樹脂とは、ポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン、スチレン−ブタジエン共重合体またはこれの水添物、スチレン−イソプレン共重合体またはこれの水添物、スチレンとエチレンのグラフト共重合体、スチレン−ブテン−ブタジエン共重合体、メタクリル酸とスチレンの共重合体等、分子鎖中にスチレンユニットをモル比で1/2以上有する重合体であり、基材層としてこれら1種もしくは2種以上の混合物を用いることができる。 In the present invention, polystyrene resin means polystyrene, high impact polystyrene, styrene-butadiene copolymer or hydrogenated product thereof, styrene-isoprene copolymer or hydrogenated product thereof, graft copolymer of styrene and ethylene, Styrene-butene-butadiene copolymer, methacrylic acid and styrene copolymer, etc. are polymers having a styrene unit in the molecular chain in a molar ratio of 1/2 or more. Can be used.
又ポリエチレン系樹脂とは、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、エチレン−αオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−プロピレンラバー等、エチレンユニットを分子鎖中にモル比で1/2以上有するものであり、これらの1種もしくは2種以上の混合物を用いることができる。 Polyethylene resins are low density polyethylene, linear low density polyethylene, ultra low density polyethylene, ethylene-α olefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer. A polymer, an ethylene-ethyl acrylate copolymer, an ethylene-propylene rubber or the like having an ethylene unit in a molecular chain in a molar ratio of 1/2 or more, and using one or a mixture of two or more thereof Can do.
本発明においては基材層の弾性率を適切に設定することが重要である。即ち基材層フィルムは、JIS K−7127に準拠する引張弾性率の測定において600〜40000MPaであり、更に好ましくは700以上5000MPa以下である。引張弾性率が600MPa未満では、カバーテープを剥がす際の応力によって容易に伸びが発生しやすくなり、40000MPaを超えるとカバーテープ全体が剛直になりハンドリング性が低下する。 In the present invention, it is important to appropriately set the elastic modulus of the base material layer. That is, the base material layer film is 600 to 40000 MPa, more preferably 700 to 5000 MPa in the measurement of tensile elastic modulus based on JIS K-7127. If the tensile elastic modulus is less than 600 MPa, elongation easily occurs due to the stress at the time of peeling the cover tape, and if it exceeds 40000 MPa, the entire cover tape becomes rigid and handling properties are deteriorated.
このように基材層の弾性率を調整する目的や、前記の基材層用フィルムとヒートシール層の接着強度を強固にする目的で、該基材層用フィルムに熱可塑性樹脂層を形成した2層の基材層を用いることができる。この熱可塑性樹脂層に用いる樹脂は、前記の目的に適するものであれば特に限定されるものではないが、前記の目的に対応した効果が得やすいことや、層形成が容易である点でポリエチレン系樹脂が好ましく、より好ましくは直鎖状低密度ポリエチレン樹脂である。更にこのような積層された2層の基材層のポリエチレン系樹脂層側の表面に、エチレン−αオレフィンとスチレン−エチレン−ブタジエン共重合体の混合物層やエチレン−αオレフィンと低密度ポリエチレンの混合物層やエチレン−αオレフィンとスチレン−ブタジエン共重合体の混合物層等を積層した3層構造の基材層とすることもできる。 Thus, for the purpose of adjusting the elastic modulus of the base material layer and for the purpose of strengthening the adhesive strength between the base material layer film and the heat seal layer, a thermoplastic resin layer was formed on the base material layer film. Two substrate layers can be used. The resin used for this thermoplastic resin layer is not particularly limited as long as it is suitable for the above-mentioned purpose, but polyethylene is easy to obtain an effect corresponding to the above-mentioned purpose and is easy to form a layer. Series resins are preferable, and linear low-density polyethylene resins are more preferable. Further, a mixture layer of ethylene-α olefin and styrene-ethylene-butadiene copolymer or a mixture of ethylene-α olefin and low-density polyethylene is formed on the surface of the two-layered base material layer on the polyethylene resin layer side. It is also possible to form a base material layer having a three-layer structure in which a layer, a mixture layer of ethylene-α olefin and styrene-butadiene copolymer, or the like is laminated.
