JP4288026B2 - 装着ツール及びicチップの装着方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、メモリチップなどのICチップを封止樹脂を介して基板に加熱加圧して装着するとき封止樹脂を成形する装着ツール及びその装着ツールを利用するICチップの装着方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の装着ツールは種々の構造のものが知られている。例えば、図12に示すように、メモリチップなどのICチップ15と大略同一面積の加圧面を持つ直方体形状の加熱加圧ツール311が知られている。このような加熱加圧ツール311を使用してICチップ15を基板21に装着するときは、以下のように行われる。
【0003】
まず、図28及び図29に示すように、ステージ250に保持された長方形状の基板21上に、封止樹脂よりなる長方形状の封止シート260を載置する。次いで、図30及び図31に示すように、長方形状のICチップ15を例えば吸着保持した直方体形状の加熱加圧ツール311で、ICチップ15を封止シート260を介して基板21に向けて加熱加圧して、封止シート260の封止樹脂を軟化させつつ基板21の各電極21pとICチップ15の各電極15pとを接触させて、基板21上にICチップ15を接合するとともに、基板21とICチップ15との間に上記封止シート260の封止樹脂を充填させてフィレットを形成させてICチップモジュールを形成するようにしたものがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構造のものでは、加熱加圧ツール311によりICチップ15を基板21に向けて加熱加圧するとき、図32及び図33に示すように、封止シート260の封止樹脂の粘度が低下し、ICチップ15と基板21との間から封止樹脂が外向きに流れ出してICチップ15の端面の中央部側へ封止樹脂が流動することにより、ICチップ15の各角部分に封止樹脂が減少してフィレット不足になる一方、ICチップ15の端面の中央部付近では、図13及び図14に示すように、ICチップ15の上面よりも高く突き出た突起部261をICチップ15の側面の近傍に有するフィレットを形成することになる。このような突起部261を有するフィレットを持つICチップモジュールに図15に示すように外装ケース251を取り付けてICチップ15を外装ケース251内に収納すると、突起部261が外装ケース251に接触して外装ケース251を局部的に押圧し、図16に示すように外装ケース251にクラック252を発生させて破壊させることがある。
【0005】
また、別の場合には、加熱加圧ツール311によりICチップ15を基板21に向けて加熱加圧するとき、ICチップ15と基板21との間から封止シート260が軟化した封止樹脂が外向きに流れ出し、図17及び図18に示すように、ICチップ15の周囲においてICチップ15の上面よりも高く突き出た角状の突起部262をICチップ15の側面沿いに有するフィレットを形成することがある。このような角状の突起部262を有するICチップ装着部品では、角状の突起部262が折れやすく、角状の突起部262が折れると、図19に矢印253で示すように、ICチップ15の端面の剥離を招き、この剥離により矢印254に示す部分で水分が侵入してしまいICチップ15の耐湿性能が低下したり、耐熱応力特性が低下してしまい、信頼性が低下することになる。また、このような場合において、特に、図20及び図21に示すように角状の突起部262が尖がったものである場合には、角状の突起部262が非常に折れやすくなる。
【0006】
このように、フィレット高さがICチップ15の上面より高くなり、角状に突起部261又は262が形成されてしまうと、ICチップ15が基板21に装着されて構成されるICチップモジュールの薄型化に障害が生じることになる。
【0007】
ところが、図22に示すように、ICチップ15Tが十分に厚いときには、封止シート260の加熱加圧ツール311側への這い上がりが発生しても、図23に示すようにICチップ15Tの上面より突出することがなく、ICチップ15Tの側面で自然に止まるため、上記したような不具合は生じない。
【0008】
すなわち、ICチップ15の厚さが例えば約0.1mm以下となるなどICチップ15の薄型化が進むにつれて、フィレットがICチップ15の上面より突出することが多くなると、上記したように、突起部261が外装ケース251に接触して局部的に押圧して外装ケース251にクラック252を発生させて破壊させたり、角状の突起部262が折れて、ICチップ15の端面の剥離を招き、この剥離によりICチップ15の耐湿性能が低下したり、耐熱応力特性が低下してしまい、信頼性が低下するといった問題が生じ、さらには、ICチップモジュールの薄型化に障害が生じるといった問題が多発することが考えられる。
【0009】
また、基板21の両面にICチップ15を装着するにあたり、図24に示すように直方体形状の加熱加圧ツール313により、ステージ150に保持された基板21の一方の面にICチップ15を封止シート260を介して装着したとき、図25に示すように、封止シートが軟化した封止樹脂の一部がICチップ15と基板21との間からはみ出て、加熱加圧ツール313の側面沿いにICチップ15の上面よりも高くなり、角状の突起部266が形成されることがある。このような角状の突起部266を有するフィレットが形成された基板21の上記一方の面をステージ150上に載置し、基板21の他方の面を上向きとした上で、封止シート260を介してICチップ15を加熱加圧ツール313により加熱加圧して基板21の他方の面に装着するとき、図26に示すように、角状の突起部266がステージ150の上面に接触して、ステージ150の上面に対して基板21の上記一方の面が傾斜することになり、加熱加圧ツール313の加圧面に対して基板21の他方の面が傾斜することになり、図27に示すように、加熱加圧ツール313の加圧面と基板21との隙間のうち左端側の隙間G1が右端側の隙間G2よりも大きくなり、特に、基板21の左端側でICチップ15の電極と基板21の電極との接合が確実に行なえず、接合不良が生じる可能性があるといった問題があった。
【0010】
また、図28及び図29は、長方形の基板21上に長方形の封止シート260を中心を合わせて載置した状態を示している。
【0011】
次いで、図30及び図31は、長方形のICチップ15を封止シート260の上に中心を合わせて載置し、直方体形状の加熱加圧ツール311により加熱加圧する。
【0012】
すると、図32及び図33に示すように、加熱加圧ツール311による加熱加圧時に、封止シート260の封止樹脂の粘度が低下し、ICチツプ15の端面の中央部側へ封止樹脂が流動することにより、角部分に封止樹脂が減少してフィレット不足になることがある。
【0013】
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、上記したような突起部が無くかつICチップの各角部にもフィレットを確実に形成することができ、ICチップと基板との電極間の接合不良を無くし、かつ、信頼性向上を実現させることができる装着ツール及びその装着ツールを利用するICチップの装着方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
【0015】
本発明の第1態様によれば、ICチップを封止樹脂を介して基板に加熱加圧して装着する装着ツールにおいて、
加熱加圧時に上記ICチップと上記基板との間からはみ出す上記封止樹脂を、上記基板に対して装着後の上記ICチップの表面以下に規制する封止樹脂規制部を備えるようにした装着ツールであって、
