JP4302425B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、上下一対の電極ユニットを備えたプラズマ処理装置に関し、特にその電極構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一対の電極を上下に対向配置させたプラズマ処理装置は、公知である（例えば特許文献１）。かかるプラズマ処理装置では、上側電極を架台の上端部やハウジングの天板などに吊り下げることにより、下側電極の上方に対向させるのが、一般的である。
【０００３】
【特許文献１】
特許第３０４０３５８号公報（第１１頁）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような吊り下げ構造では、上下の電極どうしの位置決め精度を確保するのが面倒であった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために、本発明は、プラズマ処理のための上下一対の電極ユニットを備えたプラズマ処理装置において、上側の電極ユニットが、導電性の上側電極本体と、この上側電極本体を保持する上側保持部とを有し、下側の電極ユニットが、導電性の下側電極本体と、この下側電極本体を保持する下側保持部とを有し、上側保持部の下側部に被受け部が設けられ、下側保持部の上側部に上記被受け部を位置決め状態で載置して支持する受け部が設けられ、上記被受け部と受け部のうち一方が、嵌合凹部を有し、他方が、上記嵌合凹部に嵌め込まれる嵌合凸部を有し、上記上側電極ユニットが、水平に延びるとともにその長手方向の両端に上記被受け部が設けられ、下側電極ユニットが、上側電極ユニットと同方向に延びるとともにその長手方向の両端に上記受け部が設けられており、上記上下の電極ユニットの長手方向の一端の上記嵌合凹部と上記嵌合凸部の嵌合部分と他端の上記嵌合凹部と上記嵌合凸部の嵌合部分との間には、上記長手方向と直交する水平方向にまっすぐ貫通する隙間が形成され、更に、ワーク搬送機構を備え、表面処理の実行中、上側電極ユニットと下側電極ユニットが位置固定されるとともに、上記ワーク搬送機構によって処理対象の板状ワークが上記下側電極ユニットから僅かに上へ離れた水平姿勢で上記長手方向と直交する水平方向に沿って上記隙間に通されることを特徴とする。
これによって、上側電極ユニットを下側電極ユニット上に載置するだけで容易に位置決めすることができる。
【０００６】
上記被受け部と受け部のうち一方が、嵌合凹部を有し、他方が、上記嵌合凹部に嵌め込まれる嵌合凸部を有していることにより、上下の電極ユニットどうしの位置決め固定を一層容易化できる。
【０００７】
上記上側電極ユニットが、水平に延びるとともにその長手方向の両端に上記被受け部が設けられ、下側電極ユニットが、上側電極ユニットと同方向に延びるとともにその長手方向の両端に上記受け部が設けられており、さらに、処理対象の板状ワークを水平姿勢で、かつ上記長手方向と直交する水平方向に沿って電極ユニットどうしの間に通すように送るワーク搬送機構を備えていることにより、上下の電極ユニットどうしの位置決め固定作業が容易になるだけでなく、上側電極ユニットを下側電極ユニット上に安定して支持することができる。しかも、これら電極ユニットの長手方向の中間部には、短手方向の両側に開口する隙間を確実に形成でき、これをプラズマ処理空間となすことができる。そして、電極ユニットの一体化状態を維持したまま、板状ワークをこれら電極ユニット間の処理空間に通すことができ、プラズマ処理操作を容易に行うことができる。
【０００８】
上記上側電極ユニットの一側部には、プラズマ処理のためのガスの吹出しユニットが設けられ、これにより、上記吹出しユニットが、上側電極ユニットを介して下側電極ユニットに支持されていることが望ましい。
これによって、上側電極ユニットの位置決めと同時に吹出しユニットの位置決めをも行なうことができる。
【０００９】
さらに、上記上側電極ユニットの吹出しユニットとは逆側部には、上下の電極ユニット間を通過後のガスを吸込む吸込みユニットが設けられ、これにより、上記吸込みユニットが、上側電極ユニットを介して下側電極ユニットに支持されていることが望ましい。
これによって、上側電極ユニットの位置決めと同時に吹出しユニットと吸込みユニットの位置決めをも行なうことができるだけでなく、上側電極ユニットの片側に吹出しユニットの荷重を掛ける一方、逆側に吸込みユニットの荷重を掛けることができ、荷重のバランスをとることができる。
