JP4241727B2 - 光ヘッド装置、その製造方法及び光学式情報記録再生装置 - Google Patents

Description

本発明は、光記録媒体に対して記録及び／又は再生を行うための光ヘッド装置、その製造方法及び光学式情報記録再生装置に関し、特に、光ヘッド装置の光学系において生じる各種の収差を簡単に補正することが可能な光ヘッド装置、その製造方法及びこの光ヘッド装置が組み込まれた光学式情報記録再生装置に関する。

光学式情報記録再生装置における記録密度は、光ヘッド装置が光記録媒体上に形成する集光スポットの径の２乗に反比例する。即ち、集光スポットの径が小さいほど記録密度は高くなる。集光スポットの径は光ヘッド装置における光源の波長に比例し、対物レンズの開口数に反比例する。即ち、光源の波長が短く、対物レンズの開口数が高いほど集光スポットの径は小さくなる。

ところで、光ヘッド装置の光学系においては、光学部品の製造誤差及び調整誤差等により、コマ収差、球面収差、非点収差、矢型収差等の各種の収差が生じる。例えば、対物レンズの入射面の中心と出射面の中心とが互いにずれるとコマ収差及び非点収差が生じ、対物レンズの入射面と出射面との間隔が設計からずれると球面収差が生じる。光ヘッド装置の光学系で各種の収差が生じると、集光スポットの形状が乱れ、記録再生特性が悪化する。コマ収差、球面収差、非点収差の大きさは、光源の波長に反比例し、夫々対物レンズの開口数の３乗、４乗、２乗に比例する。このため、光源の波長が短く、対物レンズの開口数が高いほど、記録再生特性に対する各種の収差のマージンは狭くなる。従って、記録密度を高めるために光源の波長を短くして、対物レンズの開口数を高くした光ヘッド装置及び光学式情報記録再生装置においては、記録再生特性を悪化させないために、光ヘッド装置の光学系で生じる各種の収差を補正することが必要である。

各種の収差を補正することが可能な従来の光ヘッド装置として、光学系中に液晶光学素子を設けた光ヘッド装置が知られている（例えば、非特許文献１及び特許文献１参照。）。図１４は、従来の光学系中に液晶光学素子を設けた光ヘッド装置を示すブロック図である。図１４に示すように、この従来の光ヘッド装置においては、半導体レーザ１が設けられており、この半導体レーザ１が出射するレーザ光の経路に沿って、半導体レーザ１から出射されたレーザ光を平行光とするコリメータレンズ２、Ｐ偏光を透過させＳ偏光を所定の方向に向けて反射する偏光ビームスプリッタ３、入射した光の位相分布を制御して透過させる液晶光学素子１８、相互に垂直な方向に振動する直線偏光が入射したときに、これらの間に１／４波長分の位相差を与える１／４波長板５、入射した平行光を収束させる対物レンズ６が設けられており、この対物レンズ６の焦点に光記録媒体であるディスク７が配置されるようになっている。また、偏光ビームスプリッタ３により反射される光の経路に沿って、円筒レンズ８、レンズ９及び光検出器１０が配置されている。光検出器１０は、円筒レンズ８及びレンズ９からなる複合レンズにより形成される２つの焦線の中間に設置されている。

図１４に示す従来の光ヘッド装置においては、光源である半導体レーザ１がレーザ光を出射し、このレーザ光がコリメータレンズ２により平行光化され、偏光ビームスプリッタ３にＰ偏光として入射してほぼ完全に透過し、液晶光学素子１８を透過し、１／４波長板５を透過して直線偏光から円偏光に変換され、対物レンズ６で光記録媒体であるディスク７上に集光される。そして、ディスク７において反射される。ディスク７からの反射光は対物レンズ６を逆向きに透過し、１／４波長板５を透過して円偏光から往路と偏光方向が直交した直線偏光に変換され、液晶光学素子１８を逆向きに透過し、偏光ビームスプリッタ３にＳ偏光として入射してほぼ完全に反射され、円筒レンズ８及びレンズ９を透過することにより非点収差を与えられ、光検出器１０で受光される。

図１５（ａ）乃至（ｃ）は液晶光学素子を示す平面図であり、（ａ）はコマ収差を補正する液晶光学素子１８ａを示し、（ｂ）は球面収差を補正する液晶光学素子１８ｂを示し、（ｃ）は非点収差を補正する液晶光学素子１８ｃを示す。液晶光学素子１８ａ、１８ｂ、１８ｃの構成は、例えば前述の非特許文献１に記載されている。なお、図中の破線は対物レンズ６の有効領域に相当する。液晶光学素子１８ａ〜１８ｃは、各領域に印加する電圧を制御することにより、各領域の屈折率を制御して、入射光の位相分布を制御するものである。

