KR100830129B1 - 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 - Google Patents

듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100830129B1
KR100830129B1 KR1020070039468A KR20070039468A KR100830129B1 KR 100830129 B1 KR100830129 B1 KR 100830129B1 KR 1020070039468 A KR1020070039468 A KR 1020070039468A KR 20070039468 A KR20070039468 A KR 20070039468A KR 100830129 B1 KR100830129 B1 KR 100830129B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
air knife
glass substrate
dual
knife
type bracket
Prior art date
Application number
KR1020070039468A
Other languages
English (en)
Inventor
정윤호
Original Assignee
주식회사 에이유테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이유테크 filed Critical 주식회사 에이유테크
Priority to KR1020070039468A priority Critical patent/KR100830129B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100830129B1 publication Critical patent/KR100830129B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • B08B5/023Cleaning travelling work
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 듀얼 에어 나이프를 이용한 건조 장치에 관한 것으로, 액정 표시 장치용 유리 기판의 대형화에 대응하여, 워터 마크 등의 기판 세정 불량 발생과 공정 생산 효율의 저하 및 두 쌍의 에어 나이프를 설치할 경우 불가피하게 발생하는 최소 유지 거리의 문제점을 해소할 수 있는 듀얼 에어 나이프를 이용한 건조 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 유리 기판의 건조 공정이 수행되는 공정 챔버; 공정 챔버의 일측 벽에 형성되어 유리 기판이 반입되는 입구와 반출되는 출구; 공정 챔버 내부로 반입된 유리 기판을 일 방향으로 이송하기 위한 복수 개의 제 1 구동 샤프트와 제 1 구동 샤프트에 구비된 다수의 구동 롤러; 제 1 구동 샤프트의 회전을 가능하게 해주는 제 2 구동 샤프트와 모터; 제 1 차 에어 나이프, 제 2 차 에어 나이프, 'ㄱ'형 브라켓으로 이루어져 유리 기판을 사이에 두고 서로에 대해 대칭되게 설치되는 듀얼 에어 나이프로 구성되어 있다.
기판 건조 장치, 듀얼 에어 나이프,