【００１０】
ここで、上記上側電極ユニットが、水平に延びるとともに長手方向の両端に上記被受け部が設けられ、下側電極ユニットが、上側電極ユニットと同方向に延びるとともに長手方向の両端に上記受け部が設けられており、さらに、処理対象の板状ワークを水平姿勢で、かつ上記長手方向と直交する水平方向に沿って電極ユニットどうしの間に通すように送るワーク搬送機構を備え、上記上側電極ユニットの上記ワーク送り方向に沿って手前側に、上記吹出しユニットが設けられていることが望ましく、向こう側に、上記吹出しユニットが設けられていることが望ましい。
これによって、板状ワークの送り方向とガスの流れ方向とを一致させることができ、ワークの送りによりガス流が乱れたりワークの幅方向（送り方向と直交する方向）に沿ってガス状態が不均一になったりするのを防止でき、処理ムラを確実に防止でき、プラズマ表面処理を確実に良好に行なうことができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図面にしたがって説明する。
図１は、例えば液晶パネル用の石英ガラスなどの板状物をワークＷ（被処理物）とし、これを例えばプラズマ洗浄するための常圧プラズマ処理装置Ｍ１を示したものである。プラズマ処理装置Ｍ１は、一対の電極ユニット１０，２０と、ガス源３０，３１と、電界印加手段４０と、ワーク送り機構５０とを備えている。電界印加手段４０によって電極ユニット１０，２０間に例えばパルス状の電界が印加される。これによって、グロー放電が起き、電極ユニット１０，２０間が常圧プラズマ空間１ａとなる。このプラズマ空間１ａにガス源１０の処理ガスが導入されてプラズマ化されるとともに、送り機構５０によってワークＷが送られて来、常圧下でプラズマ洗浄（プラズマ処理）が行なわれることになる。
【００１２】
プラズマ処理装置Ｍ１の電極構造について説明する。
図１および図２に示すように、装置Ｍ１の電極ユニット１０，２０は、上下に一対をなす平行平板電極構造をなしている。上側の電極ユニット１０（一方の電極）の電極本体１１には、上記電界印加手段４０に接続され、下側の電極ユニット２０（他方の電極）の電極本体２１は、アース線４１を介して接地されている。これによって、上側が電界印加電極（ホット電極）となり、下側が接地電極（アース電極）となっている。なお、この極性は、上下逆になっていてもよい。
【００１３】
上側電極ユニット１０の構成を説明する。
図１〜図３に示すように、ユニット１０は、上記電極本体１１と、この電極本体１１を保持するホルダ１２（上側保持部の主構成要素）と、誘電体板１３とを有している。上側電極本体１１は、ステンレスやアルミニウム等の導電金属で構成され、断面四角形状をなして左右（図１において紙面と直交する方向）に長く延びている。
【００１４】
電極本体１１の内部には、１条の冷媒通路１１ａと、２条の吸引路１１ｂが形成されている。なお、これら路１１ａ，１１ｂの数は、上記に限定されるものではないことは言うまでもない。冷媒通路１１ａには、電極本体１１を温調するための冷媒（例えば水）が通されるようになっている。各吸引路１１ｂは、電極本体１１の長手方向に沿って延びるヘッダ路１１ｃと、このヘッダ路１１ｃから分岐された多数の吸引孔１１ｄとを有している。ヘッダ路１１ｃの一端部は、吸引管６１を介して真空吸引ポンプ６０に接続されている。吸引孔１１ｄは、ヘッダ路１１ｃの長さ方向に沿って等間隔置きに配されている。各吸引路１１ｄは、ヘッダ路１１ｃから下方に延び、電極本体１１の下面へ達している。
【００１５】
上側電極の固体誘電体層としての誘電体板１３は、電極本体１１とは別体のセラミックや石英ガラス等の誘電体によって構成され、左右に細長い平板状をなしている。この誘電体板１３が、電極本体１１の下面に宛がわれるとともに、その左右両端部が下側電極ユニット２０に誘電スペーサ２９を介して支持されている。この誘電体板１３によって、電極本体１１からのアーク放電が防止されるようになっている。誘電体板１３は、電極本体１１の下面より大きな面積を有し、その周縁部が、電極本体１１の周縁から大きく突出されている。これによって、アーク放電を確実に防止できるようになっている。真空ポンプ６０を駆動すると、吸引路１１ｂが真空引きされ、誘電体板１３が電極本体１１の下面に吸着されるようになっている。これによって、誘電体板１３の左右両側部だけでなく、中央側においても電極本体１１に密着させて隙間が空かないようにすることができ、電極本体１１と誘電体板１３との間でアークが発生するのを確実に防止することができる。