上記規制部は、上記ICチップの被加圧面に接触して上記ICチップを押圧する加圧面と、内側側面が上記基板の厚み方向沿いである枠形状であって、上記加圧面と共働して上記封止樹脂を直方体形状に成形するフィレット成形部と、上記フィレット成形部の下端面に形成された湾曲面と、を備えたことを特徴とする装着ツールを提供する。
【0020】
本発明の第2態様によれば、上記規制部の上記加圧面は、上記ICチップの周囲が上記封止樹脂で囲まれる領域よりも大きな面積を有する第1態様に記載の装着ツールを提供する。
【0021】
本発明の第3態様によれば、上記ICチップが長方形であり、上記規制部の上記フィレット成形部の枠形状の内側で形成される形状は、上記ICチップの形状の相似形状である第1または2態様に記載の装着ツールを提供する。
【0022】
本発明の第4態様によれば、装着ツールにより加熱加圧することにより、ICチップを封止樹脂を介して基板に装着し、
上記加熱加圧時に、上記ICチップと上記基板との間からはみ出す上記封止樹脂を、上記装着ツールの封止樹脂規制部により、上記基板に対して装着後の上記ICチップの表面以下に規制するICチップの装着方法であって、
上記規制部は、上記ICチップの被加圧面に接触して上記ICチップを押圧する加圧面と、内側側面が上記基板の厚み方向沿いである枠形状であって、上記加圧面と共働して上記封止樹脂を直方体形状に成形するフィレット成形部と、上記フィレット成形部の下端面に形成された湾曲面と、を備えたことを特徴とするICチップの装着方法を提供する。
【0024】
本発明の第5態様によれば、第4態様に記載のICチップの装着方法により上記ICチップが上記基板に装着されて構成されるモジュールが筐体内に収納されたモジュール部品を提供する。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【0026】
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態にかかる装着ツールは、図1に示すように、封止樹脂規制部の一例である、加熱加圧ツール100の加圧面100aをICチップの一例としてのメモリチップ15の大きさに加えて、メモリチップ15の周囲にフィレットが十分に形成できる程度まで大きくしたものである。上記加圧面100aは、上記メモリチップ15の被加圧面に接触して上記メモリチップ15を押圧し、かつ、上記メモリチップ15の被加圧面に接触する加圧領域より大きく、かつ、上記メモリチップ15の周囲が封止樹脂で囲まれる領域よりも大きな面積を有している。この封止樹脂で囲まれる領域の一例としては、メモリチップ15の周囲に、最低限1mm程度の幅の領域をとすればよく、基板上で隣接する他のICチップなどの部品に接触しないようにする。
【0027】
この結果、図1に示すように、ステージ150に保持され、かつ、上記ICチップが装着される基板の一例としてのメモリ用基板21上にフィレット形成用封止シート209を載置し、次いで、メモリチップ15を封止シート209上に載置したのち、加熱加圧ツール100の加圧面100aをメモリチップ15に接触させて、加熱加圧ツール100により、メモリチップ15を封止シート209を介してメモリ用基板21側に押圧する。このとき、加熱も同時に行うことにより、図2に示すように、封止シート209の封止樹脂が、メモリ用基板21と加熱加圧ツール100の加圧面100aとの間で、メモリチップ15とメモリ用基板21との間が外向きに矢印に示すように流れ出す。しかしながら、図3に示すように、加熱加圧ツール100の加圧面100aが、メモリチップ15の大きさに加えてメモリチップ15の周囲にフィレットが十分に形成できる程度まで十分に大きな面積を有するため、封止シート209の封止樹脂がメモリチップ15の周囲を取り囲むように成形される。加熱加圧ツール100による加熱加圧が終了すると、この状態のまま冷却固化される。この結果、図4に示すように、封止シート209の封止樹脂の上面209aとメモリチップ15の上面とが大略一致した状態のメモリチップモジュールができる。
【0028】
従って、加熱加圧ツールの加圧面がメモリチップ15の大きさ程度の場合には、メモリチップ15の周囲に回り込んだ封止樹脂がメモリチップ15の側面を這い上がって角状の突起部を形成することになる。しかしながら、上記第1実施形態によれば、加熱加圧ツール100の加圧面100aが、メモリチップ15の大きさに加えてメモリチップ15の周囲にフィレットが十分に形成できる程度まで十分に大きな面積を有するようにしているため、メモリチップ15の周囲例えば端面面の中央部に回り込んだ封止樹脂がメモリチップ15の側面を這い上がることができず、角状の突起部を形成することがない。よって、メモリチップ15の各角部に確実にフィレットが形成できるとともに、角状の突起部によるメモリ用基板21に対するメモリチップ15の接合不良を確実に無くすことができ、かつ、信頼性向上を実現させることができる。また、角状の突起部が無いため、外装部品にクラックを発生させて破壊してり、角状の突起部が折れてメモリチップ15の一部に剥離を生じさせて耐湿性能が低下し耐熱応力特性が低下し信頼性が低下することが無いとともに、メモリチップモジュールの薄型化を妨げることもない。
【0029】
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態にかかる装着ツールは、図5に示すように、加熱加圧ツール111の下面に、メモリチップ15の被加圧面(ここでは上面)に接触して上記メモリチップ15を押圧する長方形又は正方形の平坦なメモリチップ加圧面111cと、その周囲に配置されかつ内側側面に下向きに広がるように傾斜した傾斜面111aを有する断面三角形の枠状のフィレット成形部111bを備えている。
【0030】
このツール111において、メモリチップ加圧面111cを長方形又は正方形とするのは、長方形又は正方形のメモリチップ15に対応するためである。すなわち、要するに、メモリチップ加圧面111cの形状はメモリチップ15の形状に対応し、かつ、メモリチップ15の上面より大きな形状で、好ましくは、メモリチップ15の形状の大略相似形状とする。また、上記フィレット成形部111bの枠形状は、少なくとも、上記フィレット成形部111bにより成形されるフィレットのメモリ用基板上での形状すなわちフィレットの底面形状がメモリチップ15のメモリ用基板側の底面形状よりも大きく、上記メモリチップ15の周囲が封止樹脂で囲まれる領域よりも大きくするのが好ましい。例えば、上記メモリチップ15が長方形である場合には、メモリチップ加圧面111cの形状も長方形とし、上記フィレット成形部111bの枠形状もその平面が長方形であるようにするのが好ましい。
【0031】
この加熱加圧ツール111では、メモリチップ加圧面111cとフィレット成形部111bとにより封止樹脂規制部の一例を構成している。
【0032】
このような構成によれば、図5及び図6に示すように、メモリ用基板21がステージ150に保持されかつ封止シート211がメモリ用基板21上に載置された状態で、メモリチップ15を例えば吸着保持した加熱加圧ツール111が下降して、フィレット成形部111b内に、上記メモリチップ15とフィレット形成用封止シート211とを入り込ませて、メモリチップ加圧面111cで上記メモリチップ15をメモリ用基板21に対して封止シート211を介して加熱加圧する。この結果、メモリ用基板21上でかつフィレット成形部111b内で封止シート211が流動化し、メモリ用基板21上で、メモリチップ15の側面を大略すべて覆いかつ外側面として傾斜側面211aを有する縦断面台形状に封止樹脂が成形される。その後、加熱を停止したのち、図7に示すように、加熱加圧ツール111が上昇すると、封止樹脂が冷却固化されて、メモリ用基板21上で、メモリチップ15の側面を大略すべて覆いかつ傾斜側面211aを有する縦断面台形状のフィレットが形成されたメモリチップモジュールができる。