図１５（ａ）に示すように、液晶光学素子１８ａは、領域１９ａ〜１９ｅの５つの領域に分割されている。領域１９ｂ及び１９ｅに第１の電圧Ｖ１を印加し、領域１９ａに第２の電圧Ｖ２を印加し、領域１９ｃ及び１９ｄに第３の電圧Ｖ３を印加する。このとき、Ｖ１−Ｖ２＝Ｖ２−Ｖ３＝Ｖとし、電圧Ｖを変化させると透過光に対するコマ収差が変化する。そこで、電圧Ｖを調整することにより、光学系で生じているコマ収差を打ち消すようなコマ収差を液晶光学素子１８ａで発生させ、コマ収差の補正を行う。

また、図１５（ｂ）に示すように、液晶光学素子１８ｂは、領域１９ｆ〜１９ｊの５つの領域に分割されている。領域１９ｈに第１の電圧Ｖ１を印加し、領域１９ｇ及び１９ｉに第２の電圧Ｖ２を印加し、領域１９ｆ及び１９ｊに第３の電圧Ｖ３を印加する。このとき、Ｖ１−Ｖ２＝Ｖ２−Ｖ３＝Ｖとし、電圧Ｖを変化させると透過光に対する球面収差が変化する。そこで、電圧Ｖを調整することにより、光学系で生じている球面収差を打ち消すような球面収差を液晶光学素子１８ｂで発生させ、球面収差の補正を行う。

更に、図１５（ｃ）に示すように、液晶光学素子１８ｃは、領域１９ｋ〜１９ｏの５つの領域に分割されている。領域１９ｌ及び１９ｍに第１の電圧Ｖ１を印加し、領域１９ｋに第２の電圧Ｖ２を印加し、領域１９ｎ及び１９ｏに第３の電圧Ｖ３を印加する。このとき、Ｖ１−Ｖ２＝Ｖ２−Ｖ３＝Ｖとし、電圧Ｖを変化させると透過光に対する非点収差が変化する。そこで、電圧Ｖを調整することにより、光学系で生じている非点収差を打ち消すような非点収差を液晶光学素子１８ｃで発生させ、非点収差の補正を行う。

一方、液晶光学素子以外の収差補正装置を組み込んだヘッド装置も開発されている。例えば、複数の光学素子と、この複数の光学素子間の相対的な位置を制御する可動手段とを備えた収差補正装置を組み込んだヘッド装置が開示されている（例えば、特許文献２及び特許文献３参照。）。このようなヘッド装置においては、ヘッド装置の光学系において発生する収差に応じて、可動手段により複数の光学素子の相対的な位置関係を制御することにより、収差補正装置の収差を前記ヘッド装置の収差を打ち消すように制御することができる。

また、予めヘッド装置の光学系の収差を打ち消すように調整された収差補正素子を、ヘッド装置に組み込む技術も開示されている（例えば、特許文献４参照。）。

特開２００２−３７３４４１号公報 特開２０００−１１３４９４号公報 特開２００１−０４３５４９号公報 特開２００３−００６９０９号公報 オプティクス・デザイン 第２１号 第５０頁〜第５５頁

しかしながら、上述の従来の技術には、以下に示すような問題点がある。図１４に示す従来の光ヘッド装置において、光学系で生じる各種の収差を液晶光学素子１８により補正するためには、液晶光学素子１８の各領域に電圧を印加するための駆動回路（図示せず）が必要である。また、その駆動回路を制御するための、制御回路（図示せず）も必要である。従って、本光ヘッド装置を用いた光学式情報記録再生装置の構成が極めて複雑になり、コストが増大すると共に大型化する。

また、複数の光学素子及び可動手段を備えた収差補正装置を組み込んだヘッド装置においても、可動手段を動作させるための回路が必要となり、光学式情報記録再生装置の構成が複雑になる。

更に、ヘッド装置に、予めヘッド装置の光学系の収差を打ち消すように調整された収差補正素子を組み込む技術においては、以下に示す問題点がある。即ち、ヘッド装置の光学系の収差には機差があり、同一の設計により製造された複数台のヘッド装置においても、光学系の収差は相互に異なっている。このため、これらの複数台のヘッド装置に同じ収差補正素子を組み込んでも、収差を精度よく補正することができない。また、個々のヘッド装置に対して最適に調整された収差補正素子を作製すると、ヘッド装置の製造コストが極めて高くなってしまう。