【００１６】
上側電極のホルダ１２は、絶縁性樹脂で構成され、左右に細長い容器状をなしている。詳述すると、ホルダ１２の下面には、本体収容凹部１２ａが形成され、この凹部１２ａに電極本体１１が収容されている。凹部１２ａの周縁には、浅い凹部１２ｂが形成されている。この凹部１２ｂに、誘電体板１３の本体１１周縁部からの突出部分が収容されている。
なお、上側電極ユニット１０の支持構造については、本発明の要旨に係るものであるので、追って詳述する。
【００１７】
次に、下側の電極ユニット２０について説明する。
図１、図２、図４に示すように、ユニット２０は、上記の電極本体２１と、この電極本体２１を保持するホルダ２２（下側保持部）と、誘電体板２３とを有している。下側電極本体２１は、ステンレスやアルミニウム等の導電金属で構成され、断面四角形状をなして上側の本体１１と同方向（左右）に長く延びている。
【００１８】
電極本体２１の内部には、１条の冷媒通路２１ａと、２条の吸引路２１ｂが形成されている。勿論、これら路２１ａ，２１ｂの数は任意である。冷媒通路２１ａには、水などの温調用冷媒が通されるようになっている。各吸引路２１ｂは、電極本体２１の長手方向に沿って延びるヘッダ路２１ｃと、このヘッダ路２１ｃから分岐された多数の吸引孔２１ｄとを有している。ヘッダ路２１ｃの一端部は、吸引管６２を介して上記真空ポンプ６０に接続されている。吸引孔２１ｄは、ヘッダ路２１ｃの長さ方向に沿って等間隔置きに配されている。これら吸引路２１ｄは、ヘッダ路２１ｃから上方に延び、電極本体２１の上面へ達している。
【００１９】
下側電極の固体誘電体層としての誘電体板２３は、電極本体２１とは別体のセラミックや石英ガラス等の誘電体によって構成され、左右に細長い平板状をなしている。誘電体板２３は、電極本体２１の上面より大きな面積を有し、その周縁部が、電極本体２１の周縁から大きく突出されている。この誘電体板２３が、電極本体２１の上面に宛がわれている。真空ポンプ６０を駆動すると、吸引路２１ｂが真空引きされ、誘電体板２３が電極本体２１の下面に吸着されるようになっている。これによって、アーク放電を確実に防止できるようになっているのは、上側電極と同様である。
【００２０】
下側電極のホルダ２２は、絶縁性樹脂で構成され、左右に細長い容器状をなしている。詳述すると、ホルダ２２の上面には、本体収容凹部２２ａが形成され、この凹部２２ａに電極本体２１が収容されている。凹部２２ａの周縁には、浅い凹部２２ｂが形成されている。この凹部２２ｂに、誘電体板２３の周縁部分が収容されている。
【００２１】
上下の電極ユニット１０間には、薄く左右に細長い隙間が形成されている。この隙間が、上記プラズマ処理空間１ａとなっている。図１に示すように、この空間１ａの前後の縁は、開口されている。空間１ａの手前側（図１において左側）の開口が、ワークWの挿入口および処理ガスの流入口となり、向こう側（図１において右側）の開口が、ワークWの送出口および処理済みのガスの排出口となっている。
【００２２】
次に、プラズマ処理空間１ａへのガス導入構造について説明する。
図１および図３に示すように、上側電極ユニット１０の手前側（図１において左側）には、吹出しユニット１６が設けられ、向こう側（図１において右側）には、吸込みユニット１７が設けられている。
なお、これら吹出し・吸込みユニット１６，１７の支持構造については、後述する。
【００２３】
ガス吹出しユニット１６には、処理ガス導入路１６ｘ（処理ガス吹出し手段）と、カーテンガス導入路１６ｙ（カーテンガス吹出し手段）とが形成されている。処理ガス導入路１６ｘは、上記処理ガス源３０に処理ガス供給管３２を介して連なる受容れポート１６ａと、このポート１６ａに連なるとともに左右に長いチャンバー１６ｂと、このチャンバー１６ｂの略全長域にわたって等間隔置きに配された多数の吹出し孔１６ｃとを有している。吹出し孔１６ｃは、チャンバー１６ｂから後方のプラズマ処理空間１ａへ向けて斜め下に延び、吹出しユニット１６の電極ユニット１０寄りの下面（一方の電極の手前側（一側部）の傍ら）に開口している。これによって、処理ガス源３０の処理ガスが、ポート１６ａを経てチャンバー１６ｂで左右長手方向に均一化された後、吹出し孔１６ｃから斜め下後方へ吹出され、プラズマ処理空間１ａに導入されるようになっている。
なお、吹出し孔１６ｃは、チャンバー１６ｂの略全長域にわたるスリット状をなしていてもよい。後述する吹出し孔１６ｆおよび吸込み孔１７ｃにおいても同様である。