Description

듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 {Apparatus for Drying glass with a dual air knife installed}
도 1 은 종래의 유리 기판 건조 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2 는 도 1 에 도시된 종래의 유리 기판 건조 장치의 정면도이다.
도 3 은 종래기술의 문제점을 설명하기 위해 각각의 에어나이프가 도 2 의 최소유지거리를 두지 않고 연이어 설치된 두 쌍의 에어 나이프를 나타낸 평면도이다.
도 4 은 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프를 이용한 건조 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 5 는 본 발명에 따른 도 4 의 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치의 정면도이다.
도 6 는 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프의 부품 구성도이다.
도 7 은 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 조립되어 있는 사시도이다.
도 8 은 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 유리 기판을 사이에 두고 상하 한 쌍으로 설치되는 형태가 도시되어 있는 측면도이다.
** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 **
10, 100 : 공정 챔버 20 : 롤러 컨베이어
30, 110 : 제 1 구동 샤프트 35, 130 : 제 2 구동 샤프트
40, 120 : 구동 롤러 50, 140 : 모터
60, 65 : 에어 나이프 70, 160 : 입구
80, 170 : 출구 90, 180 : 유리 기판
150 : 듀얼 에어 나이프 190, 195 : 압축 공기 주입구
200 : 제 1 차 에어 나이프 210 : 제 2 차 에어 나이프
220 : 'ㄱ'형 브라켓 230 : 장홀
240 : 조임 볼트 250 : 평와셔
본 발명은 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 액정 표시 장치용 유리 기판의 세정액을 이용한 기판 세정 단계 이후, 유리 기판 표면에 남아 있는 물기를 제거하기 위해 기판 표면으로 압축 공기를 분사하는 에어 나이프 (air knife) 2 개를 한 개의 세트로 함께 설치하여 각각의 에어나이프가 서로 최소유지거리를 유지할 필요가 없고, 물기를 제거함에 있어서 얼룩이 생기지 않게 되는 것을 특징으로 하는, 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작고 저전압 구동형인 액정 표시 장치가 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나이다. 액정 표시 장치는 전극이 형성되어 있는 두 장의 유리 기판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어져 있으며, 두 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시켜 투과되는 빛의 양을 조절하는 표시 장치이다.
액정 표시 장치의 한 기판에는 전극에 인가되는 전압을 스위칭하는 박막 트랜지스터가 형성되어 있으며, 이러한 박막 트랜지스터 기판에는 박막 트랜지스터 외에도 박막 트렌지스터와 연결되어 있는 화소 전극, 게이트 신호를 인가받는 게이트선 및 데이터 신호를 인가받는 데이터선이 형성되어 있다. 다른 한 기판에는 컬러 필터와 공통 전극 등이 형성되어 있으며, 이를 컬러 필터 기판이라고 한다.
이러한 액정 표시 장치를 제조하기 위해 청정 공정, 세정 공정, 성막 공정 및 패터닝 공정등 다양한 공정들이 수행되며, 이들 중 세정 공정은 액정 패널의 수율을 향상시키기 위한 중요한 공정으로서 일반적으로 탈이온수 (deionized water)가 사용되며 초음파 세정, 브러싱(brushig) 세정, 린싱 (rinsing) 및 압축 건조 공기를 분사하여 기판에 남아 있는 탈이온수를 건조/제거 하는 건조 공정을 포함한다.
도 1 은 종래의 유리 기판 건조 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이고 도 2는 도 1 의 정면도이다.
도 1 및 도 2 를 참조하면, 유리 기판의 건조 공정이 수행되는 공정 챔버 (10), 공정 챔버 (10) 의 일측 벽에는 기판이 반입되는 입구 (70) 가 형성되고, 입 구 (70) 가 형성되는 일측 벽에 대향하는 타측 벽에는 기판 (90) 이 반출되는 출구 (80) 가 형성되어 있다.
종래의 공정 챔버 (10) 에는 유리 기판 (90) 을 이송시키키 위한 롤러 컨베이어 (20) 가 설치된다. 롤러 컨베이어 (20) 는 복수 개의 제 1 구동 샤프트 (30) 를 구비한다. 각각의 제 1 구동 샤프트 (30) 에는 유리 기판 (90) 에 접촉되어 그 기판(90) 을 안정적으로 이송시키기 위한 다수의 롤러 (40) 가 구비되어 있다. 롤러 컨베어이 (20) 외측에는 제 1 구동 샤프트 (30) 에 회전력을 발생시키는 제 2 구동 샤프트 (35) 와 모터 (50) 가 설치된다.
또한, 공정 챔버 (10) 내부에 이송된 유리 기판 (90) 표면의 물기를 제거하기 위해 에어 나이프 (60) 가 설치된다. 에어 나이프 (60) 는 유리 기판 (90) 의 진행 방향에 대하여 45°내지 90°의 각도를 갖도록 설치되며, 이송되는 기판 (90) 을 사이에 두고 서로에 대해 대칭되는 한 쌍의 형태로 공정 챔버 (10) 내부에 설치된다.
