KR100830129B1 - 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 - Google Patents
듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100830129B1 KR100830129B1 KR1020070039468A KR20070039468A KR100830129B1 KR 100830129 B1 KR100830129 B1 KR 100830129B1 KR 1020070039468 A KR1020070039468 A KR 1020070039468A KR 20070039468 A KR20070039468 A KR 20070039468A KR 100830129 B1 KR100830129 B1 KR 100830129B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- air knife
- glass substrate
- dual
- knife
- type bracket
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
- B08B5/023—Cleaning travelling work
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
Description
Claims (7)
- 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치로서,유리 기판 (180) 의 건조 공정이 수행되고, 상기 유리 기판 (180) 이 반입되는 입구 (160) 와 반출되는 출구 (170) 가 형성되어 있는 공정 챔버 (100);상기 공정 챔버 (100) 내로 반입된 유리 기판 (180) 을 일 방향으로 반송하기 위한 구동 롤러 (120) 와 제 1 구동 샤프트 (110);상기 제 1 구동 샤프트 (110) 에 회전력을 발생시켜 주는 제 2 구동 샤프트(130)와 모터 (140) ; 및상기 반송되는 유리 기판 (180) 표면으로 압축 공기를 분사하는 적어도 하나의 듀얼 에어 나이프 (150) 를 포함하고,상기 듀얼 에어 나이프 (150) 는 1 차적으로 일정량의 물기를 제거하는 제 1 차 에어 나이프 (200);2 차적으로 잔류 수분을 제거하는 제 2 차 에어 나이프 (210); 및상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 을 결합하기 위한, 장홀 (230) 이 형성된 'ㄱ'형 브라켓 (220) 을 포함하고,상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 은 제 2 차 에어 나이프 (210) 와 움직이지 않도록 고정되게 결합되고,상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 는, 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 이 상기 제 2 차 에어 나이프 (210) 에 고정되게 결합된 상태에서, 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 과 상기 제 2 차 에어 나이프 (210) 사이의 개방된 공간으로 삽입되게 배치되고,상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 는 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 의 장홀 (230) 을 통과한 조임 볼트 (240) 에 의해 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 에 고정되고,상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 의 장홀 (230) 은 상기 제 1 차 및 제 2 차 에어 나이프 (200, 210) 로부터 압축 공기가 분사되는 방향으로 길게 개방되도록 형성되고,상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 가 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 에 고정되는 위치는 상기 장홀 (230) 의 길이 범위 내에서 조정이 가능하여, 상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 유리 기판 (180) 과의 간격 거리를 조정할 수 있는 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 동일한 두께, 동일한 가로 길이 및 서로 다른 세로 길이로 구성되는 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 차 에어 나이프 (200)의 압축 공기 사용량은 제 2 차 에어 나이프 (210) 압축 공기 사용량의 55% 내지 75% 인 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 각각의 일면에 압축 공기 주입구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 유리 기판 (180) 은 30인치 이상의 대형 유리 기판 (180) 인 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070039468A KR100830129B1 (ko) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070039468A KR100830129B1 (ko) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100830129B1 true KR100830129B1 (ko) | 2008-05-20 |
Family
ID=39664462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070039468A KR100830129B1 (ko) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100830129B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107447176A (zh) * | 2017-09-22 | 2017-12-08 | 江苏大力神科技股份有限公司 | 一种双气刀锌花控制装置 |
KR20230075043A (ko) | 2021-11-22 | 2023-05-31 | 주식회사 포스코 | 에어나이프 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050109259A (ko) * | 2004-05-14 | 2005-11-17 | 세메스 주식회사 | 복수의 토출로를 가지는 노즐 및 이를 사용하여 기판을세정하는 장치 |
-
2007
- 2007-04-23 KR KR1020070039468A patent/KR100830129B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050109259A (ko) * | 2004-05-14 | 2005-11-17 | 세메스 주식회사 | 복수의 토출로를 가지는 노즐 및 이를 사용하여 기판을세정하는 장치 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107447176A (zh) * | 2017-09-22 | 2017-12-08 | 江苏大力神科技股份有限公司 | 一种双气刀锌花控制装置 |
KR20230075043A (ko) | 2021-11-22 | 2023-05-31 | 주식회사 포스코 | 에어나이프 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3070511B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
JP2008068223A (ja) | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | |
CN105605909A (zh) | 基板清洗方法 | |
US20200110391A1 (en) | Cleaning device for display panel | |
KR100830129B1 (ko) | 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 | |
KR102166933B1 (ko) | 필름 세정 장치 | |
KR100785463B1 (ko) | 상압 플라즈마 처리 장치 | |
KR100762371B1 (ko) | 글라스 건조용 에어 나이프 | |
JP2000105078A (ja) | エアーナイフおよびそれを用いた乾燥処理装置 | |
KR100790479B1 (ko) | 에어 나이프 건조장치 | |
KR101077486B1 (ko) | 대면적 기판 이송장치 | |
KR20060001140A (ko) | 액정표시장치의 제조를 위한 챔버형 장치 | |
JP3763696B2 (ja) | フィルム基板の製造方法 | |
KR20070100008A (ko) | 기판 이송장치 | |
KR101319092B1 (ko) | 러빙천 클리닝 장치 | |
KR20080109495A (ko) | 이온 에어 나이프 및 그를 이용한 기판 세정 시스템 | |
JP3866856B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20100103247A (ko) | 평판 디스플레이용 에어 나이프 건조장치 | |
JP2009279477A (ja) | 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法 | |
KR100366552B1 (ko) | 에어나이프 건조장치 | |
KR20030083129A (ko) | 플라즈마를 이용한 tft-lcd 세정방법 및 이를이용한 tft-lcd제조장비 | |
JP2007217752A (ja) | エッチング装置 | |
KR102090459B1 (ko) | 기판 세정장치 | |
KR20030076876A (ko) | 기판 건조장치 | |
KR102630779B1 (ko) | 에어 나이프 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130509 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140508 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150508 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160509 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170425 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180226 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190325 Year of fee payment: 12 |