【００２４】
ガス吹出しユニット１６の内部において処理ガス導入路１６ｘの手前側に上記カーテンガス導入路１６ｙが配されている。カーテンガス導入路１６ｙは、上記カーテンガス源３１にカーテンガス供給管３３を介して連なる受容れポート１６ｄと、このポート１６ｄに連なるとともに左右に長いチャンバー１６ｅと、このチャンバー１６ｅの略全長域にわたって等間隔置きに配された多数の吹出し孔１６ｆとを有している。吹出し孔１６ｆは、チャンバー１６ｂからまっすぐ下に延び、上記処理ガスの吹出し孔１６ｃより手前側のユニット１６下面に開口している。これによって、ガス源３１のカーテンガスが、ポート１６ｄを経てチャンバー１６ｅで左右長手方向に均一化された後、吹出し孔１６ｆから下方へ吹出されるようになっている。
なお、カーテンガスには、窒素などの不活性ガスを用いるのが望ましい。処理ガスとして窒素などを用いる場合には、２つのガス源３０，３１に共通の単一ガス源を設け、この単一ガス源から各導入路１６ｘ、１６ｙに分配されるようにしてもよい。
処理ガスとカーテンガスとによって、特許請求の範囲の「プラズマ処理のためのガス」が構成されている。
【００２５】
吸込みユニット１７には、ガス吸込み路１７ｘが形成されている。ガス吸込み路１７ｘは、上記ガス導入路１６ｘを前後に反転させた形状をなしている。すなわち、ガス吸込み路１７ｘは、吸込みユニット１７の電極ユニット１０寄りの下面（一方の電極の向こう側（他側部）の傍ら）から斜めに延びる吸込み孔１７ｃと、左右に長いチャンバー１７ｂと、排出ポート１７ａとを有し、この排出ポート１７ａが、排気管６４を介して排気ポンプ６５に連ねられている。排気ポンプ６５の駆動によって、空間１ａの処理済みのガスが、吸込み路１７ｘを経て排出されるようになっている。
なお、ポンプ６５は、上記誘電体板１３，２３の吸着用ポンプ６０と共通の真空吸引ポンプを用いることにしてもよい。
【００２６】
次に、ワーク送り機構５０について説明する。
図１および図４に示すように、ワーク送り機構５０は、下側電極ユニット２０の手前側（ガス吹出しユニット１６の下側）に設けられた左右一対のフレーム５５と、これらフレーム５５間に水平に架け渡されるとともに互いに前後に離間配置された複数の軸部材５１（回転軸）と、各軸部材５１の長手方向に離れて複数配置されたコロ５２とを有している。板状ワークＷは、これらコロ５２の上に水平に置かれ、コロ５２の回転によって処理空間１ａへ向けて水平に送られるようになっている。
なお、同様の送り機構が、下側電極ユニット２０の向こう側（後側）にも設けられ、ワークＷを水平姿勢を維持したままで処理空間１ａから排出できるようになっている。
【００２７】
ワーク送り機構５０の下側部、すなわちワークＷの水平移動平面より下側であって下側電極ユニット２０の手前側は、空間ｓ１になっている。ワーク送り機構５０は、この空間ｓ１の雰囲気を処理ガス流から隔てる縁切り構造になっている。
詳述すると、ワーク送り機構５０の左右のフレーム５５には、縁切り板５３（縁切り部材）が水平に架け渡されている。縁切り板５３の電極ユニット側の端面（後端面）は、下側電極ユニット２０のホルダ２２の手前側の側面に突き当てられている。縁切り板５３の上面は、下側電極ユニット２０の上面と略面一をなしている。
【００２８】
縁切り板５３には、前後に細長い挿通孔５３ａが複数、分散して形成されている。各孔５３ａにコロ５２が通されている。これらコロ５２が、縁切り板５３の上面から僅かに突出されている。これによって、コロ５２上のワークＷと縁切り板５３の上面との間の隙間が可及的に小さく設定されている。すなわち、縁切り板５３は、ワークＷの移動する水平面に下側から可及的に近接して配されている。
縁切り板５３によって、ワーク送り機構５０の下側部空間ｓ１が処理ガスの吹出し孔１６ｃからの吹出し流から縁切りされ、空間ｓ１の雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれるのを防止できるようになっている。
【００２９】
さらに、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３との間に形成された空間の左右両端部には、閉塞部材５４が、ガス吹出しユニット１６と縁切り部材５３とに挟まれるようにして設けられている。閉塞部材５４は、ガス吹出しユニット１６の前後方向の全長に及んでいる。これによって、該空間の左右両端部が、閉塞部材５４によって塞がれている。よって、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３との間の両端部より外側の雰囲気についても処理ガス吹出し流に巻き込まれるのを防止できるようになっている。