【0033】
このような構成によれば、加熱加圧ツール111はフィレット成形部111bと平坦なメモリチップ加圧面111cとを有しているため、メモリチップ15の周囲、特に、端面の中央部に回り込もうとする封止シート211の封止樹脂がメモリチップ15の側面を這い上がることができず、角状の突起部を形成することがない。よって、メモリチップ15の各角部に確実にフィレットが形成できるとともに、角状の突起部によるメモリ用基板21に対するメモリチップ15の接合不良を確実に無くすことができ、かつ、信頼性向上を実現させることができる。また、角状の突起部が無いため、外装部品にクラックを発生させて破壊してり、角状の突起部が折れてメモリチップ15の一部に剥離を生じさせて耐湿性能が低下し耐熱応力特性が低下し信頼性が低下することが無いとともに、メモリチップモジュールの薄型化を妨げることもない。
【0034】
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態にかかる装着ツールは、図8に示すように、加熱加圧ツール112の下面に、メモリチップ15の被加圧面(ここでは上面)に接触して上記メモリチップ15を押圧する長方形又は正方形の平坦なメモリチップ加圧面112cと、内側側面112aが上記基板の厚み方向沿いであってメモリチップ加圧面112cの周囲に配置された断面長方形の枠状のフィレット成形部112bを備えている。
【0035】
このツール112において、メモリチップ加圧面112cを長方形又は正方形とするのは、長方形又は正方形のメモリチップ15に対応するためである。すなわち、要するに、メモリチップ加圧面112cの形状はメモリチップ15の形状に対応し、かつ、メモリチップ15の上面より大きな形状で、好ましくは、メモリチップ15の形状の大略相似形状とする。また、上記フィレット成形部112bの枠形状は、少なくとも、上記フィレット成形部112bにより成形されるフィレットのメモリ用基板上での形状すなわちフィレットの底面形状がメモリチップ15のメモリ用基板側の底面形状よりも大きく、上記メモリチップ15の周囲が封止樹脂で囲まれる領域よりも大きくするのが好ましい。例えば、上記メモリチップ15が長方形である場合には、メモリチップ加圧面112cの形状も長方形とし、上記フィレット成形部112bの枠形状もその平面が長方形であるようにするのが好ましい。
【0036】
この加熱加圧ツール112では、メモリチップ加圧面112cとフィレット成形部112bとにより封止樹脂規制部の一例を構成している。
【0037】
なお、図9に示すように、フィレット成形部112bの下端面には、湾曲した湾曲面112dを形成して、フィレット形成用封止シート212を円滑にフィレット成形部112b内に入り込ませるようにしてもよい。
【0038】
このような構成によれば、図8、図10、図34、及び図35に示すように、メモリ用基板21がステージ150に保持されかつ封止シート212がメモリ用基板21上に載置された状態で、メモリチップ15を例えば吸着保持した加熱加圧ツール112が下降して、フィレット成形部112b内に、上記メモリチップ15と封止シート212とを入り込ませて、メモリチップ加圧面112cで上記メモリチップ15をメモリ用基板21に対して封止シート212を介して加熱加圧する。この結果、メモリ用基板21上でかつフィレット成形部112b内で封止シート212が流動化し、メモリ用基板21上で、メモリチップ15の側面を大略すべて覆いかつ外側面が上記メモリ用基板21の厚み方向沿いである縦断面長方形状の直方体状の封止樹脂が成形される。その後、加熱を停止したのち、図11、図36、及び図37に示すように、加熱加圧ツール112が上昇すると、封止樹脂が冷却固化されて、メモリ用基板21上で、メモリチップ15の側面を大略すべて覆う縦断面長方形状のフィレットが形成されたメモリチップモジュールができる。
【0039】
このような構成によれば、加熱加圧ツール112はフィレット成形部112bと平坦なメモリチップ加圧面112cとを有しているため、メモリチップ15の周囲、特に、端面の中央部に回り込もうとする封止シート212の封止樹脂がメモリチップ15の側面を這い上がることができず、角状の突起部を形成することがない。よって、図37に示すようにメモリチップ15の各角部に確実にフィレットが形成できるとともに、角状の突起部によるメモリ用基板21に対するメモリチップ15の接合不良を確実に無くすことができ、かつ、信頼性向上を実現させることができる。また、角状の突起部が無いため、外装部品にクラックを発生させて破壊してり、角状の突起部が折れてメモリチップ15の一部に剥離を生じさせて耐湿性能が低下し耐熱応力特性が低下し信頼性が低下することが無いとともに、メモリチップモジュールの薄型化を妨げることもない。
【0040】
以下に、本発明にかかる上記実施形態によりICチップ装着方法を適用した例について図面に基づいて詳細に説明する。なお、図面において、理解しやすくするため、ICチップ又はメモリチップと各基板との接合部分を断面にて示しているが、実際には、接合部分は全て封止樹脂で封止することが望ましい。
【0041】
この例は、特に薄型化が望まれているカード型記録媒体の一例としての小型メモリカードに本発明を適用する例であり、まず、その小型メモリカードの具体的な基本的な構成を図38〜図40に示す。なお、この小型メモリカードは、上記ICチップの装着方法により上記ICチップ例えばメモリチップ15が上記基板21に装着されて構成されるモジュールが筐体130内に収納されたモジュール部品の一例である。
【0042】
図において、110は基板、113は基板110の裏面(図38では上側の面、図39では下側の面)に実装されるASIC(Application Specific Integrated Circuit)のコントローラLSIチップ(ASIC用ICチップ)、114は基板110の裏面に実装されるマイクロプロセッサ用ICチップ、115は基板110の表面(図38では下側の面、図39では上側の面)に実装されるCSP(Chip Size Package)であるフラッシュメモリチップ、116は基板110の電極、118は基板110の表面に実装されるチップコンデンサ、119は基板110の表面に実装されるチップ抵抗、130は基板110の表面を覆う上ケース、131は上ケース130に固着されて基板110の裏面を覆う下ケース、131aは下ケース131の電極用開口、132はライトプロテクト用切換えスイッチである。なお、上記上ケース130と上記下ケース131とにより、筐体の一例を構成している。
【0043】
このような小型メモリカードの規格の例としては、図40に示すように、上ケース130に下ケース131が固着された状態の製品としての小型メモリカードでは、幅24mm×高さ32mm×厚さ2.1mmとなることが要求される。なお、図24では、上ケース130の厚さは1.4mm、下ケース131の厚さは0.7mmとなっている。また、フラッシュメモリのICチップは、一例として、厚さ80μmで短辺7.8mm×長辺16mmの長方形薄板状に構成されている。
【0044】
このような規格に従った小型メモリカードにおいて、メモリの容量を増加させる場合に本発明の上記実施形態を適用することが好ましく、これについて、以下に詳細に説明する。ただし、この規格は、理解しやすくするための一例として述べるものであって、本発明はこれに限定されるものではない。
【0045】