이 경우, 유리 기판 (90) 하면에 대응하여 설치되는 에어 나이프는 구동 롤러 (40) 와 구동 샤프트 (30) 가 간섭되지 않고 유리 기판 (90) 하면의 물기를 제거 할 수 있도록 설치된다.
한편, 대형화되어 가는 액정 표시 장치용 유리 기판 표면의 잔류 수분을 보다 완전하게 제거하여 기판 표면 불량율을 감소시키기 위하여 일반적으로, 상기 유리기판을 사이에 두고 상하의 한 쌍의 에어 나이프 (60) 후방에 적어도 한 쌍의 에어 나이프 (65) 가 일정 간격을 두고 추가로 설치되어 적어도 두 쌍의 에어 나이프 (60, 65) 로 이루어진 건조 장치로 구성한다.
도 3 은 종래기술의 문제점을 설명하기 위해 최소 유지 거리만큼의 간격을 두지 않고 연이어 설치된 두 쌍의 에어 나이프를 나타낸 평면도이다.
도 3 을 참조하면, 전방의 에어 나이프 (60) 와 후방의 에어 나이프 (65) 사이에 유리 기판 (90) 의 반송을 위한, 구동 롤러 (40) 가 구비된 제 1 구동 샤프트 (30) 의 설치 없이 두 쌍의 에어 나이프 (60, 65) 가 바로 연이어 설치되어 있다.
다만, 두 쌍의 에어 나이프 (60, 65) 사이에는 구동샤프트 (30) 와 구동롤러 (40) 가 설치될 수 있는 공간이 없어서 설치되어 있지 않다. 좀 더 자세히 설명하면, 에어나이프 (60, 65) 는 도 2 및 도 3 에서와 같이 높이와 측면의 2 방향으로 모두 기울어져 있기 때문에 구동샤프트 (30) 와 구동롤러 (40) 가 설치될 수 있는 공간적 여유가 없다.
상기와 같이 설치하는 경우 워터 마크가 발생하는 주요 원인 중 하나인 최소 유지 거리 (L) 를 제거할 수는 있지만, 전방의 에어 나이프 (60) 와 후방의 에어 나이프 (65) 사이에는 유리 기판 (90) 의 반송을 위한 구동 롤러 (40) 의 설치가 불가능해지므로 유리 기판 (90) 의 반송이 불안정하게 되어 유리 기판 (90) 의 파손이나 손상이 생길 수 있다. 대형 LCD, PDP 등의 보호유리의 안쪽에 설치되는 유리기판은 그 두께가 보통 약 0.7 mm 내지 3 mm 이기 때문에 유리기판을 전체적으로 지지해줄 필요가 있기 때문이다.
결국 대형 유리 기판의 건조 공정을 위해 두 쌍의 에어 나이프를 설치할 경우 유리 기판의 안정적 반송을 위해 에어나이프와 에어나이프 사이에도 구동롤러가 설치되어야만 하는 도 2의 최소 유지 거리 (L) 의 발생이 불가피해진다.
상기와 같은 종래의 건조 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.
첫째, 유리 기판 건조 장치에 설치되는 에어 나이프의 경우 물기 제거율이 95% 이상을 유지하여야 한다. 그러나 액정 표시 장치용 유리 기판이 대형화됨에 따라 종래 에어 나이프의 물기 제거율이 95% 이하로 되는 경우가 더 자주 발생되고 있다. 당해 수치 이하로 물기가 제거되었을 경우 유리 기판 표면에 물방울이 형성된다. 이 물방울은 상온에서 순간적으로 증발되어 증발과 동시에 워터 마크(water mark)가 발생한다. 발생된 워터 마크는 유리 기판 세정 불량으로 판별되어 LCD 공정이 중단됨으로써 공정 생산 효율성을 저하시킨다.
둘째, 액정 표시 장치용 유리 기판이 대형화됨에 따라 증가되는 워터 마크 발생을 최소화하기 위해 일반적으로 한 쌍의 에어 나이프 후방에 적어도 한 쌍의 에어 나이프가 일정 간격을 두고 추가로 설치된다. 이 경우 두 쌍의 에어 나이프 사이에는 유리 기판의 안정적 반송을 위한, 구동 롤러가 구비된 구동 샤프트의 장착이 불가피하므로 전방의 에어 나이프와 후방의 에어 나이프 사이에는 도 2의 최소 유지 거리 (L) 가 발생하게 된다.
전방의 에어 나이프 (60) 에 의한 1 차 건조 단계에서 제거되지 못한 잔류 수분이 5% 이상 존재하게 될 경우, 잔류 수분 중 일부는 상기 최소 유지 거리 (L) 로 인해 후방 에어 나이프 (65) 에 의한 2 차 건조 단계에 도달하기 전에 증발되어 워터 마크를 발생시켜 완벽한 세정을 보장할 수 없게 된다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 여러 가지 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 30 인치 이상의 대형 유리 기판에 대응하여, 워터 마크 등의 기판 세정 불량 발생과 이로 인한 공정 생산 효율성의 저하를 해소할 수 있는, 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 두 쌍의 에어 나이프를 설치할 경우 불가피하게 발생하는 최소 유지 거리 (L) 의 문제점을 해소할 수 있는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 한 개의 듀얼 에어 나이프 설치로 종래의 싱글 타입 에어 나이프를 2개 설치한 것과 같은 효과를 발휘할 수 있어 유리 기판 건조 장치의 부피와 기판의 공정 시간을 감소시킬 수 있는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 공정 유리 기판의 두께가 변경될 경우 이에 대응하여 에어 나이프의 유리 기판과의 간격 거리를 용이하게 조절할 수 있는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치를 제공하는 것이다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치는, 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치로서, 유리 기판 (180) 의 건조 공정이 수행되고, 상기 유리 기판 (180) 이 반입되는 입구 (160) 와 반출되는 출구 (170) 