本発明の目的は、従来の光ヘッド装置及び光学式情報記録再生装置における上述の課題を解決し、特別な駆動回路及び制御回路を必要とせず、光ヘッド装置の光学系で生じる各種の収差を簡単に低コストで補正することが可能な光ヘッド装置、その製造方法及び光学式情報記録再生装置を提供することにある。

本発明に係る光ヘッド装置は、光源と、この光源から出射した光を光記録媒体に集光する対物レンズと、前記光記録媒体により反射された光を検出する光検出器と、前記光源から前記対物レンズまでの前記光の経路に介在しこの経路において発生する前記光の非点収差及び矢型収差を含む収差を補正する複数枚の収差補正光学素子と、を有し、前記複数枚の収差補正光学素子は、複数種類の収差補正光学素子の中から前記収差に応じて選択されたものであることを特徴とする。

本発明においては、光の経路に介在するように設けた収差補正光学素子により、この光の経路において生じる非点収差及び矢型収差を含む収差を補正する。そして、この収差補正光学素子は、予め用意された複数種類の収差補正光学素子の中から、前記収差に応じて選択されたものであるため、収差を精度よく補正でき、また、収差補正光学素子を駆動するための駆動回路は不要である。また、この駆動回路を制御するための制御回路も不要である。更に、個々のヘッド装置に対して最適に調整された収差補正光学素子を作製する必要もない。従って、この光ヘッド装置を組み込んだ光学式情報記録再生装置の構成を複雑にすることなく、低いコストで各種の収差を簡単に補正することができる。

また、前記複数種類の収差補正光学素子は、補正する収差の種類、符号又は補正量が相互に異なるものであることが好ましい。これにより、光の経路において生じる収差がどのようなものであっても、多くの場合について収差を補正することができる。

更に、前記収差補正光学素子における前記光が入射又は出射する表面のうち少なくとも一方の表面が、２レベル以上のステップを有する階段状であってもよい。これにより、収差補正光学素子を容易に作製することができる。

又は、前記収差補正光学素子における前記光が入射又は出射する表面のうち少なくとも一方の表面が、曲面により形成されていてもよい。これにより、収差を精度良く補正することができる。

本発明に係る光ヘッド装置の製造方法は、光源、この光源から出射した光を光記録媒体に集光する対物レンズ、及び前記光記録媒体により反射された光を検出する光検出器を備えた光学系を組み立てる工程と、前記光学系における前記光源から前記対物レンズまでの前記光の経路において発生する非点収差及び矢型収差を含む収差を測定する工程と、この収差の測定結果に基づいて複数種類の収差補正光学素子の中から前記光の非点収差及び矢型収差を含む収差を補正する１又は複数枚の収差補正光学素子を選択して、前記光の経路に介在するように前記光学系に組み込む工程と、を有することを特徴とする。

本発明に係る光学式情報記録再生装置は、前記光ヘッド装置と、前記光源を駆動する第一の回路と、前記光検出器の出力信号に基づいて再生信号及び誤差信号を生成する第二の回路と、前記誤差信号に基づいて前記対物レンズの位置を制御する第三の回路と、を有することを特徴とする。

本発明によれば、複数種類の収差補正光学素子の中から、非点収差及び矢型収差を含む収差に応じて選択された複数枚の収差補正光学素子を組み込むことにより、光ヘッド装置の光学系で生じる各種の収差を、特別な駆動回路や制御回路を必要とせずに簡単に補正することができる。これにより、光学式情報記録再生装置を低コスト化及び小型化することができる。