基材層をこのような多層構造とする場合は、各層間の接着力を強固にするため通常使われる接着剤を用いることが出来る。通常用いられる接着剤としては、イソシアネート系接着剤、エチレンイミン系接着剤等が挙げられる。該接着剤層は、厚さが5μm以下であることが好ましい。5μmを超えた場合、基材層の引張弾性率が高くなりハンドリング性が低下する恐れがある。 When the base material layer has such a multi-layer structure, a commonly used adhesive can be used to strengthen the adhesive strength between the layers. Examples of the adhesive usually used include an isocyanate adhesive and an ethyleneimine adhesive. The adhesive layer preferably has a thickness of 5 μm or less. When exceeding 5 micrometers, there exists a possibility that the tensile elasticity modulus of a base material layer may become high and handling property may fall.
本発明の基材層は各層ともその特性を損なわない範囲で、フィルムを製膜する際の押出安定性を得るために、通常用いられる酸化防止剤や滑剤等、各種の添加剤を添加してもよい。 In the base material layer of the present invention, various additives such as antioxidants and lubricants that are usually used are added in order to obtain extrusion stability when forming a film, as long as the properties of each layer are not impaired. Also good.
ヒートシール層はエンボステープに対してヒートシール性を有し、使用時に容易に剥がすことのできる易剥離性を示す熱可塑性樹脂組成物からなり、樹脂成分としてはポリスチレン系樹脂(a)とポリエチレン系樹脂(b)の混合物からなる。 The heat seal layer has a heat seal property with respect to the embossed tape, and is composed of a thermoplastic resin composition exhibiting easy peelability that can be easily peeled off during use. As the resin component, polystyrene resin (a) and polyethylene resin are used. It consists of a mixture of resin (b).
ヒートシール層に用いるポリスチレン系樹脂(a)としては、ポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン、スチレン−ブタジエン共重合体またはこれの水添物、スチレン−イソプレン共重合体またはこれの水添物、スチレンとエチレンのグラフト共重合体、スチレン−ブテン−ブタジエン共重合体、メタクリル酸とスチレンの共重合体等スチレンユニットを分子鎖中に有するものであり、これら1種もしくは2種以上の混合物を用いることができる。 As the polystyrene resin (a) used for the heat seal layer, polystyrene, high impact polystyrene, styrene-butadiene copolymer or hydrogenated product thereof, styrene-isoprene copolymer or hydrogenated product thereof, styrene and ethylene are used. A styrene unit such as a graft copolymer, a styrene-butene-butadiene copolymer, and a copolymer of methacrylic acid and styrene is included in the molecular chain, and one or a mixture of two or more of these can be used.
又、ポリエチレン系樹脂(b)としては、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、エチレン−αオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−プロピレンラバー等エチレンユニットを分子鎖中に有するものであり、これらの1種もしくは2種以上の混合物を用いることができる。 Examples of the polyethylene resin (b) include low density polyethylene, linear low density polyethylene, ultra low density polyethylene, ethylene-α olefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene- It has an ethylene unit in the molecular chain such as methyl acrylate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-propylene rubber, and one or a mixture of two or more of these can be used.
前記のポリスチレン系の樹脂(a)とポリエチレン系樹脂(b)の樹脂の選定及び混合比率は、エンボステープにヒートシールされたカバーテープを剥離するときの剥離強度を調整すること、及びヒートシール層の引張弾性率が10〜500MPaの範囲となるように、適宜調整する必要が有り、好ましくは15〜300MPa、更に好ましくは15〜200MPaである。ヒートシール層の引張弾性率が10MPa未満では、エンボスキャリアテープから引き剥がす際に伸びてしまい、部品の取り出しに支障を来す恐れがありであり、500MPaを越えると、ヒートシール層としては硬いものになるため本願が目的とする高速剥離時の剥離強度増加が著しくなる。 The selection and mixing ratio of the polystyrene-based resin (a) and the polyethylene-based resin (b) adjust the peel strength when peeling the cover tape heat-sealed to the embossed tape, and the heat seal layer. It is necessary to adjust suitably so that the tensile elasticity modulus of may become the range of 10-500 Mpa, Preferably it is 15-300 Mpa, More preferably, it is 15-200 Mpa. If the tensile elastic modulus of the heat-seal layer is less than 10 MPa, it may stretch when it is peeled off from the embossed carrier tape, which may hinder the removal of parts. If it exceeds 500 MPa, the heat-seal layer is hard. Therefore, the increase in peel strength at the time of high-speed peel intended by the present application becomes significant.