가 형성되어 있는 공정 챔버 (100); 상기 공정 챔버 (100) 내로 반입된 유 리 기판 (180) 을 일 방향으로 반송하기 위한 구동 롤러 (120) 와 제 1 구동 샤프트 (110); 상기 제 1 구동 샤프트 (110) 에 회전력을 발생시켜 주는 제 2 구동 샤프트 (130) 와 모터 (140) ; 및 반송되는 유리 기판 (180) 표면으로 압축 공기를 분사하는 적어도 하나의 듀얼 에어 나이프 (150) 를 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 듀얼 에어 나이프 (150) 는 1차적으로 일정량의 물기를 제거하는 제 1 차 에어 나이프 (200); 2차적으로 잔류 수분을 제거하는 제 2 차 에어 나이프 (210); 및 상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 을 결합하기 위한 'ㄱ'형 브라켓 (220) 을 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 동일한 두께, 동일한 가로 길이 및 서로 다른 세로 길이로 구성되는 것을 특징으로 하고,
상기 제 1 차 에어 나이프 (200)의 압축 공기 사용량은 제 2 차 에어 나이프 (210) 압축 공기 사용량의 55% 내지 75% 인 것을 특징으로 하고,
상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 각각의 일면에 압축 공기 주입구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하고,
상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 은 제 1차 에어 나이프 (200) 의 세부적 위치 조절을 가능하게 해주는 장홀 (230) 이 형성되어 있는 것을 특징으로 하고,
상기 유리 기판 (180) 은 30인치 이상의 대형 유리 기판 (180) 인 것을 특징으로 한다.
이하에서, 본 고안의 장점, 특징 및 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여상세하게 살펴보고자 한다.
도 4 은 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이고, 도 5 는 본 발명에 따른 도 4 의 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치의 정면도이다.
도 4 및 도 5 를 참조하면, 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프 건조 장치는 액정 표시 장치의 유리기판의 세정 공정에 있어서 건조 공정을 수행하는 공정 챔버 (100), 공정 챔버 (100) 의 일측 벽에 형성되어 유리 기판 (180) 이 반입되는 입구 (160), 입구 (160) 가 형성되는 일측 벽에 대향하는 타측 벽에 형성되어 유리 기판 (180) 이 반출되는 출구 (170), 공정 챔버 (100) 내부로 반입된 유리 기판 (180) 을 일 방향으로 이송하기 위한 복수 개의 제 1 구동 샤프트 (110) 와 제 1 구동 샤프트 (110) 에 구비된 다수의 구동 롤러 (120), 제 1 구동 샤프트 (110) 의 회전을 가능하게 해주는 제 2 구동 샤프트 (130) 와 모터 (140), 공정 챔버 (100) 내부로 반입되어 이송되는 유리 기판 (180) 을 사이에 두고 서로에 대해 대칭되게 설치되는 듀얼 에어 나이프 (150) 를 포함하도록 구성되어 있다.
본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치는 공정 챔버 (100) 내부로 반입된 유리 기판 (180) 이 구동 롤러 (120) 에 의해서 유리 기판 (180) 의 상하면 모두가 노출된 상태로 슬라이딩 운반된다. 이 때 에어 나이프 (150) 를 통 해 분사되는 압축 공기에 의해서 유리 기판 (180)의 상. 하면에 존재하는 잔류 수분이 유리 기판 (180) 의 진행 방향과 반대 방향으로 밀려나가 결국 유리 기판 (180) 모서리 말단의 꼭지점에서 최종적으로 건조 및 제거된다.
도 6 은 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치의 구성 요소인 듀얼 에어 나이프의 부품 구성도이고, 도 7 은 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 조립된 모습을 나타낸 사시도 이다.
도 6 및 도 7 을 참조하면, 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치의 듀얼 에어 나이프 (150) 는 각각 일면에 복수 개의 공기 주입구 (190, 195) 가 형성되어 있는 서로 다른 크기의 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210), 제 1 차 에어 나이프 (200)와 제 2 차 에어 나이프 (210) 를 결합시키기 위한 'ㄱ' 형 브라켓 (220) 을 포함하도록 구성되어 있다.
본 발명에 따른 제 1 차 에어 나이프 (200) 는 일면에 복수 개의 공기 주입구 (190)가 있으며 제 2 차 에어 나이프 (210) 보다 짧은 세로 길이로 이루어져 있다. 제 1 차 에어 나이프 (200) 의 압축 공기 사용량은 55% 내지 75% 이며 바람직하게는 65% 정도이다. 이는 1차적으로 적은 힘의 공기 압력으로 일정량의 물을 밀어내기 위함이다.
본 발명에 따른 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 일면에 복수 개의 공기 주입구 (195) 가 있으며 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 두께 및 가로 길이는 동일하지만 세로 길이는 더 길게 구성되어져 있다.