図１は本発明の第１の実施形態に係る光学式情報記録再生装置を示すブロック図である。 図２（ａ）は、本実施形態におけるコマ収差を補正する収差補正光学素子４ａを示す平面図であり、図２（ｂ）乃至図２（ｅ）は図２（ａ）に示すＡ−Ａ’線による断面図である。 図３（ａ）は、本実施形態における球面収差を補正する収差補正光学素子４ｂを示す平面図であり、図３（ｂ）乃至図３（ｅ）は図３（ａ）に示すＢ−Ｂ’線による断面図である。 図４（ａ）は、本実施形態における非点収差を補正する収差補正光学素子４ｃを示す平面図であり、図４（ｂ）乃至図４（ｅ）は図４（ａ）に示すＣ−Ｃ’線による断面図である。 図５（ａ）は、本実施形態における矢型収差を補正する収差補正光学素子４ｄを示す平面図であり、図５（ｂ）乃至図５（ｅ）は図５（ａ）に示すＤ−Ｄ’線による断面図である。 図６（ａ）乃至図６（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ａの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ａの波面収差を示すグラフ図である。 図７（ａ）乃至図７（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ｂの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ｂの波面収差を示すグラフ図である。 図８（ａ）乃至図８（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ｃの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ｃの波面収差を示すグラフ図である。 図９（ａ）乃至図９（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ｄの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ｄの波面収差を示すグラフ図である。 図１０（ａ）は、本発明の第２の実施形態におけるコマ収差を補正する収差補正光学素子４ｅを示す平面図であり、図１０（ｂ）乃至図１０（ｅ）は図１０（ａ）に示すＥ−Ｅ’線による断面図である。 図１１（ａ）は、本実施形態における球面収差を補正する収差補正光学素子４ｆを示す平面図であり、図１１（ｂ）乃至図１１（ｅ）は図１１（ａ）に示すＦ−Ｆ’線による断面図である。 図１２（ａ）は、本実施形態における非点収差を補正する収差補正光学素子４ｇを示す平面図であり、図１２（ｂ）乃至図１２（ｅ）は図１２（ａ）に示すＧ−Ｇ’線による断面図である。 図１３（ａ）は、本実施形態における矢型収差を補正する収差補正光学素子４ｈを示す平面図であり、図１３（ｂ）乃至図１３（ｅ）は図１３（ａ）に示すＨ−Ｈ’線による断面図である。 図１４は、従来の光学系中に液晶光学素子を設けた光ヘッド装置を示すブロック図である。 図１５（ａ）乃至図１５（ｃ）は液晶光学素子を示す平面図であり、図１５（ａ）はコマ収差を補正する液晶光学素子１８ａを示し、図１５（ｂ）は球面収差を補正する液晶光学素子１８ｂを示し、図１５（ｃ）は非点収差を補正する液晶光学素子１８ｃを示す。

以下、本発明の実施形態について添付の図面を参照して具体的に説明する。先ず、本発明の第１の実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る光学式情報記録再生装置を示すブロック図であり、図２（ａ）乃至２（ｅ）、図３（ａ）乃至３（ｅ）、図４（ａ）乃至４（ｅ）、図５（ａ）乃至５（ｅ）は、この光学式情報記録再生装置の光ヘッド装置に組み込まれる収差補正光学素子を示す図であり、各図の（ａ）は平面図であり、各図の（ｂ）乃至（ｅ）は断面図である。本実施形態に係る光学式情報記録再生装置は、例えば、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）ドライブである。

図１に示すように、本実施形態に係る光学式情報記録再生装置においては、光ヘッド装置２１が組み込まれている。光ヘッド装置２１においては、半導体レーザ１が設けられており、この半導体レーザ１が出射するレーザ光の経路に沿って、半導体レーザ１から出射されたレーザ光を平行光とするコリメータレンズ２、Ｐ偏光を透過させＳ偏光を所定の方向に反射する偏光ビームスプリッタ３、光学系の収差を補正する収差補正光学素子４、相互に垂直な方向に振動する直線偏光が入射したときにこれらの間に１／４波長分の位相差を与える１／４波長板５、入射した平行光を収束させる対物レンズ６が設けられており、この対物レンズ６の焦点に光記録媒体であるディスク７が位置するようになっている。

また、偏光ビームスプリッタ３により反射される光の経路に沿って、円筒レンズ８、レンズ９及び光検出器１０が配置されている。なお、円筒レンズ８及びレンズ９により、光に非点収差を与える複合レンズが構成されている。光検出器１０は、円筒レンズ８及びレンズ９からなる複合レンズにより形成される２つの焦線の中間に設置されている。光検出器１０においては、光の受光面に複数の受光部（図示せず）が配列されており、各受光部が受光した光の強度を測定することにより、入射した光から各種の信号を検出するものである。

更に、図１に示すように、本実施形態に係る光学式情報記録再生装置における光ヘッド装置２１の外部には、外部から入力される記録データに基づき、半導体レーザ１を駆動するための記録信号を生成する記録信号生成回路１２が設けられている。また、記録信号生成回路１２から出力された記録信号が入力され、この記録信号に基づいて半導体レーザ１を駆動するための駆動信号を生成し、これを半導体レーザ１に対して出力する半導体レーザ駆動回路１３が設けられている。