このような特性を示すヒートシール層としては、ヒートシールするエンボステープの材質によっても異なるが、エンボステープが後述する材質の場合、ポリスチレン系樹脂(a)としてスチレン−ブタジエン共重合体及びハイインパクトポリスチレンの混合物50〜80質量%及びポリエチレン系樹脂(b)を50〜20質量%のものが挙げられる。 The heat seal layer exhibiting such characteristics varies depending on the material of the embossed tape to be heat sealed, but when the embossed tape is a material described later, a styrene-butadiene copolymer and high impact polystyrene are used as the polystyrene-based resin (a). And 50 to 20% by mass of the polyethylene resin (b).
更に、ヒートシール層は、脂肪酸アミドを含有しており、このことによってエンボステープにヒートシールされたカバーテープを剥離する際の剥離強度の剥離速度依存性を小さく抑えることができる。脂肪酸アミドとしては、特に限定するものではないがエチレンビスステリルアミドやエルカ酸アミドを用いることが出来る。これらの添加量が0.05質量部を下回ると剥離速度依存性を小さく抑えることが出来なくなることがあり、0.8質量部を上回るとヒートシール層からのブリードアウトが著しくなり、イージーピール性を阻害する恐れがある。又、透明性を損なわない範囲で、ヒートシール層の表面粗さを調整することで、更に前記の効果を高めることもできる。 Furthermore, the heat seal layer contains a fatty acid amide, which can suppress the dependency of the peel strength on the peel rate when peeling the cover tape heat sealed to the embossed tape. The fatty acid amide is not particularly limited, and ethylene bissteryl amide or erucic acid amide can be used. If the amount added is less than 0.05 parts by mass, the dependency on the peeling rate may not be able to be kept small. If the amount added exceeds 0.8 parts by mass, bleeding out from the heat seal layer becomes remarkable, and easy peel properties. May interfere. Moreover, the said effect can further be heightened by adjusting the surface roughness of a heat seal layer in the range which does not impair transparency.
ヒートシール層は、一般的な方法で製膜することができ、例えばインフレーション成形やTダイ押出等の押出成形でフィルムとする方法、基材層フィルムに前記の樹脂を溶剤に溶解して塗工する方法及び水系のエマルジョンとして塗工すること等によって得ることができる。押出成形でフィルムを製膜する場合、引張弾性率の小さい軟質の樹脂を押出すので、押出安定性を高めるために、支持層と共押出するのが好ましい。支持層に用いる樹脂としては、押出安定性の高い樹脂を用いることが好ましい。この支持層は、本発明のカバーフィルムにおいて、前記の多層の基材層の1層となる熱可塑性樹脂層であり、好ましくは低密度ポリエチレン樹脂やエチレン−αオレフィンとスチレン−エチレン−ブタジエン共重合体の混合物やエチレン−αオレフィンと低密度ポリエチレンの混合物層やエチレン−αオレフィンとスチレン−ブタジエン共重合体の混合物層等を用いることができる。 The heat seal layer can be formed by a general method, for example, a method of forming a film by extrusion molding such as inflation molding or T-die extrusion, and coating the base layer film by dissolving the resin in a solvent. For example, and by applying as an aqueous emulsion. When a film is formed by extrusion, a soft resin having a low tensile elastic modulus is extruded. Therefore, in order to enhance the extrusion stability, it is preferable to co-extrusion with a support layer. As the resin used for the support layer, a resin having high extrusion stability is preferably used. This support layer is a thermoplastic resin layer that is one layer of the multilayer base material layer in the cover film of the present invention, and preferably a low-density polyethylene resin or ethylene-α-olefin and styrene-ethylene-butadiene copolymer. A mixture mixture, a mixture layer of ethylene-α olefin and low density polyethylene, a mixture layer of ethylene-α olefin and styrene-butadiene copolymer, or the like can be used.
前記の押出成形で得られたヒートシール層用のフィルムは、ドライラミネートや、押出ラミネート等の一般的な方法により基材層と積層してカバーテープとすることが出来る。またヒートシール層と基材層の密着(ブロッキング現象)を抑制するために、透明性を阻害しない範囲でブロッキング防止剤としてフィラーを添加したり、一方でヒートシール層表面を、押出されたフィルム引取りの際の引取りロールの表面粗さを調整することにより、表面粗さRa値で0.8以下の範囲で粗らすことができる。 The film for heat seal layer obtained by the extrusion molding can be laminated with a base material layer by a general method such as dry lamination or extrusion lamination to form a cover tape. In addition, in order to suppress adhesion (blocking phenomenon) between the heat seal layer and the base material layer, a filler is added as an anti-blocking agent within the range that does not impair the transparency, while the surface of the heat seal layer is drawn into the extruded film. By adjusting the surface roughness of the take-up roll at the time of removal, the surface roughness Ra value can be roughened within a range of 0.8 or less.