【００３０】
さらに、縁切り板５３の電極ユニットとは逆側の端面（前端面）は、ガス吹出しユニット１６より突出されている。これによって、縁切り板５３が、吹出し孔１６ｆから真下へ向かうカーテンガスの吹出し軸ｇ１を横切っている。よって、縁切り板５３ないしはワークＷの上側の雰囲気が、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３ないしはワークＷとの間を通って処理ガス吹出し流に巻き込まれるのを防止できるようになっている。
なお、ワーク送り機構５０の軸部材５１およびコロ５２は、縁切り板５３より手前にも延々と配置されている。
【００３１】
本発明の要旨に係る電極支持構造を説明する。
プラズマ処理装置Ｍ１のベースＢに下側電極ユニット２０が支持されている。この下側電極ユニット２０に上側電極ユニット１０が支持されている。
【００３２】
詳述すると、図２、図４、図５に示すように、下側の電極ホルダ２２の左右両端部には、嵌合凸部２２ｘ（受け部）が上に突出するようにして形成されている。一方、図２、図３、図５に示すように、上側の電極ホルダ１２の左右両端部には、段差１２ｃが形成されるとともに、この段差１２ｃと面一の下面を有するサイドプレート１５が宛がわれている。この段差１２ｃとサイドプレート１５の中間部とによって、上側電極ユニット１０の嵌合凹部１０ｘ（被受け部）が構成されている。（サイドプレート１５の中間部は、ホルダ１２と協働して、特許請求の範囲の「上側保持部」の構成要素となっている。）この嵌合凹部１０ｘに嵌合凸部２２ｘが嵌め込まれるようにして、上側電極ユニット１０の両端部が、下側電極ユニット２０上に位置決め状態で載置されている。この位置決め載置状態で、上下の電極ユニット１０（具体的には上下の誘電体板１３，２３）の長手方向の中間部どうしの間に、上記プラズマ処理空間１ａが形成されるようになっている。
なお、下側電極のホルダ２２と上側電極のサイドプレート１５とは、垂直サイドプレート２５によって連結されている。
【００３３】
さらに、上側電極ユニット１０を介して、上記吹出しユニット１６と吸込みユニット１７が、下側電極ユニット２０に支持されている。詳述すると、図１および図３に示すように、上側電極ユニット１０の手前側の側面に、ガス吹出しユニット１６が当接され、向こう側の側面に、吸込みユニット１７が当接されている。一方、図３に示すように、上記左右一対のサイドプレート１５は、水平をなして、上側電極ユニット１０の前後に延出されている。そして、これら水平サイドプレート１５の手前側への延出部分にガス吹出しユニット１６が連結されて支持され、向こう側（後側）への延出部分に吸込みユニット１７が連結されて支持されている。
【００３４】
作用を説明する。
プラズマ処理装置Ｍ１においては、下側電極ユニット２０の嵌合凸部２２ｘを上側電極ユニット１０の嵌合凹部１０ｘに嵌め込みながら、下側電極ユニット２０の上に上側電極ユニット１０を載置するだけで、上側電極ユニット１０を容易に位置決めして固定することができる。
嵌合凸部２２ｘと嵌合凹部１０ｘがユニット１０，２０の長手方向の両端部に配置されているので、嵌め合わせが容易なだけでなく、上側電極ユニット１０を下側電極ユニット２０上に安定して支持することができる。また、電極ユニット１０，２０の長手方向の中間部には、前後に開口する隙間を形成して、これをプラズマ処理空間１ａとなすことができ、電極ユニット１０，２０の一体化状態を維持したまま、板状ワークＷをこれら電極ユニット間の処理空間１ａに通すことができる。これによって、プラズマ処理操作を容易に行うことができる。
また、誘電体板１３，２３などのメンテナンスの際は、上側電極ユニット１０を持ち上げるだけで、上下の電極ユニット１０，２０どうしを簡単に分離できる。これによって、誘電体板１３，２３を簡単に取り出すことができ、汚れを落としたり傷みがひどいときは交換したりすることができる。
【００３５】
さらに、上側電極ユニット１０にガス吹出しユニット１６と吸込みユニット１７を一体に連結することにより、上側電極ユニット１０の位置決めと同時に、吹出しユニット１６および吸込みユニット１７の位置決めをも行なうことができる。また、上側電極ユニット１０の手前側に吹出しユニット１６の荷重を掛ける一方、その逆側に吸込みユニット１７の荷重を掛けることができ、荷重のバランスをとることができる。