更にまた、光検出器１０から出力された電流信号を電圧信号に変換するプリアンプ１４が設けられており、このプリアンプ１４から出力された電圧信号に基づいて再生信号を生成して再生データを外部へ出力する再生信号生成回路１５が設けられている。また、プリアンプ１４から出力された電圧信号に基づいて、対物レンズ６を駆動するためのフォーカス誤差信号及びトラック誤差信号を生成する誤差信号生成回路１６が設けられており、このフォーカス誤差信号及びトラック誤差信号が入力され、これらの信号に基づいて駆動信号を生成する対物レンズ駆動回路１７が設けられており、この対物レンズ駆動回路１７から出力された駆動信号が入力され、対物レンズ６の位置を制御するアクチュエータ（図示せず）が設けられている。更に、本実施形態に係る光学式情報記録再生装置においては、ディスク７を回転させるスピンドル制御回路、及び光ヘッド装置２１全体をディスク７に対して移動させるポジショナ制御回路等が設けられている。

前述の如く、収差補正光学素子４は、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光の経路に介在している。図１においては、偏光ビームスプリッタ３と１／４波長板５の間に挿入されているが、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系中であれば、どこに挿入されていても良い。また、収差補正光学素子４は、以下に説明する複数の収差補正光学素子から選択された１枚又は２枚以上の収差補正光学素子であり、光ヘッド装置２１において発生している収差を最も効果的に補正できる収差補正光学素子が選択され、光ヘッド装置２１に組み込まれる。以下、光ヘッド装置２１に組み込まれる収差補正光学素子４の候補となる複数の収差補正光学素子について、詳細に説明する。

光学系で生じるコマ収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図２に示す収差補正光学素子４ａを使用する。図２（ａ）は収差補正光学素子４ａを示す平面図である。図２（ａ）に示すように、収差補正光学素子４ａは、領域１１ａ〜１１ｅの５つの領域に分割されている。なお、図中の破線は対物レンズ６の有効領域を示している。

収差補正光学素子４ａにおいては、外縁が＋Ｘ方向及び−Ｘ方向に膨らんだ凸形曲線からなる領域１１ａが設けられており、この領域１１ａのＹ方向における両端は、対物レンズ６の有効領域の外側にはみ出し、夫々収差補正光学素子４ａの端縁に接している。また、Ｘ方向における領域１１ａの両側が、夫々領域１１ｄ及び１１ｅとなっている。更に、領域１１ａの内部における領域１１ａのＹ軸に平行な中心線に関して相互に対称となる位置に、２つの領域１１ｂ及び１１ｃが設けられている。

収差補正光学素子４ａは、コマ収差の補正量及び／又は符号の違いにより、更に４種類の収差補正光学素子４ａ１〜４ａ４に分類できる。図２（ｂ）乃至（ｅ）は、コマ収差の補正量及び／又は符号が相互に異なる４種類の収差補正光学素子４ａ１〜４ａ４を示す図２（ａ）に示すＡ−Ａ’線による断面図である。図２（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、収差補正光学素子４ａ１〜４ａ４の表面形状は３レベルの階段状である。

図２（ｂ）に示す収差補正光学素子４ａ１においては、領域１１ｂ及び１１ｅの高さは領域１１ａの高さに比べてｈだけ高く、領域１１ｃ及び１１ｄの高さは領域１１ａの高さに比べてｈだけ低い。図２（ｃ）に示す収差補正光学素子４ａ２においては、領域１１ｂ及び１１ｅの高さは領域１１ａの高さに比べて２ｈだけ高く、領域１１ｃ及び１１ｄの高さは領域１１ａの高さに比べて２ｈだけ低い。図２（ｄ）に示す収差補正光学素子４ａ３においては、領域１１ｂ及び１１ｅの高さは領域１１ａの高さに比べてｈだけ低く、領域１１ｃ及び１１ｄの高さは領域１１ａの高さに比べてｈだけ高い。図２（ｅ）に示す収差補正光学素子４ａ４においては、領域１１ｂ及び１１ｅの高さは領域１１ａの高さに比べて２ｈだけ低く、領域１１ｃ及び１１ｄの高さは領域１１ａの高さに比べて２ｈだけ高い。一方、収差補正光学素子４ａの中心を通るＹ方向の断面は平坦である。

このような断面を有する収差補正光学素子４ａは、ガラス若しくはプラスチックの成形
により、又は、ガラス上に誘電体を堆積させることにより作製することができる。後者の
作製方法は、フォトリソグラフィのプロセスを適用できるため製造コストが低く、量産性
に優れている。