本発明の上記実施形態にかかるICチップ装着方法が適用できるカード型記録媒体の一例としての小型メモリカードは、図41〜図43に示すように、ベース基板モジュール210と、ベース基板モジュール210上に実装された第1メモリモジュール221と、第1メモリモジュール221上に実装された第2メモリモジュール222とを備えて、図39の上記コントローラLSIチップ113とマイクロプロセッサ用ICチップ114とフラッシュメモリチップ115とが実装された基板110を構成し、上ケース30と下ケース31内に、各ケース30,31との間にはそれぞれ所定の隙間を空けて収納されるようにしている。
【0046】
ベース基板モジュール210は、長方形板状のベース基板10の下面に、マイクロプロセッサ用ICチップ14とASIC用ICチップ13とを所定間隔あけて実装されて構成されている。マイクロプロセッサ用ICチップ14の各電極と各基板の各電極、及び、ASIC用ICチップ13の各電極と各基板の各電極とは、バンプなどを介して直接的に接合すなわちフリップチップ実装されたのち、接合部分が絶縁性の封止樹脂で封止されている。ベース基板10の上面には、その一端部に、チップコンデンサ18及びチップ抵抗19をベース基板10の長手方向沿いの長辺とは直交する短辺沿いに実装している。ベース基板10の長手方向沿いの長辺の近傍には、ベース基板10の回路パターンと電気的に接続され、かつ、他のメモリ用基板21,22と接続するための電極として機能するように、貫通孔10aが多数形成されており、各貫通孔10a内にはクリーム半田12が配置されている。長手方向の両端の貫通孔10aは小型メモリカードの製造の際に位置決め孔10zとして使用されることもある。なお、16は小型メモリカードのカード電極、18はチップコンデンサ、19はチップ抵抗である。
【0047】
第1メモリモジュール221は、ベース基板10よりも小さい長方形の第1メモリ用基板21の表裏両面(上下両面)に、合計4個のフラッシュEEPROMなどの不揮発性メモリチップなどのメモリチップ15を実装して構成されている。各メモリチップ15の各電極と第1メモリ用基板21の各電極とはバンプなどを介して直接的に接合すなわちフリップチップ実装されたのち、接合部分が絶縁性の封止樹脂で封止されている。第1メモリ用基板21の長手方向沿いの長辺の近傍には、第1メモリ用基板21の回路パターンと電気的に接続され、かつ、ベース基板10及び第2メモリ用基板22と接続するための電極として機能するように、貫通孔21aが多数形成されており、各貫通孔21a内にはクリーム半田12が配置されている。長手方向の両端の貫通孔21aは小型メモリカードの製造の際に位置決め孔21zとして使用されることもある。
【0048】
第2メモリモジュール222は、第1メモリモジュール221と同一構造であって、ベース基板10よりも小さい長方形の第2メモリ用基板22の表裏両面(上下両面)に、合計4個のフラッシュメモリなどのメモリチップ15を実装して構成されている。各メモリチップ15の各電極と第2メモリ用基板22の各電極とはバンプなどを介して直接的に接合すなわちフリップチップ実装されたのち、接合部分が絶縁性の封止樹脂で封止されている。第2メモリ用基板22の長手方向沿いの長辺の近傍には、第2メモリ用基板22の回路パターンと電気的に接続され、かつ、ベース基板10及び第1メモリ用基板21と接続するための電極として機能するように、貫通孔22aが多数形成されており、各貫通孔22a内にはクリーム半田12が配置されている。長手方向の両端の貫通孔22aは小型メモリカードの製造の際に位置決め孔22zとして使用されることもある。
【0049】
ベース基板10の各貫通孔10a、第1メモリ用基板21の各貫通孔21a、及び、第2メモリ用基板22の各貫通孔22aを、上記ベース基板10のメモリ用基板実装面に直交する方向に基板間を電気的に接続する導体の一例としての導電性ワイヤ11がそれぞれ貫通して、各貫通孔内のクリーム半田12に接触して、ベース基板10の各貫通孔10a内のクリーム半田12と、第1メモリ用基板21の各貫通孔21a内のクリーム半田12と、第2メモリ用基板22の各貫通孔22a内のクリーム半田12とを導電性ワイヤ11により電気的に接続する。具体的な例として、各貫通孔は、各基板の回路に接続されかつ直径0.50μmで内周面が金メッキされたスルーホールとし、導電性ワイヤ11としては、直径0.20μmの銅ワイヤとする。各貫通孔については、ベース基板10の各貫通孔10aのみをベース基板10の回路に接続されかつ直径0.50μmで内周面が金メッキされたスルーホールとし、第1メモリ用基板21の各貫通孔21a及び第2メモリ用基板22の各貫通孔22aはそれぞれ各メモリ用基板基板の回路にそれぞれ接続されかつ直径0.50μmで内周面が金メッキされたスルーホールを半分カットした大略半円形状(図41参照)とすることもできる。
【0050】
このように、ベース基板10と第1メモリ用基板21と第2メモリ用基板22とを導電性ワイヤ11により接続することができるため、ベース基板10の上に、それぞれ両面にメモリチップ15を実装可能な2層のメモリ用基板21,22を狭い間隔で小スペース内に配置することができるとともに、各基板間の電極を導電性ワイヤ11により接続することにより、電極間での接続強度を向上させることができる。このような構成することにより、ベース基板10のいずれか一方の面にメモリを実装する場合と比較して、メモリの実装可能な面積は、第1メモリ用基板21の表裏両面、第2メモリ用基板22の表裏両面の4倍に増加し、最大で4倍までメモリ容量を増加させることができる。よって、例えば、1個のメモリチップ15が32MBのとき、2個のメモリチップ15しか実装できないときは2×32MB=64MBであったのが、最大で8×32MB=256MBとすることができる。また、1個のメモリチップ15が64MBのときには、最大で8×64MB=512MBとすることができる。さらに、1個のメモリチップ15が128MBのときには、最大で8×128MB=約1GBとすることができる。
【0051】
また、各メモリ用基板21,22の表裏両面に2個ずつ全く同一位置に同一サイズ及び厚みのメモリチップ15を実装することができるため、各メモリ用基板21,22に熱的又は機械的応力が作用したとき、例えば、封止樹脂の硬化収縮などにより各基板が片側に反ることが防止できる。また、上記各メモリ用基板21,22には、上記複数のメモリチップ15が上記メモリ用基板21,22の長手方向の中心に対して対称に配置することができて、各メモリ用基板21,22全体として、応力の偏った分布を防止することができる。
【0052】
また、メモリチップ15が実装されたメモリモジュール221,222をベース基板10とは別部品として別個に構成することができ、バーンイン時にメモリチップ15が不良と判断された場合には、そのメモリモジュールのみを廃棄すればよく、ICチップ13,14が実装されたベース基板10まで廃棄する必要がなくなる。
【0053】
また、各メモリチップ15を各基板に対してアウターリード無しに直接実装すなわちフリップチップ実装するため、言いかえれば、各メモリチップ15の各電極と各基板の各電極とをバンプなどを介して直接的に接合するため、各メモリチップ15の外側にアウターリードを引き出して各基板に接合するスペースや手間を省くことができて、小スペース化、工程の短縮化を図ることができる。
【0054】
なお、図38〜図40の小型メモリカードの規格に対応するようにするため、一例として、図42に示すように、ベース基板10の厚さは0.2mm、第1メモリ用基板21の厚さは0.15mm、第2メモリ用基板22の厚さは0.15mm、第2メモリ用基板22の下面に実装されたメモリチップ15と第1メモリ用基板21の上面に実装されたメモリチップ15との隙間は0.41mm、第1メモリ用基板21の下面に実装されたメモリチップ15とベース基板10の上面との隙間は0.41mmである。また、第2メモリ用基板22の上面に実装されたメモリチップ15の上面とベース基板10の下面との距離は1.12mm、ベース基板10の下面とベース基板10の下面に実装されたマイクロプロセッサ用ICチップ14とASIC用ICチップ13の上面との距離は0.35mm、よって、第2メモリ用基板22の上面に実装されたメモリチップ15の上面とベース基板10の下面に実装されたマイクロプロセッサ用ICチップ14とASIC用ICチップ13の上面との距離は1.47mmとなるようにしている。
