JP4247821B2 - 電流センサ - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、信号線に流れる電流を検出する電流センサに関し、特に、外部磁界に対して透磁率が変化する磁気インピーダンス素子やフラックスゲートセンサ等を用いて電流を検出する高感度電流センサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、電流を検知する電流センサとしては、カレントトランスやホール素子が使用されている。近年、電気自動車の登場や省電力に対する電力監視等で電流センサの市場の拡大が期待されるが、ネットワーク的な電流管理で電流検知が細分化されて個々の検知レンジが下がるにつれ、より精度の高いものが要求されてきている。電流検知レンジが下がることは、そこで使う磁気センサはより高いS/Nが要求される。
【0003】
その中で、従来のホール素子より感度の高い磁気インピーダンス素子やフラックスゲートセンサが候補として期待されている。これら感度の良いセンサを如何にコンパクトに電流センサとして構成するかが重要である。
【0004】
従来、ホール素子を用いた電流センサは、図9に示すように電流線100を囲むC字状の磁気コア102で磁気回路が構成され、そのギャップ部にホール素子104が配置されている。ホール素子104は強磁性体でないため飽和が無く、強磁界下で動作が可能である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、強磁性体を用いた磁気インピーダンス素子やフラックスゲートセンサは、磁気飽和が存在し、飽和しない範囲で使用しなくてはならない。また、ホール素子の場合と同様に磁気回路を構成すると、アンペアオーダーの電流を検知するにはギャップ部の磁界が大きくなりすぎて磁気飽和に至るため、同様な構成は取れない。
【0006】
強磁性の高感度の磁気センサは、駆動回路に負帰還等を用いてレンジを広げても±15ガウス(±1.5mT)範囲ぐらいの磁界検知範囲に留めることが必要であり、電流線からの磁界をダイレクトに検知する場合には、その距離を調整して検知レンジに入れなければならない。
【0007】
しかし、電流検知範囲の要求に応じて素子と電流線を一々変えることは、センササイズに制約を与えてしまうため汎用性を低下させ、特に大電流側でサイズが大きくなってしまう。また、電源トランスやその他磁界を発する電気部品等からの磁界に対しての対処も必要であり、磁気シールドを用いるとしても電流線からの磁場に影響を大きく与えず、シールド自体も磁気飽和しない条件も考慮しなくてはならなかった。
【0008】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたもので、その目的は、大型化することなく、高感度に電流量を検出可能で、生産が容易な電流センサを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するため、検出対象である平行に配置された2つの電流線部に逆方向に流れる電流を、前記2つの電流線部から発生する磁界を検出することによって計測する電流センサであって、前記平行電流線部の軸を結ぶ延長線上に配置されており、かつ磁性体に直接高周波電流を流し、外部磁界を加えることにより前記磁生体の透磁率が変化する磁気検出素子と、前記平行電流線部及び前記磁気検出素子を囲むための磁気シールドと、前記平行電流線部から発生される磁界の差分値に基づいて前記平行電流線部に流れる電流量を検出する検出手段とを有し、前記平行電流線部の間隔dは、前記磁気検出素子に近い側の電流線部と前記磁気検出素子との距離s以下であり、前記平行電流線部と前記磁気シールドの内壁面との距離は前記磁気検出素子に遠い側の電流線部からd+s以上はなれていることを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の電流センサの一実施形態を示す斜視図であり、電流検知に関する磁気検出素子と電流線との相対位置関係を説明する図である。
【0011】
磁気検出素子10は、非磁性基板12上に形成された磁性体(磁性薄膜)14に直接高周波電流を流し、外部磁界によりインピーダンス変化が生じる磁気インピーダンス素子(以下MI素子と略す)である。磁気検出素子10のその他の形態としては、薄膜でなくアモルファスワイヤーでMI素子を構成してもよい。更に、磁気検出素子10に近接配置または巻回したコイルから出力を取り出すフラックスゲートセンサとしても機能させてもよい。