光学系で生じる球面収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図３に示す収差補正光学素子４ｂを使用する。図３（ａ）は収差補正光学素子４ｂを示す平面図である。図３（ａ）に示すように、収差補正光学素子４ｂは、領域１１ｆ〜１１ｊの５つの領域に分割されている。なお、図中の破線は対物レンズ６の有効領域を示している。

収差補正光学素子４ｂにおいては、中心が収差補正光学素子４ｂの中心と一致する円形の領域１１ｆが設けられており、この領域１１ｆの周囲に、内側から外側に向かって、領域１１ｆと同心円状に環状の領域１１ｇ、１１ｈ及び１１ｉが設けられており、収差補正光学素子４ｂにおける領域１１ｉの外側が領域１１ｊとなっている。なお、領域１１ｉの外縁は対物レンズ６の有効領域に相当する領域の内部に位置している。

収差補正光学素子４ｂは、球面収差の補正量及び／又は符号の違いにより、更に４種類の収差補正光学素子４ｂ１〜４ｂ４に分類できる。図３（ｂ）乃至（ｅ）は、球面収差の補正量及び／又は符号が相互に異なる４種類の収差補正光学素子４ｂ１〜４ｂ４を示す図３（ａ）に示すＢ−Ｂ’線による断面図である。図３（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、収差補正光学素子４ｂ１〜４ｂ４の表面形状は３レベルの階段状である。

図３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｂ１においては、領域１１ｈの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べてｈだけ高く、領域１１ｆ及び１１ｊの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べてｈだけ低い。図３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｂ２においては、領域１１ｈの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べて２ｈだけ高く、領域１１ｆ及び１１ｊの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べて２ｈだけ低い。図３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｂ３においては、領域１１ｈの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べてｈだけ低く、領域１１ｆ及び１１ｊの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べてｈだけ高い。図３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｂ４においては、領域１１ｈの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べて２ｈだけ低く、領域１１ｆ及び１１ｊの高さは領域１１ｇ及び１１ｉの高さに比べて２ｈだけ高い。一方、収差補正光学素子４ｂの中心を通るＹ方向の断面は、中心を通るＸ方向の断面と同じである。

このような断面を有する収差補正光学素子４ｂは、ガラス若しくはプラスチックの成形により、又は、ガラス上に誘電体を堆積させることにより作製することができる。後者の作製方法は、フォトリソグラフィのプロセスを適用できるため製造コストが低く、量産性に優れている。

光学系で生じる非点収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図４に示す収差補正光学素子４ｃを使用する。図４（ａ）は収差補正光学素子４ｃを示す平面図である。図４（ａ）に示すように、収差補正光学素子４ｃは、領域１１ｋ〜１１ｏの５つの領域に分割されている。なお、図中の破線は対物レンズ６の有効領域を示している。

収差補正光学素子４ｃにおいては、中心が収差補正光学素子４ｃの中心と一致する円形の領域１１ｋが設けられており、この領域１１ｋの外側に領域１１ｌ〜１１ｏが収差補正光学素子４ｃの中心に関して４回対称となるように設けられている。領域１１ｋから見て、＋Ｙ方向には領域１１ｌが設けられており、−Ｙ方向には領域１１ｍが設けられており、−Ｘ方向には領域１１ｎが設けられており、＋Ｘ方向には領域１１ｏが設けられている。領域１１ｌ〜１１ｏにおける相互間の境界線は、収差補正光学素子４ｃの対角線と一致している。なお、領域１１ｋは対物レンズ６の有効領域の内部にある。

収差補正光学素子４ｃは、非点収差の補正量及び／又は符号の違いにより、更に４種類の収差補正光学素子４ｃ１〜４ｃ４に分類できる。図４（ｂ）乃至（ｅ）は、非点収差の補正量及び／又は符号が異なる４種類の収差補正光学素子４ｃ１〜４ｃ４を示す図４（ａ）に示すＣ−Ｃ’線による断面図である。図４（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、収差補正光学素子４ｃ１〜４ｃ４の中心を通るＸ方向の断面形状は２レベルの階段状である。

図４（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｃ１においては、領域１１ｎ及び１１ｏの高さは領域１１ｋの高さに比べてｈだけ高い。図４（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｃ２においては、領域１１ｎ及び１１ｏの高さは領域１１ｋの高さに比べて２ｈだけ高い。図４（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｃ３においては、領域１１ｎ及び１１ｏの高さは領域１１ｋの高さに比べてｈだけ低い。図４（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｃ４においては、領域１１ｎ及び１１ｏの高さは領域１１ｋの高さに比べて２ｈだけ低い。