본 발명에 따른 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 제 1 차 에어 나이프 (200) 후면에 결합된다. 제 2 차 에어 나이프 (210) 의 압축 공기 사용량은 100% 로써 이는 제 1 차 에어 나이프 (200) 보다 강한 압력으로 나머지 잔량의 물을 한번에 밀어내기 위함이다.
제 1 차 에어 나이프 (200) 에 의해 일정량의 물이 1차적으로 제거된 후 시간적 간격을 두지 않고 바로 제 2 차 에어 나이프 (210) 에 의해 잔량의 물을 제거함으로써 물기 제거 효율이 종래의 싱글 타입 (Single Type) 의 에어 나이프 (60) 에 비해 2 배 정도의 효과가 있으며 95% 이상의 물기 제거율이 보장된다.
이는 듀얼 에어 나이프의 경우 제 1 차 에어 나이프 (200) 에 의해 1차적으로 일정량의 물을 제거함으로써 잔량의 물의 단면적이 감소되어 결과적으로 싱글 타입의 에어 나이프 (60) 에 비해 가해지는 압력이 배가되는 원리를 이용한 것이다.
본 발명에 따른 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 장홀 (230) 을 구비한 'ㄱ'형 브라켓 (220) 으로 결합된다. 공정 유리 기판 (180) 의 두께가 변경될 경우 듀얼 에어 나이프 (150) 와 유리 기판의 간격 거리를 최적으로 하기 위해 경사각 (θ) 의 재조절이 필요해 진다.
경사각 (θ) 의 재조절을 위해 듀얼 에어 나이프 (150) 를 회전시킬 경우 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 가 결합되어 움직이는 듀얼 에어 나이프 (150) 의 구조적 특성상 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 의 유리 기판 (180) 과의 간격 거리가 각각 달라지게 되어 제 1 차 에어 나이프의 세부적 상하 위치 조절이 필요하게 된다.
이는 'ㄱ'형 브라켓 (220) 의 장홀 (230) 에 구비된 조임 볼트 (240) 와 평와셔 (250) 의 조임 위치 선택에 의한 제 1 차 에어 나이프 (200) 의 상하 위치 조절을 통해 제 1 차 에어 나이프 (200) 의 유리 기판 (180) 과의 간격 거리를 재조정할 수 있다.
본 발명에 따른 제 1 차 에어 나이프 (200), 제 2 차 에어 나이프 (210), 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어나이프 (210) 각각의 일면에 형성된 복수 개의 공기 주입구 (190,195) 및 'ㄱ'형 브라켓 (220) 으로 구성되어지는 듀얼 에어나이프 (150) 는 유리 기판 (180) 을 중심으로 서로 대칭되게 상하 한 쌍으로 설치된다.
또한 건조 장치에 설치되는 적어도 한 쌍의 듀얼 에어 나이프 (150) 는 효율적인 물기의 건조 및 제거를 위해 유리 기판 (180) 의 진행 방향에 대해 45°내지 90°의 각도를 갖도록 설치된다.
도 8 은 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 유리 기판을 사이에 두고 상하 한쌍으로 설치되는 형태를 나타낸 측면도이다.
도 8 을 참조하면, 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프 (150) 의 제 1 차 에어나이프 (200) 의 압축 공기 사용량은 55% 내지 75% 이며 바람직하게는 65% 정도이다. 이는 최소한의 압축 공기 사용으로 물기 제거율을 95% 이상으로 유지하여 워터 마크 발생과 같은 유리 기판 세정 불량의 해소를 보장함과 동시에 건조 공정의 비용을 절감하기 위한 수치이다.
본 발명에 따른 제 2 차 에어 나이프 (210) 의 압축 공기 사용량은 100% 로써 이는 종래의 싱글 타입 에어 나이프 (60)에 사용되어지는 압축 공기 사용량과 동일하다.
본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프에 쓰이는 압축 공기량은 종래의 싱글 타입 에어 나이프의 1.6 배 정도 되지만 그 효과는 2 배가 되어 일정 면적, 일정 시간 내에 대형 유리 기판의 세정 불량을 최소화하며 빠르게 건조하는데 유리하다.
본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치에 의하면, 30 인치 이상의 대형 유리 기판의 건조 공정에 있어서도 95% 이상의 물기 제거 효율을 보장하여 최소 유지 거리에 의한 워터 마크 발생 등의 유리 기판 세정 불량을 해소함으로써, 공정 생산 효율성 및 기판 표면 품질을 향상시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치에 의하면, 한 개의 듀얼 에어 나이프 설치로 종래의 싱글 타입 에어 나이프를 2개 설치한 것과 같은 효과를 발휘할 수 있어 건조 장치의 부피와 기판의 공정 시간을 감소시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치에 의하면, 브라켓에 구비된 장홀을 통해 유리 기판과 제 1 에어 나이프의 간격 거리를 별도로 조절할 수 있어 유리 기판 두께의 변화에 대해 용이하게 대응할 수 있는 현저한 효과 가 있다.
상기에서 본 발명의 특정한 실시예가 설명 및 도시되었지만, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다. 이와 같은 변형된 실시 예들은 본 발명의 사상 및 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 본 발명에 첨부된 청구범위 안에 속한다고 해야 할 것이다.