【0012】
このMI素子は、図1に示すようにガラス等の非磁性基板12上に磁性薄膜14によりつづら折れパターンが形成されたもので、その両端に高周波電流を印加する電極16a、16bが形成されている。磁界検知方向は矢印Hiで示すように磁性薄膜14のパターンの長手方向になっている。
【0013】
ここで、磁界の検知対象である電流線20は、端部が折り曲げられ電流線平行部20a,20bを持つ構造となっている。その平行部のそれぞれ中心軸が並ぶX方向上に磁気検出素子10が配置され、更に磁界検出方向と電流線平行部の並び方向とは概ね直交するように方向が決められている。
【0014】
図2は図1を上部から見た磁気検出素子を含む平面図である。磁気検出素子10に近い側の電流線平行部を20a,遠い側の電流線平行部を20bとし、その間隔をdとする。素子検知部である磁性体14の中心位置と近い側の電流線20aの中心との距離をsとする。
【0015】
磁気検出素子10での磁界Hは距離に対する逆関数であり、判りやすくするために電流線を無限長として計算すると、
H=(I/s)−(I/(s+d))=(I×d)/s(s+d)
となる。
【0016】
図2には磁界と距離との関係を示す。実線で示す上側の曲線は電流線平行部20aによる磁界、下側の曲線は電流線平行部20bによる磁界である。また、破線で示す曲線は電流線平行部20aによる磁界と電流線平行部20bによる磁界との合成磁界である。
【0017】
磁気検出素子10から遠い側の電流線平行部20bは近い側の電流線平行部20aとは電流方向が逆となるため、図2に破線で示すように磁気検出素子10に対する磁界を距離dに応じて弱めることができる。つまり、大電流の検知で磁界が大きくなり従来距離を離さなくてはならなかったセンサの配置で、互いに逆方向の電流が流れる平行線にすれば、間隔dを狭くすることで磁気検出素子と信号線を近づけられ、電流センサを小さくすることができる。
【0018】
具体的には、d=sで単線の磁界に比べ1/2,d=1/2sで1/3の磁界に減衰させることができる。必要な効果を考えれば、dをs以下にすることがこの電流センサの基本的な構成として望ましい。
【0019】
電流センサの汎用性を考えれば、電流要求仕様に対してs,dの寸法を調整すれば、電流センサの外形サイズを変えることなく、素子部に必要な磁界を印加することができる。つまり、製品の外形サイズを一定にまた、回路条件もほとんど変えることなく、電流線の位置関係のみをそれぞれの仕様に応じて変えることで、幅広い電流仕様の製品に対応できる。
【0020】
電流センサの磁界検知レンジとしては、高感度な磁気センサでは概ね直線性の良い範囲は±3ガウス(±300μT)程度であり、負帰還回路を用いても5倍の拡大が実用的であり、±15ガウス(±1.5mT)当たりが上限となる。従って、電流の計測領域の最大がこの数値を超えないように電流線の間隔と磁気検出素子との距離をこの磁界レンジに入るように調整する。
【0021】
また、磁気検出素子を1個で検知する際には、外部からの磁界を遮断するためにシールドを用いなくてはならないが、適切な位置に設定しないと、電流線の磁界を乱す恐れがある。
【0022】
電流線の磁界はその軸中心に円周磁界となるが、そのサークル内に磁性体があるとシールド部材に磁束が吸い込まれる傾向が明らかに強くなるため、少なくとも電流線と素子検知部の距離以上はシールドの壁面と距離を取らなくてはならない。図2で説明すると、電流線平行部20a,20bによって形成される磁気検出素子10を通る円周磁界内22、24に磁気シールドがあると、そのシールド材を磁束が伝わろうとする傾向が強くなり、磁気検出素子10への磁界影響が大きくなるため、図2に示すように囲む磁気シールド部材26は半径s+dのサークルに掛からないようにすることが重要となる。
【0023】
次に、生産性を考慮した小型の電流センサの構造について説明する。図3は図1の磁気検出素子を平面状の回路基板30に取り付けて電流検知ユニットとして構成した場合の一実施形態を示す斜視図である。
【0024】
磁気検出素子10は電極16a,16b側が下側とされ、他の電気部品と共に回路基板30面に実装されている。37は詳しく後述するように磁性体14に高周波電流を印加し、センサ出力を取り出すための駆動回路を有する駆動回路ICである。電流線32はプレスで打ち抜いて曲げを施した低電気抵抗の銅のような導電材で作製されている。電流線32は電流線平行部32a、32bの間隔に対して開口端側の間隔を広げてあり、電流線平行部32a、32bの下端が端子となっている。この構造では、検知電流の仕様に応じて電流線平行部の間隔を変えても、開口端の間隔を広くしておけば、製品シリーズで外形の端子寸法を共通にできる。