本発明のカバーテープ全体の厚さは40〜75μmである。40μm未満では高速でカバーテープを剥がした際に切れやすく、75μmを超えると、カバーテープをエンボステープにヒートシールした後の体積が増し、リール1巻に巻き取れる量が減り、生産効率が低下する。 The total thickness of the cover tape of the present invention is 40 to 75 μm. If it is less than 40 μm, it is easy to cut when the cover tape is peeled off at a high speed. .
カバーテープとして使用するに当っては、埃付着防止やカバーテープ自体の帯電電荷を散逸させるために、基材層及びシーラント層に帯電防止性能を付与させるのが好ましい。通常用いられている帯電防止剤として界面活性剤型や導電性酸化金属微粒子、電子伝導性高分子を用いることが出来る。これらの帯電防止剤は発現される性能に応じて樹脂中に練り込むことも可能であるが、効率的に効果を発現するためには両表層にグラビアコーターなどで塗工すると良い。 When used as a cover tape, it is preferable to impart antistatic performance to the base material layer and the sealant layer in order to prevent dust adhesion and dissipate the charged charge of the cover tape itself. A surfactant type, conductive metal oxide fine particles, or an electron conductive polymer can be used as a commonly used antistatic agent. These antistatic agents can be kneaded into the resin according to the performance to be expressed. However, in order to exhibit the effect efficiently, it is preferable to apply to both surface layers with a gravure coater or the like.
本発明でいうエンボステープとは、シート状成形物から、圧空成型法、真空成型法等の方法で電子部品を収納するためのポケットを成形したものである。そして、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂の1種又は2種以上の樹脂成分から構成される。これらの樹脂はブレンドし単層構成で用いることも可能であるが、例えば両表層はポリカーボネート樹脂層、中芯はポリスチレン系樹脂層の様な積層構造物であってもよい。また、静電気によるトラブルを防止する目的から、エンボステープに帯電防止性能を保持させたものを用いることも出来る。帯電防止性能を保持させるためにカーボンブラックや帯電防止剤を練り込んだエンボステープや表面に塗工したエンボステープが好適に用いられる。 The embossed tape referred to in the present invention is obtained by molding a pocket for housing an electronic component from a sheet-like molded product by a method such as a compressed air molding method or a vacuum molding method. And it is comprised from the 1 type, or 2 or more types of resin component of a polystyrene-type resin, a polycarbonate resin, and a polyester resin. These resins can be blended and used in a single layer configuration. For example, both surface layers may be a laminated structure such as a polycarbonate resin layer and the middle core may be a polystyrene resin layer. Further, for the purpose of preventing troubles caused by static electricity, an embossed tape having antistatic performance maintained can be used. In order to maintain the antistatic performance, an embossed tape kneaded with carbon black or an antistatic agent or an embossed tape coated on the surface is preferably used.
本発明でいうキャリアテープシステムとは、前記のようなエンボステープに電子部品を収納し、前記カバーテープをヒートシールして蓋をし、マウンターと呼ばれる実装機でカバーテープを剥がしつつ、部品を基板に実装する電子部品の運搬/実装方法である。ヒートシールされたエンボステープとカバーテープを、剥離速度300mm/分で剥離したときの平均剥離強度(P3)が0.3〜0.5Nであり、剥離速度4500mm/分で剥離したときの平均剥離強度(P45)が0.7〜0.9Nであり、且つP45とP3の差が0.4N以下であることが好ましい。このような剥離強度の剥離速度依存性の小さいキャリアテープシステムとすることによって、近年の電子部品の実装速度を高速化に対応することが可能となる。又、従来より行われているJIS C 0806に定められた300mm/minでの剥離強度の測定値によって、前記高速実装時の剥離強度を想定することが極めて容易となる。 The carrier tape system as used in the present invention means that an electronic component is housed in the embossed tape as described above, the cover tape is heat sealed and covered, and the cover tape is peeled off by a mounting machine called a mounter while the component is mounted on the substrate This is a method for transporting / mounting electronic components to be mounted on the board. The average peel strength (P 3 ) when the heat-sealed embossed tape and the cover tape are peeled off at a peeling speed of 300 mm / min is 0.3 to 0.5 N, and the average is peeled off at a peeling speed of 4500 mm / min. The peel strength (P 45 ) is preferably 0.7 to 0.9 N, and the difference between P 45 and P 3 is preferably 0.4 N or less. By adopting such a carrier tape system in which the peel strength is less dependent on the peel speed, it is possible to cope with the recent increase in the mounting speed of electronic components. Further, it is very easy to assume the peel strength at the time of high-speed mounting based on the measurement value of peel strength at 300 mm / min defined in JIS C 0806, which has been conventionally performed.