Claims (7)

  1. 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치로서,
    유리 기판 (180) 의 건조 공정이 수행되고, 상기 유리 기판 (180) 이 반입되는 입구 (160) 와 반출되는 출구 (170) 가 형성되어 있는 공정 챔버 (100);
    상기 공정 챔버 (100) 내로 반입된 유리 기판 (180) 을 일 방향으로 반송하기 위한 구동 롤러 (120) 와 제 1 구동 샤프트 (110);
    상기 제 1 구동 샤프트 (110) 에 회전력을 발생시켜 주는 제 2 구동 샤프트(130)와 모터 (140) ; 및
    상기 반송되는 유리 기판 (180) 표면으로 압축 공기를 분사하는 적어도 하나의 듀얼 에어 나이프 (150) 를 포함하고,
    상기 듀얼 에어 나이프 (150) 는 1 차적으로 일정량의 물기를 제거하는 제 1 차 에어 나이프 (200);
    2 차적으로 잔류 수분을 제거하는 제 2 차 에어 나이프 (210); 및
    상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 을 결합하기 위한, 장홀 (230) 이 형성된 'ㄱ'형 브라켓 (220) 을 포함하고,
    상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 은 제 2 차 에어 나이프 (210) 와 움직이지 않도록 고정되게 결합되고,
    상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 는, 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 이 상기 제 2 차 에어 나이프 (210) 에 고정되게 결합된 상태에서, 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 과 상기 제 2 차 에어 나이프 (210) 사이의 개방된 공간으로 삽입되게 배치되고,
    상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 는 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 의 장홀 (230) 을 통과한 조임 볼트 (240) 에 의해 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 에 고정되고,
    상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 의 장홀 (230) 은 상기 제 1 차 및 제 2 차 에어 나이프 (200, 210) 로부터 압축 공기가 분사되는 방향으로 길게 개방되도록 형성되고,
    상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 가 상기 'ㄱ'형 브라켓 (220) 에 고정되는 위치는 상기 장홀 (230) 의 길이 범위 내에서 조정이 가능하여, 상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 유리 기판 (180) 과의 간격 거리를 조정할 수 있는 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 동일한 두께, 동일한 가로 길이 및 서로 다른 세로 길이로 구성되는 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 차 에어 나이프 (200)의 압축 공기 사용량은 제 2 차 에어 나이프 (210) 압축 공기 사용량의 55% 내지 75% 인 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 차 에어 나이프 (200) 와 제 2 차 에어 나이프 (210) 는 각각의 일면에 압축 공기 주입구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
  6. 삭제
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 유리 기판 (180) 은 30인치 이상의 대형 유리 기판 (180) 인 것을 특징으로 하는 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치.
KR1020070039468A 2007-04-23 2007-04-23 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치 KR100830129B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070039468A KR100830129B1 (ko) 2007-04-23 2007-04-23 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070039468A KR100830129B1 (ko) 2007-04-23 2007-04-23 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100830129B1 true KR100830129B1 (ko) 2008-05-20