【0055】
なお、各基板、すなわち、ベース基板10、第1メモリ用基板21、第2メモリ用基板22は単層基板、多層基板いずれの形態でもよい。
【0056】
以下に、上記小型メモリカードの製造方法について説明する。
【0057】
図44(A)に示すように、ベース基板10の下面側には、マイコン用ICチップであるマイクロプロセッサ用ICチップ14とコントローラ用ICチップであるASIC用ICチップ13の2つのICチップがベアチップ実装されて、ベース基板モジュール210を1個形成する。なお、このとき、具体的には図示しないが、ベース基板10の下面には小型メモリカードのカード電極16を形成しておくとともに、ベース基板10の上面にはチップコンデンサ18、チップ抵抗19も実装しておく。
【0058】
また、図44(B),図44(C)に示すように、2枚のメモリ用基板21,22の上下両面のそれぞれにフラッシュメモリなどのメモリチップ15を2個ずつフリップチップ実装して、第1及び第2メモリモジュール221,222を2個形成する。
【0059】
これらの図44(A),図44(B),図44(C)に示すそれぞれの工程は、同時に行っても良いし、任意の順に行うようにしてもよい。また、多数の小型メモリカードを製造する場合には、図44(A),図44(B),図44(C)に示す工程をそれぞれ多数回行って、予め多数の第1及び第2メモリモジュール221,222及びベース基板モジュール210を製造しておいてもよい。
【0060】
次に、図45(A)に示すように、ベース基板10の各貫通孔10a内にクリーム半田12をディスペンサ51により供給する。同様に、図45(B)及び(C)にそれぞれ示すように、第1及び第2メモリ基板21,22の各貫通孔21a,22a内にもクリーム半田12をディスペンサ51によりそれぞれ供給する。なお、各基板10,21,22において、長手方向両端の同一箇所にある貫通孔を位置決め孔10z,21z,22zとして使用するため、基板接続用の電極としての機能を果たさないようにしており、クリーム半田12は挿入しないようにする。また、上記位置決め孔10z,21z,22zの代わりに、各基板に位置決め用マークを設けたり、又は、各基板の回路パターンの一部を位置決め用マークとして使用することにより、基板同士の位置決めに利用するようにしてもよい。
【0061】
次いで、図45(D)に示すように、第1メモリモジュール221と第2メモリモジュール222とを仮固定する。すなわち、第1メモリ用基板21の上に第2メモリ用基板22を載置して、各端部の位置決め孔21z,22z同士が互いに同一に位置するように位置決め調整したのち、絶縁性の仮固定用接着剤52により、第1メモリ用基板21の上面に実装した2個のメモリチップ15,15の上面と、第2メモリ用基板22の下面に実装した2個のメモリチップ15,15の下面とを接着して、第1メモリモジュール221と第2メモリモジュール222とを仮固定する。このとき、第1メモリ用基板21と第2メモリ用基板22とは大略平行になるようにする。これは、小型メモリカード全体の寸法を規格内の寸法にするためである。
【0062】
次いで、図46(A)に示すように、仮固定された第1メモリモジュール221と第2メモリモジュール222をベース基板モジュール210に仮固定する。すなわち、第1メモリモジュール221の下面に実装された2個のメモリチップ15とベース基板モジュール210の上面とを絶縁性の仮固定用接着剤52により接着して、ベース基板モジュール210の上に、仮固定された第1メモリモジュール221と第2メモリモジュール222を仮固定する。このとき、第1メモリ用基板21と第2メモリ用基板22とベース基板10とは互いに大略平行になるようにする。これは、小型メモリカード全体の寸法を規格内の寸法にするためである。
【0063】
次いで、図46(B)に示すように、モジュール間の電極同士を導電性ワイヤ11で個別に接続する。すなわち、ベース基板モジュール210の各位置決め孔10zと第1メモリモジュール221の各位置決め孔21zと第2メモリモジュール222の各位置決め孔22zとを一致させるように位置決めした状態で、ベース基板モジュール210の各貫通孔10a内のクリーム半田12の電極と第1メモリモジュール221の各貫通孔21a内のクリーム半田12の電極と第2メモリモジュール222の各貫通孔22a内のクリーム半田12の電極とを、導電性ワイヤ11で個別に接続する。
【0064】
その後、リフロー炉内に入れることにより、又は、ホットエアなどの熱風を吹き付けることにより、各クリーム半田12を溶融して各クリーム半田12と導電性ワイヤ11とを完全に固着させることにより、確実に電気的に接続する。
【0065】
次いで、ベース基板モジュール210のベース基板10と第1メモリモジュール221の第1メモリ用基板21との間、第1メモリモジュール221の第1メモリ用基板21と第2メモリモジュール222の第2メモリ用基板22との間、第2メモリ用基板22の上面の2個のメモリチップ15間を、それぞれ、絶縁性の封止樹脂200で封止する。このとき、上記第1〜3実施形態のいずれかの装着方法を適用することができる。これにより、各メモリチップ15の厚さが0.1mm程度と薄くかつ2個のメモリチップ15,15間の間隔が狭くても、上記実施形態に記載した、突起部無しなどの上記作用効果を確実に奏することができるフィレットを形成することができる。
【0066】
次いで、これを上下ケース30,31内に収納して上記小型メモリカードを得る。
【0067】
上記小型メモリカードの製造方法によれば、図41の小型メモリカードにおいてをベース基板モジュール210に実装する前に、予め第1メモリモジュール221と第2メモリモジュール222とを実装してバーンイン試験などによりメモリモジュール全体としての機能を検査することができ、不良の場合には、メモリモジュールのみを廃棄すればよく、メモリモジュールに比較して高価なベース基板モジュール210を廃棄する必要がなくなり、コストダウンを図ることができる。
【0068】
なお、図46(B)に示すように上記ベース基板モジュール210の各貫通孔10a内のクリーム半田12の電極と第1メモリモジュール221の各貫通孔21a内のクリーム半田12の電極と第2メモリモジュール222の各貫通孔22a内のクリーム半田12の電極とを、多数の導電性ワイヤ11で個別に接続する代わりに、図46(C)に示すように、モジュール間の電極同士を、導体の別の例としての連続した1本又は数本の導電性ワイヤ53で接続するようにしてもよい。
【0069】
すなわち、ベース基板モジュール210と第1メモリモジュール221と第2メモリモジュール222とが上下に重なるように位置する3個のクリーム半田12の電極、すなわち、導電性ワイヤ53を、第2メモリモジュール222の各貫通孔22a内のクリーム半田12の電極と、第1メモリモジュール221の各貫通孔21a内のクリーム半田12の電極と、ベース基板モジュール210の各貫通孔10a内のクリーム半田12の電極とを貫通させる。次いで、U字状に折り曲げたのち、導電性ワイヤ53を、隣接するベース基板モジュール210の各貫通孔10a内のクリーム半田12の電極と、第1メモリモジュール221の各貫通孔21a内のクリーム半田12の電極と、第2メモリモジュール222の各貫通孔22a内のクリーム半田12の電極とを貫通させる。次いで、再び、U字状に折り曲げたのち、例えば、隣接する第2メモリモジュール222の各貫通孔22a内のクリーム半田12の電極と、第1メモリモジュール221の各貫通孔21a内のクリーム半田12の電極と、ベース基板モジュール210の各貫通孔10a内のクリーム半田12の電極とを貫通させる。このようにして、接続すべき全てのクリーム半田12の電極を接続する。