【0025】
また、図1の電流線は丸棒状のものを曲げたものであったが、図3に示すように電流線32は断面が矩形でもよい。むしろ、電流線の断面は矩形である方が、磁気検出素子10と電流線をより近接できる上で望ましい。更に、磁気検出素子への磁界が円弧状にかかるのが、電流線が断面矩形の場合には、磁界が磁界検知方向に伸ばされた形になり磁界分布も安定する効果も得られる。この際、素子検知部である磁性体14の磁界検知方向の長さよりも電流線平行部における断面矩形の幅が大きい方が望ましい。
【0026】
この電流線32は回路基板30の内側に貫通穴又は切り欠き30aを通して配置されており、電流線平行部32a,32bの軸が並ぶ方向に磁気検出素子10が配置されている。この構造であれば、ベース部材34に電流線32を立てておき、磁気検出素子10を実装した回路基板30を上から載せ、更に磁気シールド部材36を被せることで組み立てが容易となる。
【0027】
また、電流センサは大量生産が必要で、このように積み上げ式の製造方法はそれに適している。また、回路基板30と磁気シールド部材36及び電流線32の中心軸38を固定し、電流線平行部の間隔dを変えるだけでも、かなりの電流範囲をカバーできる電流センサが構成でき、電流仕様に応じて周辺部品がそれぞれ異なってしまう煩雑さは無い。
【0028】
次に、上述の電流検知ユニットの評価結果について説明する。図4は評価に用いた電流センサを示す。この電流センサは非磁性基板40上に細長い磁性薄膜でMI素子42が形成され、その上に更に渦巻きコイル44が形成されている。MI素子42の両端は電極46a、46aに接続されている。
【0029】
また、渦巻きコイル44は左側コイルとそれに接続された右側コイルから成っており、左側コイルの内周端が電極46bに接続され、右側コイルの内周端が電極46bに接続されている。外部よりMI素子42に通電し、コイル44より出力を取り出すことができる。
【0030】
図5は電流センサの駆動回路を示す。これは、磁性体14に高周波電流を印加してその透磁率の変化をコイル出力として取り出す例である。まず、パルス発振器50よりバッファ52、電流調整抵抗器54を通してMI素子42にプラスマイナス均等に高周波電流を印加する。コイル44の出力は外部磁界に対して変化し、それを検波回路56p,56mでプラスマイナスのピーク変化を取り出し、抵抗器58p,58mより中点の信号を出力し、増幅器60で増幅することによりセンサ出力Eoutが得られる。
【0031】
不図示ではあるが、磁気検出素子に磁界検出方向に沿ったソレノイド状コイルを巻き付け、出力Eoutより帰還量調整の抵抗器を介してアースに接続することで、負帰還構成にすることも可能であり、精度向上や電流検知範囲の拡大も可能である。
【0032】
また、電流線の寸法であるが、断面で見て幅5mm、厚さ1.5mmの銅線でU字電流線を構成し、平行電流線部の間隔3mm、近接する側の電流線と磁気検出素子の検知軸との距離を4.5mmとしている(電流線の高さは、21.5mm)。図5の駆動回路は電源電圧5Vで駆動し、増幅器60のゲインは100倍に設定した。また、電流センサの周囲はパーマロイで囲った。
【0033】
図6はDC±15Aでの電流検知特性を示す。良好な直線性が得られていることが分かる。このデータの傾斜より磁気検出素子の磁界検知特性から逆算すると、1A当たり0.08ガウス(8μT)の磁界になった。無限長で2本の逆方向の平行線の磁界計算では0.178ガウス(17.8μT)であったが、電流線が有限長であることと、シールドとの磁気回路の形成から、磁界は半分弱になった。仮に、これが無限長の単線で同様な磁界をシールドなしで形成すると、磁気検出素子と電流線との距離は25mm取らなくてはならず、この構成で磁気検出素子と電流線の距離は1/4以下にでき、電流センサの小型化に寄与できることがわかる。
【0034】
図7は別の駆動回路を示す。これは、磁性体14に高周波電流を印加し、そのインピーダンス変化を取り出す例である。また、図4の電流センサを同様に用いたが、渦巻きコイル44はバイアス磁界用コイルとして用い、センサ出力はMI素子42に通電する高周波電流に対する電圧振幅変化として取り出す。62は発振回路であり、バッファ64及び電流調整用抵抗器66を介してMI素子42に高周波電流を通電する。