本発明を実施例を用いてより具体的に説明する。
(実施例1)
スチレン−ブタジエン共重合体(電気化学工業社製 クリアレン 730L)60質量部、直鎖状低密度ポリエチレン(宇部興産社製 ユメリット)30質量部及びハイインパクトポリスチレン(東洋スチレン社製 HIPS H850)10質量部からなる樹脂に、ステアリン酸アマイド(花王社製 脂肪酸アマイドS)0.15質量部を添加した樹脂組成物からなる厚み30μmのシーラント層と、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(以下O−PETという)フィルム(東洋紡社製 ポリエステルフィルム 厚み12μm)と、低密度ポリエチレンフィルム(宇部興産社製 L719 厚み20μm)の積層基材層からなるカバーテープを押出ラミネートにより作成した。基材層の作成に当っては、接着強度を強固にするため、前記O−PETフィルムに、アンカーコート剤としてイソシアネート系接着剤(東洋モートン社製 EL557)を塗布した。また基材層及びシーラント層表面に高分子量型帯電防止剤(コニシ社製 ボンディップ)を0.5μmの厚みにて塗布し帯電防止性を付与した。なお、基材層の引張弾性率測定用の試験片を得るために、ヒートシール層を用いないで同様の方法でO−PETフィルム上に前記低密度ポリエチレンフィルムを形成し、別途積層基材層のみを得た。
The present invention will be described more specifically with reference to examples.
Example 1
60 parts by mass of a styrene-butadiene copolymer (Clearene 730L, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 30 parts by mass of linear low density polyethylene (Umerit, manufactured by Ube Industries) and 10 parts by mass of high impact polystyrene (HIPS H850, manufactured by Toyo Styrene Co., Ltd.) A 30 μm thick sealant layer made of a resin composition obtained by adding 0.15 parts by mass of stearic acid amide (Fatty Acid Amide S manufactured by Kao Corporation) to a resin comprising a biaxially stretched polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as O-PET) film A cover tape made of a laminated base material layer of a polyester film (Toyobo Co., Ltd., thickness 12 μm) and a low density polyethylene film (L719, Ube Industries, Ltd., thickness: 20 μm) was prepared by extrusion lamination. In creating the base material layer, an isocyanate adhesive (EL557 manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.) was applied to the O-PET film as an anchor coating agent in order to strengthen the adhesive strength. Further, a high molecular weight type antistatic agent (Bondip manufactured by Konishi Co., Ltd.) was applied to the surface of the base material layer and sealant layer at a thickness of 0.5 μm to impart antistatic properties. In addition, in order to obtain a test piece for measuring the tensile modulus of the base material layer, the low density polyethylene film was formed on the O-PET film in the same manner without using a heat seal layer, and separately laminated base material layer. Got only.
(実施例2)
ヒートシール層の厚みを8μm、基材層のO−PETを16μm、低密度ポリエチレンを38μmとした事以外は実施例1同様に実施した。
(実施例3)
基材層に二軸延伸ポリプロピレンフィルム(厚み15μm)を用いたこと以外は実施例1同様に実施した。
(実施例4)
基材層にO−PETフィルム(厚み12μm)と二軸延伸ナイロンフィルム(厚み15μm)をイソシアネート系接着剤で貼り合せ、低密度ポリエチレン樹脂を実施例1同様に積層させた基材層を用いたこと以外は実施例1と同様に実施した。
(Example 2)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the thickness of the heat seal layer was 8 μm, the base layer O-PET was 16 μm, and the low density polyethylene was 38 μm.
(Example 3)
The same operation as in Example 1 was performed except that a biaxially stretched polypropylene film (thickness: 15 μm) was used for the base material layer.
(Example 4)
A base material layer in which an O-PET film (thickness: 12 μm) and a biaxially stretched nylon film (thickness: 15 μm) were bonded to the base material layer with an isocyanate adhesive and a low density polyethylene resin was laminated in the same manner as in Example 1 was used. Except that, the same procedure as in Example 1 was performed.