【0070】
次いで、リフロー炉内に上記モジュールを搬入してリフロー工程を行うことにより、または、ホットエアなどの熱風を吹き付けることにより、各クリーム半田12を溶融して各クリーム半田12と導電性ワイヤ53とを導通状態のまま完全に固着させることにより、確実に電気的に接続する。
【0071】
次いで、上記導電性ワイヤ53の上記U字状に折り曲げた部分を切断して除去することにより、ベース基板10と第1及び第2メモリ用基板21,22の上下に重なるように位置する3個のクリーム半田12の電極を互に個別的に導通させ、かつ、3個の接続部毎に独立的に導通させる導通用柱部材として機能させることができる。
【0072】
このような構成によれば、多数の導電性ワイヤ11を予め用意する必要がなく、用意すべき部品点数を削減することができるとともに、多数の導電性ワイヤ11を一本ずつ接続するよりも連続した導電性ワイヤ53を半田12に貫通させる方が接続しやすく、作業の軽減を図ることができる。
【0073】
上記構成において、ベース基板10と第1メモリ用基板21と第2メモリ用基板22とを同時に位置決めして仮固定するようにしてもよい。また、仮固定は、接着剤の代わりに両面粘着テープを使用することもできる。さらには、接着剤を使用せずに、他の部材又は半田の粘着力を利用して上記三枚の基板を位置決め保持するようにしてもよい。
【0074】
図47は、本発明の上記実施形態にかかるICチップ装着方法が適用できる別の小型メモリカードの完成状態での一部断面側面図である。図47では、導電性ワイヤ53の代わりに、銅などの導電性ボール71を使用するものである。すなわち、ベース基板10の各貫通孔10a内のクリーム半田12と第1メモリ用基板21の各貫通孔10a内のクリーム半田12との間に導電性ボール71を介在させて、ベース基板10と第1メモリ用基板21との間を大略平行に保持するとともに、第1メモリ用基板21の各貫通孔21a内のクリーム半田12と第2メモリ用基板22の各貫通孔22a内のクリーム半田12との間に導電性ボール71を介在させて第1メモリ用基板21と第2メモリ用基板22との間を大略平行に保持するようにしている。この場合、導電性ボール71の直径よりも各貫通孔10a,21a,22aのクリーム半田12の外径を大きくして、導電性ボール71が各クリーム半田12の電極上に若干入り込みつつ安定して保持されるようにするのが好ましい。
【0075】
導電性ボール71の一例としては、直径0.3μmの銅ボールを使用することができる。導電性ボール71の材料としては、銅以外に、スズ−亜鉛系、スズ−銀系、スズ−銅系も使用することができる。
【0076】
上記構成によれば、先の例の小型メモリカードと同様な作用効果を奏することができる上に、ベース基板10と第1メモリ用基板21、及び、第1メモリ用基板21と第2メモリ用基板22との間に導電性ボール71を介在させることにより、各基板の間隔を容易に均等にすることができて、各基板を大略平行に配置することができる。また、導電性ボール71を銅などの半田よりも融点が高い材料より構成すれば、後工程でリフローやエアブローにより半田を溶融するときでも導電性ボール71が溶融せず、基板間隔を導電性ボール71により確実に確保することができ、高い精度で基板間の平行度を保持することができる。よって、また、基板間が導電性ボール71で支持されるため、機械的な応力が作用しても導電性ボール71は容易に変形しない。従って、熱的な応力及び機械的な応力に抗して、基板間の平行度を確実に保持することができるとともに、隣接する導電性ボール71との接触も防止することができてショートを防止できる。さらに、導電性ボール71の直径を小さくすることにより、より狭いピッチでの配置が可能となり、配線の自由度が増し、各メモリチップ15への個別配線が可能となり、メモリチップ15とICチップ13,14間での処理速度の向上を図ることができる。
【0077】
また、図4及び図11などに示すように、上記規制部111b,111c,112b,112cの上記フィレット成形部111b,112bは、上記フィレット成形部により成形される縦断面大略台形の上記フィレットの上面が上記メモリチップ15の上面と大略面一に成形されるように構成されているのが好ましい。このように構成することにより、従来の不具合を解消しつつメモリチップ15の保護を最大限に発揮させることができる。
【0078】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。
【0079】
例えば、上記フィレット成形部の縦断面形状は先に述べた形状に限られるものではなく、その内側側面が任意の形状、例えば、湾曲したものでもよい。
【0080】
また、上記フィレット成形部の枠形状の内側で形成される形状は、上記メモリチップ15の形状の大略相似形状であるのが好ましい。
【0081】
また、上記各実施形態では、フィレット形成材料として、封止シートで説明したが、半液体状又は液体状の封止樹脂をメモリ用基板21上に塗布などにより供給するようにしてもよい。また、封止シートもメモリ用基板21上に予め載置するものに限らず、メモリチップ15側に配置するようにしてもよい。
【0082】
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
【0083】
【発明の効果】
本発明によれば、加熱加圧時に上記ICチップと上記基板との間からはみ出す上記封止樹脂を、封止樹脂規制部により、上記基板に対して装着後の上記ICチップの厚み方向の上記ICチップの表面以下に規制するようにしている。
【0084】
この結果、ICチップの周囲例えば端面面の中央部に回り込んだ封止樹脂がICチップの側面を這い上がることができず、角状の突起部を形成することがない。よって、ICチップの各角部に確実にフィレットが形成できるとともに、角状の突起部による基板に対するICチップの接合不良を確実に無くすことができ、かつ、信頼性向上を実現させることができる。また、角状の突起部が無いため、外装部品にクラックを発生させて破壊してり、角状の突起部が折れてICチップの一部に剥離を生じさせて耐湿性能が低下し耐熱応力特性が低下し信頼性が低下することが無いとともに、ICチップモジュールの薄型化を妨げることもない。
【0085】
また、本発明によれば、装着ツールの加圧面が、ICチップの大きさに加えてICチップの周囲にフィレットが十分に形成できる程度まで十分に大きな面積を有するようにしている場合には、ICチップの周囲例えば端面面の中央部に回り込んだ封止樹脂がICチップの側面を這い上がることができず、角状の突起部を形成することがない。よって、ICチップの各角部に確実にフィレットが形成できるとともに、角状の突起部による基板に対するICチップの接合不良を確実に無くすことができ、かつ、信頼性向上を実現させることができる。また、角状の突起部が無いため、外装部品にクラックを発生させて破壊してり、角状の突起部が折れてICチップの一部に剥離を生じさせて耐湿性能が低下し耐熱応力特性が低下し信頼性が低下することが無いとともに、ICチップモジュールの薄型化を妨げることもない。
【0086】