一方、収差補正光学素子４ｃの中心を通るＹ方向の断面形状（図示せず）は、同じく２レベルの階段状である。図４（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｃ１においては、領域１１ｌ及び１１ｍの高さは領域１１ｋの高さに比べてｈだけ低い。図４（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｃ２においては、領域１１ｌ及び１１ｍの高さは領域１１ｋの高さに比べて２ｈだけ低い。図４（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｃ３においては、領域１１ｌ及び１１ｍの高さは領域１１ｋの高さに比べてｈだけ高い。図４（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｃ４においては、領域１１ｌ及び１１ｍの高さは領域１１ｋの高さに比べて２ｈだけ高い。即ち、収差補正光学素子４ｃの表面形状は、全体として３レベルの階段状である。

このような断面を有する収差補正光学素子４ｃは、ガラス若しくはプラスチックの成形により、又は、ガラス上に誘電体を堆積させることにより作製することができる。後者の作製方法は、フォトリソグラフィのプロセスを適用できるため、製造コストが低く、量産性に優れている。

光学系で生じる矢型収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図５に示す収差補正光学素子４ｄを使用する。図５（ａ）は収差補正光学素子４ｄを示す平面図である。図５（ａ）に示すように、収差補正光学素子４ｄ全体の形状は、光軸方向から見て正六角形である。そして、収差補正光学素子４ｄは、領域１１ｐ〜１１ｖの７つの領域に分割されている。なお、図中の破線は対物レンズ６の有効領域を示している。

収差補正光学素子４ｄにおいては、中心が収差補正光学素子４ｄの中心と一致する円形の領域１１ｐが設けられており、この領域１１ｐの外側に領域１１ｑ〜１１ｖが収差補正光学素子４ｄの中心に関して６回対称となるように設けられている。領域１１ｐから見て、−Ｘ方向には領域１１ｑが設けられており、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向には領域１１ｒが設けられており、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向には領域１１ｓが設けられており、＋Ｘ方向には領域１１ｔが設けられており、−Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向には領域１１ｕが設けられており、−Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向には領域１１ｖが設けられている。即ち、領域１１ｓ、領域１１ｔ、領域１１ｒ、領域１１ｖ、領域１１ｑ及び領域１１ｕは、円形の領域１１ｐを囲むようにこの順に配列されている。領域１１ｑ〜１１ｖにおける相互間の境界線は、収差補正光学素子４ｄの対角線と一致している。なお、領域１１ｐは対物レンズ６の有効領域の内部にある。

収差補正光学素子４ｄは、矢型収差の補正量及び／又は符号の違いにより、更に４種類の収差補正光学素子４ｄ１〜４ｄ４に分類できる。図５（ｂ）乃至（ｅ）は、矢型収差の補正量及び／又は符号が異なる４種類の収差補正光学素子４ｄ１〜４ｄ４を示す図５（ａ）に示すＤ−Ｄ’線による断面図である。図５（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、収差補正光学素子４ｄ１〜４ｄ４の中心を通るＸ方向の断面形状は３レベルの階段状である。

図５（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｄ１においては、領域１１ｑの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ低く、領域１１ｔの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ高い。図５（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｄ２においては、領域１１ｑの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ低く、領域１１ｔの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ高い。図５（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｄ３においては、領域１１ｑの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ高く、領域１１ｔの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ低い。図５（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｄ４においては、領域１１ｑの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ高く、領域１１ｔの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ低い。

一方、収差補正光学素子４ｄの中心を通り、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における素子の形状（図示せず）は、Ｘ方向に平行な断面と同じく３レベルの階段状である。図５（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｄ１においては、領域１１ｒの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ低く、領域１１ｕの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ高い。図５（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｄ２においては、領域１１ｒの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ低く、領域１１ｕの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ高い。図５（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｄ３においては、領域１１ｒの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ高く、領域１１ｕの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ低い。図５（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｄ４においては、領域１１rの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ高く、領域１１ｕの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ低い。

また、収差補正光学素子４ｄの中心を通り、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における素子の形状（図示せず）は、Ｘ方向に平行な断面と同じく３レベルの階段状である。図５（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｄ１においては、領域１１ｓの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ低く、領域１１ｖの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ高い。図５（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｄ２においては、領域１１ｓの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ低く、領域１１ｖの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ高い。図５（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｄ３においては、領域１１ｓの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ高く、領域１１ｖの高さは領域１１ｐの高さに比べてｈだけ低い。図５（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｄ４においては、領域１１ｓの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ高く、領域１１ｖの高さは領域１１ｐの高さに比べて２ｈだけ低い。