(比較例1)
基材層のO−PETの厚みを5μmとしたこと以外は実施例1と同様に実施した。
(比較例2)
基材層にO−PETフィルム(厚み8μm)と二軸延伸ナイロンフィルム(厚み15μm)をイソシアネート系接着剤で貼り合せ、押出コーティングにより低密度ポリエチレンを厚さ30μmに積層させたものを用いた。シーラント層はエチレン−ブチルアクリレートとエチレン−エチルアクリレートとアンチモンドープ酸化錫からなる厚さ2μmの層をグラビア塗工により形成させた。
(Comparative Example 1)
The same operation as in Example 1 was performed except that the thickness of the O-PET of the base material layer was 5 μm.
(Comparative Example 2)
An O-PET film (thickness 8 μm) and a biaxially stretched nylon film (thickness 15 μm) were bonded to the base material layer with an isocyanate-based adhesive, and low density polyethylene was laminated to a thickness of 30 μm by extrusion coating. As the sealant layer, a layer having a thickness of 2 μm made of ethylene-butyl acrylate, ethylene-ethyl acrylate, and antimony-doped tin oxide was formed by gravure coating.
(評価方法)
1. 引張弾性率の測定
各実施例及び比較例の、基材層及びヒートシール層のフィルムを用いて、JIS K−7127に準拠しダンベル4号片を用い、引張速度50mm/minにて測定し、評価結果を表1及び表2に示した。
2. 剥離強度の測定
各実施例及び比較例で作製したカバーテープを、クリアレンシートC(電気化学工業社製)を用いたエンボステープにヒートシールを行った。ヒートシールの条件は、シールコテ温度160℃、シールコテ幅0.4mm×2個、シール回数2回、シール圧力0.34MPaである。剥離強度の測定は、市販の装置では4500mm/minで剥がせる装置がないため自作した。装置間の差異を無くすため自作の装置では300mm/min〜4500mm/minに速度が自由に調整できるように設計されているものとした。剥離を行う際にはエンボステープを支持台に両面テープで固定し、カバーテープの剥離角度が170〜180度となるようにカバーテープの長さ約20cmを剥離した。各剥離速度で評価した結果及びその剥離強度の差を、表1及び表2に纏めて示した。
(Evaluation methods)
1. Measurement of tensile elastic modulus Using a film of a base material layer and a heat seal layer of each example and comparative example, using a dumbbell No. 4 piece according to JIS K-7127, measuring at a tensile speed of 50 mm / min, The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
2. Measurement of peel strength The cover tape produced in each Example and Comparative Example was heat-sealed to an embossed tape using a clearlen sheet C (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.). The heat sealing conditions are a seal iron temperature of 160 ° C., a seal iron width of 0.4 mm × 2, two times of sealing, and a seal pressure of 0.34 MPa. The measurement of peel strength was made by hand because there is no device that can be peeled off at 4500 mm / min with a commercially available device. In order to eliminate the difference between apparatuses, the self-made apparatus was designed so that the speed could be freely adjusted to 300 mm / min to 4500 mm / min. When peeling, the embossed tape was fixed to the support with double-sided tape, and the cover tape was peeled about 20 cm in length so that the peeling angle of the cover tape was 170 to 180 degrees. Tables 1 and 2 collectively show the results of evaluation at each peeling rate and the difference in peel strength.
Claims (4)
(1)カバーテープの総厚が40〜75μm。
(2)基材層の厚さが10〜60μmであり、その引張弾性率が600〜40000MPaである。
(3)ヒートシール層が、スチレン−ブタジエン共重合体とハイインパクトポリスチレンの混合物とからなるポリスチレン系樹脂(a)及びポリエチレン系樹脂(b)を主成分とし、その混合比率が(a)50〜80質量%(b)50〜20質量%であり、且つ該ヒートシール層が、前記(a)及び(b)の合計100質量部に対して、脂肪酸アミドを0.05〜0.8質量部含有し、その厚さが2〜30μmであり、その引張弾性率が10〜500MPaである。 A cover tape having at least a base material layer and an easily peelable heat seal layer and having the following requirements.
(1) The total thickness of the cover tape is 40 to 75 μm.
(2) The base material layer has a thickness of 10 to 60 μm and a tensile modulus of 600 to 40000 MPa.
(3) The heat seal layer is composed mainly of a polystyrene resin (a) and a polyethylene resin (b) composed of a mixture of a styrene-butadiene copolymer and a high impact polystyrene , and the mixing ratio thereof is (a) 50 to 50 80 mass% (b) 50-20 mass%, and this heat seal layer is 0.05-0.8 mass part fatty acid amide with respect to a total of 100 mass parts of said (a) and (b). It has a thickness of 2 to 30 μm and a tensile modulus of 10 to 500 MPa.
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