また、本発明によれば、装着ツールはフィレット成形部と平坦なICチップ加圧面とを有しているため、ICチップの周囲、特に、端面の中央部に回り込もうとする封止樹脂がICチップの側面を這い上がることができず、角状の突起部を形成することがない。よって、ICチップの各角部に確実にフィレットが形成できるとともに、角状の突起部による基板に対するICチップの接合不良を確実に無くすことができ、かつ、信頼性向上を実現させることができる。また、角状の突起部が無いため、外装部品にクラックを発生させて破壊してり、角状の突起部が折れてICチップの一部に剥離を生じさせて耐湿性能が低下し耐熱応力特性が低下し信頼性が低下することが無いとともに、ICチップモジュールの薄型化を妨げることもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態にかかる装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板に装着するICチップの装着方法の工程の説明図である。
【図2】 図1の工程に続き、装着ツールによる加熱加圧時に封止樹脂の流動状態を説明する説明図である。
【図3】 図2の工程に続き、装着ツールによる加熱加圧時に封止樹脂によるフィレットの成形状態を説明する説明図である。
【図4】 図1から図3の工程により形成されたフィレットを有するメモリチップモジュールの一部断面正面図である。
【図5】 本発明の第2実施形態にかかる装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板に装着するICチップの装着方法において、装着ツールが下降する工程の説明図である。
【図6】 図5に続く工程であって、装着ツールにより加熱加圧状態の説明図である。
【図7】 図6に続く工程であって、装着ツールが上昇する状態の説明図である。
【図8】 本発明の第3実施形態にかかる装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板に装着するICチップの装着方法のにおいて、装着ツールが下降する工程の説明図である。
【図9】 本発明の第3実施形態の変形例にかかる装着ツールの断面図である。
【図10】 図8に続く工程であって、装着ツールにより加熱加圧状態の説明図である。
【図11】 図10に続く工程であって、装着ツールが上昇する状態の説明図である。
【図12】 従来の装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板に装着する工程の説明図である。
【図13】 図12に続く工程であって、装着ツールにより加熱加圧するとき、突起部が形成される状態を示す工程の説明図である。
【図14】 図13に続く工程であって、装着ツールが上昇する工程の説明図である。
【図15】 図14に続く工程であって、外装ケースをICチップモジュールに取り付ける工程の説明図である。
【図16】 図15でICチップモジュールに取り付けられた外装ケースにクラックが発生する状態を示す説明図である。
【図17】 従来の装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板に装着する工程であって、装着ツールにより加熱加圧するとき、突起部が形成される状態を示す工程の説明図である。
【図18】 図17の工程により突起部が形成された状態のICチップモジュールの一部断面図である。
【図19】 図17の工程により突起部が形成された状態のICチップモジュールのフィレットの突起部が破損した状態の説明図である。
【図20】 従来の装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板に装着する工程であって、装着ツールにより加熱加圧するとき、突起部が形成される状態を示す工程の説明図である。
【図21】 図20の工程により突起部が形成された状態のICチップモジュールの一部断面図である。
【図22】 従来の装着ツールにより、封止シートを介して厚みの大きなICチップを基板に装着する工程であって、装着ツールにより加熱加圧するとき、ICチップの側面に封止樹脂が盛り上がった状態を示す工程の説明図である。
【図23】 図22の工程によりICチップの側面に封止樹脂が盛り上がった状態のICチップモジュールの一部断面図である。
【図24】 従来の装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板の一方の面に装着する工程であって、装着ツールにより加熱加圧するとき、突起部が形成される状態を示す工程の説明図である。
【図25】 図24の工程により突起部が形成された状態のICチップモジュールの一部断面図である。
【図26】 図24の工程に続く工程であって、図24の上記従来の装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板の他方の面に装着する工程であって、装着ツールが下降する状態を示す工程の説明図である。
【図27】 図26の工程に続く工程であって、図24の上記従来の装着ツールにより、封止シートを介してICチップを基板の他方の面に装着する工程であって、装着ツールにより加熱加圧する状態を示す工程の説明図である。
【図28】 図12の工程の前に、基板上に封止シートを載置した状態の平面図である。
【図29】 図12の工程の前に、基板上に封止シートを載置した状態の正面図である。
【図30】 図12の工程での基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧する状態の平面図である。
【図31】 図12の工程での基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧する状態の正面図である。
【図32】 図14の工程での基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧した後にツールが上昇する状態の平面図である。
【図33】 図14の工程での基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧した後にツールが上昇する状態の一部断面正面図である。
【図34】 基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧する装着ツールが下降状態の一部断面正面図である。
【図35】 図34の工程での基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧する状態の平面図である。
【図36】 図34の工程で基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧した後にツールが上昇する状態の一部断面正面図である。
【図37】 図34の工程で基板上に封止シートを介してICチップを加熱加圧した後にツールが上昇する状態の平面図である。
【図38】 本発明の各実施形態にかかるICチップ装着方法が適用できる小型メモリカードの基本となる小型メモリカードの分解斜視図である。
【図39】 図38の小型メモリカードの一部断面側面図である。
【図40】 図38の小型メモリカードの底面図である。
【図41】 本発明の上記実施形態にかかるICチップ装着方法が適用できる小型メモリカードのケースを除いた状態での概略斜視図である。なお、一部の導体を取り除いて、電極などを理解しやすくしている。
【図42】 図41の小型メモリカードの側面図である。
【図43】 図41の小型メモリカードの完成状態での一部断面側面図である。ただし、理解しやすくするため、メモリチップと基板との接続部分及びケースを断面で示す。
【図44】 (A),(B),(C)はそれぞれ図41の小型メモリカードの製造方法において、ベース基板モジュール、第1メモリモジュール、及び、第2メモリモジュールを製造する工程の一部断面の説明図である。
【図45】 (A),(B),(C),(D)はそれぞれ図41の小型メモリカードの製造方法において、ベース基板モジュール、第1メモリモジュール、及び、第2メモリモジュールにクリーム半田を塗布する工程の一部断面の説明図、第1メモリモジュールと第2メモリモジュールとを仮固定する工程の一部断面の説明図である。