【0035】
渦巻きコイル44にはDCバイアス電流Ibを印加しておく。高周波電流からの磁界変化はMI素子42の両端の振幅変化として現われ、検波回路68を通し、増幅回路70で増幅することでセンサ出力が得られる。
【0036】
図8は電流検知ユニットの他の実施形態を示す。図8では図3と同一部分は同一符号を付している。図8に示すように磁気検出素子10が実装された回路基板30が電流線平行部と平行になるように立てられ、磁気検出素子10は電流線部32a、32bの並び方向の延長線上に配置されている。このような構成であっても、磁界検出方向は電流線平行部32a、32bの並び方向と直角方向であれば良い。
【0037】
次に、本発明の実施態様を以下に列挙する。
【0038】
(実施態様1) 磁性体に直接高周波電流を流し、外部磁界によりその透磁率が変化する磁気検出素子を用いた電流センサであって、電流の流れる方向が逆向きで同じ電流量の平行電流線部を有し、その平行電流線部の軸を結ぶ延長線上に前記磁気検出素子が配置され、前記磁気検出素子の磁界検出方向はその延長線とは直角方向であり、当該磁気検出素子に近い側の平行電流線部の磁界と遠い側の平行電流線部の逆方向の磁界の差分を検知して、前記平行電流線部に流れる電流量を検知することを特徴とする電流センサ。
【0039】
(実施態様2) 電流計測の最大値に対する前記磁気検出素子にかかる磁界を±1.5mT(ミリテスラ)以下にしたことを特徴とする実施態様1に記載の電流センサ。
【0040】
(実施態様3) 前記磁気検出素子に近い側の電流線と遠い側の電流線の片側端同士が、センサ内部で結合されていることを特徴とする実施態様1に記載の電流センサ。
【0041】
(実施態様4) 前記磁気検出素子に近い側の電流線と遠い側の電流線は互いの端部がU字状の電流線部により接続されていることを特徴とする実施態様1に記載の電流センサ。
【0042】
(実施態様5) 前記電流線部は、前記磁気検出素子の磁界検知方向に沿って細長い矩形断面を持ち、その長手方向の幅が素子検知部の長さ以上であることを特徴とする実施態様1に記載の電流センサ。
【0043】
(実施態様6) 前記平行電流部の電流線間隔dは、前記磁気検出素子に近い側の電流線と前記磁気検出素子の距離s以下であることを特徴とする実施態様5に記載の電流センサ。
【0044】
(実施態様7) 前記平行電流線部及び前記磁気検出素子を囲む磁気シールドが設けられ、前記平行電流線部と前記磁気シールドの内壁面との距離がd+s以上離れていることを特徴とする実施態様6に記載の電流センサ。
【0045】
(実施態様8) 実施態様1〜7のいずれか1項に記載の電流センサを備えた電流検知ユニットであって、前記磁気検出素子を実装する回路基板の一部に貫通穴又は切り欠きが設けられ、その部分に往復する平行電流線部を通し、平行電流線部が並ぶ方向の前記回路基板上に前記磁気検出素子が実装され、前記回路基板上には高周波電流を流した前記磁気検出素子の磁性体両端のインピーダンス変化を検出する回路が搭載されていることを特徴とする電流検知ユニット。
【0046】
(実施態様9) 実施態様1〜7のいずれか1項に記載の電流センサを備えた電流検知ユニットであって、前記磁気検出素子を実装する回路基板の一部に貫通穴又は切り欠きが設けられ、その部分に往復する平行平行線部を通し、平行電流線部が並ぶ方向の前記回路基板上に前記磁気検出素子が実装され、前記回路基板上には前記磁気検出素子に近接配置されたコイルの電圧変化を検出する回路が搭載されていることを特徴とする電流検知ユニット。
【0047】
(実施態様10) 実施態様1〜7のいずれか1項に記載の電流センサを備えた電流検知ユニットであって、前記磁気検出素子を実装する回路基板が、前記平行電流線部の方向に沿って平行に配置され、前記平行電流線部の並び方向における前記回路基板上に前記磁気検出素子が実装され、前記回路基板には高周波電流を流した前記磁気検出素子の磁性体両端のインピーダンス変化を検出する回路が搭載されていることを特徴とする電流検知ユニット。
【0048】
(実施態様11) 実施態様1〜7のいずれか1項に記載の電流センサを備えた電流検知ユニットであって、前記磁気検出素子と接続する回路基板が、前記平行電流線部の方向に沿って平行に配置され、前記平行電流線部の並び方向における前記回路基板上に前記磁気検出素子が実装され、前記回路基板には高周波電流を流した磁性体に近接して配置されたコイルの電圧変化を検出する回路が搭載されていることを特徴とする電流検知ユニット。