Family

ID=39664462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070039468A KR100830129B1 (ko) 2007-04-23 2007-04-23 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100830129B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107447176A (zh) * 2017-09-22 2017-12-08 江苏大力神科技股份有限公司 一种双气刀锌花控制装置
KR20230075043A (ko) 2021-11-22 2023-05-31 주식회사 포스코 에어나이프

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050109259A (ko) * 2004-05-14 2005-11-17 세메스 주식회사 복수의 토출로를 가지는 노즐 및 이를 사용하여 기판을세정하는 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050109259A (ko) * 2004-05-14 2005-11-17 세메스 주식회사 복수의 토출로를 가지는 노즐 및 이를 사용하여 기판을세정하는 장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107447176A (zh) * 2017-09-22 2017-12-08 江苏大力神科技股份有限公司 一种双气刀锌花控制装置
KR20230075043A (ko) 2021-11-22 2023-05-31 주식회사 포스코 에어나이프

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3070511B2 (ja) 基板乾燥装置
JP2008068223A (ja) 基板洗浄装置及び基板洗浄方法
CN105605909A (zh) 基板清洗方法
US20200110391A1 (en) Cleaning device for display panel
KR100830129B1 (ko) 듀얼 에어 나이프가 설치된 건조 장치
KR102166933B1 (ko) 필름 세정 장치
KR100785463B1 (ko) 상압 플라즈마 처리 장치
KR100762371B1 (ko) 글라스 건조용 에어 나이프
JP2000105078A (ja) エアーナイフおよびそれを用いた乾燥処理装置
KR100790479B1 (ko) 에어 나이프 건조장치
KR101077486B1 (ko) 대면적 기판 이송장치
KR20060001140A (ko) 액정표시장치의 제조를 위한 챔버형 장치
JP3763696B2 (ja) フィルム基板の製造方法
KR20070100008A (ko) 기판 이송장치
KR101319092B1 (ko) 러빙천 클리닝 장치
KR20080109495A (ko) 이온 에어 나이프 및 그를 이용한 기판 세정 시스템
JP3866856B2 (ja) 基板処理装置
KR20100103247A (ko) 평판 디스플레이용 에어 나이프 건조장치
JP2009279477A (ja) 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法
KR100366552B1 (ko) 에어나이프 건조장치
KR20030083129A (ko) 플라즈마를 이용한 tft-lcd 세정방법 및 이를이용한 tft-lcd제조장비
JP2007217752A (ja) エッチング装置
KR102090459B1 (ko) 기판 세정장치
KR20030076876A (ko) 기판 건조장치
KR102630779B1 (ko) 에어 나이프

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130509

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140508

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150508

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160509

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170425

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180226

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190325

Year of fee payment: 12