【図46】 (A),(B),(C)はそれぞれ図41の小型メモリカードの製造方法において、仮固定された第1メモリモジュールと第2メモリモジュールをベース基板モジュールに仮固定する工程、さらに、モジュール間の電極同士を導電性ワイヤで個別に接続する工程、モジュール間の電極同士を導体の別の例としての連続した導電性ワイヤで接続する工程の一部断面の説明図である。
【図47】 本発明の上記実施形態にかかるICチップ装着方法が適用できる別の例の小型メモリカードの完成状態での一部断面側面図である。ただし、理解しやすくするため、メモリチップと基板との接続部分及びケースを断面で示す。
【符号の説明】
10…ベース基板、10a…貫通孔、11…導電性ワイヤ、12…クリーム半田、13…ASIC用ICチップ、14…マイクロプロセッサ用ICチップ、15…メモリチップ、15p…電極、16…カード電極、18…チップコンデンサ、19…チップ抵抗、21…メモリ用基板、21a…貫通孔、21p…電極、22…第2メモリ用基板、22a…貫通孔、22z…位置決め孔、24…第4メモリ用基板、30A…上ケース、31A…下ケース、100…加熱加圧ツール、100a…加圧面、110…基板、111…加熱加圧ツール、111a…傾斜面、111b…フィレット成形部、111c…メモリチップ加圧面、112…加熱加圧ツール、112a…内側側面、112b…フィレット成形部、112c…メモリチップ加圧面、112d…湾曲面、113…ASIC用ICチップ、114…マイクロプロセッサ用ICチップ、115…メモリチップ、116…電極、118…チップコンデンサ、119…チップ抵抗、130…上ケース、131…下ケース、131a…電極用開口、132…ライトプロテクト用切換えスイッチ、150…ステージ、200…封止樹脂、209…フィレット形成用封止シート、209a…上面、210…ベース基板モジュール、211…フィレット形成用封止シート、211a…傾斜側面、212…フィレット形成用封止シート、221…第1メモリモジュール、222…第2メモリモジュール、270…第3メモリモジュール。
Claims (5)
- ICチップ(15)を封止樹脂(209,211,212)を介して基板(21)に加熱加圧して装着する装着ツールにおいて、
加熱加圧時に上記ICチップと上記基板との間からはみ出す上記封止樹脂を、上記基板に対して装着後の上記ICチップの表面以下に規制する封止樹脂規制部(100a,111b,111c,112b,112c)を備えるようにした装着ツールであって、
上記規制部(112b,112c)は、上記ICチップの被加圧面に接触して上記ICチップを押圧する加圧面(112c)と、内側側面が上記基板の厚み方向沿いである枠形状であって、上記加圧面と共働して上記封止樹脂を直方体形状に成形するフィレット成形部(112b)と、上記フィレット成形部の下端面に形成された湾曲面と、を備えたことを特徴とする装着ツール。 - 上記規制部(112b,112c)の上記加圧面(112c)は、上記ICチップの周囲が上記封止樹脂で囲まれる領域よりも大きな面積を有する請求項1に記載の装着ツール。
- 上記ICチップが長方形であり、上記規制部(111c,112c)の上記フィレット成形部(111b,112b)の枠形状の内側で形成される形状は、上記ICチップの形状の相似形状である請求項1または請求項2に記載の装着ツール。
- 装着ツール(100,111,112)により加熱加圧することにより、ICチップ(15)を封止樹脂(209,211,212)を介して基板(21)に装着し、
上記加熱加圧時に、上記ICチップと上記基板との間からはみ出す上記封止樹脂を、上記装着ツールの封止樹脂規制部(100a,111b,111c,112b,112c)により、上記基板に対して装着後の上記ICチップの表面以下に規制するICチップの装着方法であって、
上記規制部(112b,112c)は、上記ICチップの被加圧面に接触して上記ICチップを押圧する加圧面(112c)と、内側側面が上記基板の厚み方向沿いである枠形状であって、上記加圧面と共働して上記封止樹脂を直方体形状に成形するフィレット成形部(112b)と、上記フィレット成形部の下端面に形成された湾曲面と、を備えたことを特徴とするICチップの装着方法。 - 請求項4に記載のICチップの装着方法により上記ICチップが上記基板に装着されて構成されるモジュールが筐体(130)内に収納されたモジュール部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001302637A JP4288026B2 (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 装着ツール及びicチップの装着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001302637A JP4288026B2 (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 装着ツール及びicチップの装着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003109988A JP2003109988A (ja) | 2003-04-11 |
JP4288026B2 true JP4288026B2 (ja) | 2009-07-01 |
Family
ID=19122844
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001302637A Expired - Fee Related JP4288026B2 (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 装着ツール及びicチップの装着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4288026B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101111854B (zh) | 2005-02-14 | 2012-07-18 | 松下电器产业株式会社 | 天线内置半导体存储器模块 |
JP4979288B2 (ja) * | 2006-07-19 | 2012-07-18 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 熱圧着ヘッドを用いた実装方法 |
JP5084829B2 (ja) * | 2007-06-28 | 2012-11-28 | パナソニック株式会社 | 半導体素子の実装構造体の製造方法、半導体素子の実装方法、及び加圧ツール |
JP5234761B2 (ja) * | 2008-08-22 | 2013-07-10 | Necカシオモバイルコミュニケーションズ株式会社 | 電子部品の接着方法、回路基板、及び電子機器 |
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001302637A patent/JP4288026B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003109988A (ja) | 2003-04-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130403 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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