【0049】
(実施態様12) 前記電流センサ、回路基板を囲むように磁気シールド部材を設けたことを特徴とする実施態様8乃至11のいずれか1項に記載の電流検知ユニット。
【0050】
(実施態様13) 前記磁気シールド部材内における前記平行電流線部の間隔と、前記磁気シールド部材から突出した前記平行電流線部の間隔は異なることを特徴とする実施態様12に記載の電流検知ユニット。
【0051】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、大電流に対してもサイズが大きくならない電流センサを高感度の磁気検出素子を用いて構成でき、高感度で小型の電流センサを実現することができる。また、磁気検出素子と電流線が非接触であるため、電気回路的な相互影響がなく、検知対象となる電流信号に挿入インピーダンスの影響やその他干渉の影響は皆無である。
【0052】
また、大きな磁束の発生がないため、大きな磁気シールドを必要とせず、従来のように磁気シールドに対して磁気飽和等の条件を考慮する必要がない、従来のホール素子のように磁気コアを用いないためコア材のヒステリシス損による発熱の心配が無い等の効果が得られる。
【0053】
更に、回路基板に磁気検出素子を実装し、磁気検出素子の近傍に設けられた貫通穴又は切り欠きへ往復する電流平行線部を通したり、或いは磁気検出素子が実装された基板を電流線に対して平行になるような構造とすることにより、生産性の高い電流検知ユニットを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電流センサの一実施形態を示す斜視図である。
【図2】図1の平面図である。
【図3】図1の電流センサを用いた電流検知ユニットの一実施形態を示す斜視図である。
【図4】本発明の評価実験に用いた電流センサを示す斜視図である。
【図5】本発明の評価実験に用いた駆動回路を示す回路図である。
【図6】本発明の評価実験結果の電流検知特性を示す図である。
【図7】駆動回路の他の例を示す回路図である。
【図8】電流検知ユニットの他の実施形態を示す斜視図である。
【図9】従来例のホール素子を用いた電流センサを示す斜視図である。
【符号の説明】
10 磁気検出素子
12 非磁性基板
14 磁性体(磁性薄膜)
16a16b 電極
20 電流線
20a、20b 電流線平行部
22、24 円周磁界
26 磁気シールド
30 回路基板
32 電流線
32a、32b 電流線平行部
34 ベース部材
36 磁気シールド部材
37 駆動回路IC
38 電流線の中心軸
40 非磁性基板
42 MI素子
44 渦巻コイル
46a、46b 電極
50 パルス発振器
52 バッファ
54 電流調整用抵抗器
56p、56m 検波回路
58p、58m 抵抗器
60 増幅器
62 パルス発振器
64 バッファ
66 電流調整用抵抗器
68 検波回路
70 増幅器

Claims (4)

  1. 検出対象である平行に配置された2つの電流線部に逆方向に流れる電流を、前記2つの電流線部から発生する磁界を検出することによって計測する電流センサであって
    前記平行電流線部の軸を結ぶ延長線上に配置されており、かつ磁性体に直接高周波電流を流し、外部磁界を加えることにより前記磁生体の透磁率が変化する磁気検出素子と、
    前記平行電流線部及び前記磁気検出素子を囲むための磁気シールドと、
    前記平行電流線部から発生される磁界の差分値に基づいて前記平行電流線部に流れる電流量を検出する検出手段とを有し、
    前記平行電流線部の間隔dは、前記磁気検出素子に近い側の電流線部と前記磁気検出素子との距離s以下であり、前記平行電流線部と前記磁気シールドの内壁面との距離は前記磁気検出素子に遠い側の電流線部からd+s以上はなれていることを特徴とする電流センサ。
  2. 前記2つの電流線部において、互いの端部が結合されていることを特徴とする請求項1に記載の電流センサ。
  3. 前記電流線部の断面は、前記磁気検出素子の磁界検知方向に沿って細長い矩形形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電流センサ。
  4. 磁界検知方向における前記断面の長さは、前記磁性体の長さ以上であることを特徴とする請求項3に記載の電流センサ。
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