【００３６】
本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の改変をなすことができる。
例えば、上側電極ユニットに嵌合凸部を設け、下側電極ユニットに嵌合凹部を設けてもよい。
ワーク形状の「板状」には、シート状ないしはフィルム状も含まれる。
処理ガスの流れ方向とワークの送り方向が、互いに対向していたり、交差（直交）していたりしてもよい。
本発明は、常圧下だけでなく、減圧下でのプラズマ処理にも適用でき、グロー放電だけでなく、コロナ放電や沿面放電によるプラズマ処理にも適用でき、洗浄だけでなく、成膜、表面改質、アッシング、エッチング等の種々のプラズマ処理に遍く適用できる。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、上側電極ユニットを下側電極ユニット上に載置するだけで容易に位置決めすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る常圧プラズマ処理装置を前後に切断した概略断面図である。
【図２】上記プラズマ処理装置の上下の電極ユニットを左右に切断した断面図である。
【図３】上記プラズマ処理装置の上側電極ユニットとガス吹出しユニットと吸込みユニットの底面図である。
【図４】上記プラズマ処理装置の上側電極ユニットとワーク送り機構の平面図である。
【図５】上記上下の電極ユニットを分離して示す図２相当の断面図である。
【符号の説明】
Ｍ１ 常圧プラズマ処理装置
１ａ プラズマ処理空間（電極ユニットどうしの間の隙間）
１０ 上側電極ユニット
１１ 上側電極本体
１２ ホルダ（上側保持部の主構成要素）
１５ サイドプレート（上側保持部の構成要素の一部）
１０ｘ 嵌合凹部（被受け部）
１６ ガス吹出ユニット
１７ 吸込みユニット
２０ 下側電極ユニット
２１ 下側電極本体
２２ ホルダ（下側保持部）
２２ｘ 嵌合凸部（受け部）
５０ ワーク送り機構
Ｗ 板状ワーク

Claims (3)

1. プラズマ処理のための上下一対の電極ユニットを備えたプラズマ処理装置において、上側の電極ユニットが、導電性の上側電極本体と、この上側電極本体を保持する上側保持部とを有し、下側の電極ユニットが、導電性の下側電極本体と、この下側電極本体を保持する下側保持部とを有し、上側保持部の下側部に被受け部が設けられ、下側保持部の上側部に上記被受け部を位置決め状態で載置して支持する受け部が設けられ、上記被受け部と受け部のうち一方が、嵌合凹部を有し、他方が、上記嵌合凹部に嵌め込まれる嵌合凸部を有し、上記上側電極ユニットが、水平に延びるとともにその長手方向の両端に上記被受け部が設けられ、下側電極ユニットが、上側電極ユニットと同方向に延びるとともにその長手方向の両端に上記受け部が設けられており、上記上下の電極ユニットの長手方向の一端の上記嵌合凹部と上記嵌合凸部の嵌合部分と、他端の上記嵌合凹部と上記嵌合凸部の嵌合部分との間には、上記長手方向と直交する水平方向にまっすぐ貫通する隙間が形成され、更に、ワーク搬送機構を備え、表面処理の実行中、上側電極ユニットと下側電極ユニットが位置固定されるとともに、上記ワーク搬送機構によって処理対象の板状ワークが上記下側電極ユニットから僅かに上へ離れた水平姿勢で上記長手方向と直交する水平方向に沿って上記隙間に通されることを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 上記上側電極ユニットの一側部には、プラズマ処理のためのガスの吹出しユニットが設けられ、これにより、上記吹出しユニットが、上側電極ユニットを介して下側電極ユニットに支持されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. さらに、上記上側電極ユニットの吹出しユニットとは逆側部には、上下の電極ユニット間を通過後のガスを吸込む吸込みユニットが設けられ、これにより、上記吸込みユニットが、上側電極ユニットを介して下側電極ユニットに支持されていることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ処理装置。

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