このような断面を有する収差補正光学素子４ｄは、ガラス若しくはプラスチックの成形により、又は、ガラス上に誘電体を堆積させることにより作製することができる。後者の作製方法は、フォトリソグラフィのプロセスを適用できるため製造コストが低く、量産性に優れている。

次に、本実施形態に係る光ヘッド装置２１の製造方法について説明する。先ず、図１に示すように、半導体レーザ１、コリメータレンズ２、偏光ビームスプリッタ３、１／４波長板５、対物レンズ６を、半導体レーザ１が出射するレーザ光の経路に沿ってこの順に配列し、光学系を組み立てる。また、偏光ビームスプリッタ３により反射される光の経路に沿って、円筒レンズ８、レンズ９及び光検出器１０をこの順に配列する。一方、収差補正光学素子として、前述の収差補正光学素子４ａ１〜４ａ４、４ｂ１〜４ｂ４、４ｃ１〜４ｃ４、４ｄ１〜４ｄ４を準備しておく。

次に、半導体レーザ１、コリメータレンズ２、偏光ビームスプリッタ３、１／４波長板５、対物レンズ６からなる光路における光の収差を、干渉計等により測定する。そして、この収差の種類、符号及び収差量に応じて、この収差を補正できるような収差補正光学素子を収差補正光学素子４ａ１〜４ａ４、４ｂ１〜４ｂ４、４ｃ１〜４ｃ４、４ｄ１〜４ｄ４から１枚又は複数枚選択し、選択した収差補正光学素子４を偏光ビームスプリッタ３と１／４波長板５との間に、光路に介在するように組み込む。このとき、収差補正光学素子４により補正される収差の方向が測定された収差の方向と一致するように、収差補正光学素子４を入射光の光軸を中心軸として回転させながら、収差補正光学素子４の方向を調整してもよい。これにより、光ヘッド装置２１が製造される。

次に、上述の如く構成された本実施形態に係る光学式情報記録再生装置の動作について説明する。先ず、ディスク７への記録動作について説明する。図１に示すように、先ず、外部から記録データが記録信号生成回路１２に入力される。そして、この記録信号生成回路１２が入力された記録データに基づき、半導体レーザ１を駆動するための記録信号を生成し、半導体レーザ駆動回路１３に対して出力する。次に、半導体レーザ駆動回路１３がこの記録信号に基づいて駆動信号を生成し、光ヘッド装置２１の半導体レーザ１に対して出力する。

そして、半導体レーザ１が入力された駆動信号に基づいてレーザ光を出射する。このレーザ光はコリメータレンズ２により平行光化され、偏光ビームスプリッタ３にＰ偏光として入射してほぼ完全に透過し、収差補正光学素子４を透過することにより往路における収差が補正される。次に、この光は１／４波長板５を透過して直線偏光から円偏光に変換され、対物レンズ６でディスク７上に集光される。これにより、ディスク７にデータが書き込まれ、信号が記録される。

そして、この光はディスク７により反射され、対物レンズ６を逆向きに透過し、１／４波長板５を透過して円偏光から往路と偏光方向が直交した直線偏光に変換され、収差補正光学素子４を透過することにより復路における収差が補正され、偏光ビームスプリッタ３にＳ偏光として入射してほぼ完全に反射され、円筒レンズ８に向けて出射される。この光が円筒レンズ８及びレンズ９を透過することにより非点収差を与えられ、光検出器１０に入射する。そして、光検出器１０の各受光部が受光した光の強度に基づいて電流信号を生成し、プリアンプ１４に対して出力する。

次に、図１に示すように、プリアンプ１４が入力された電流信号を電圧信号に変換し、再生信号生成回路１５及び誤差信号生成回路１６に対して出力する。そして、誤差信号生成回路１６が、プリアンプ１４から入力される電圧信号に基づいて、対物レンズ６を駆動するためのフォーカス誤差信号及びトラック誤差信号を生成する。

そして、対物レンズ駆動回路１７が、誤差信号生成回路１６から入力されるフォーカス誤差信号及びトラック誤差信号に基づいてアクチュエータを駆動し、対物レンズ６の位置を制御する。これにより、フォーカスサーボ及びトラックサーボの動作が行われる。

次に、ディスク７からの再生動作について説明する。データの再生時においては、半導体レーザ駆動回路１３は外部から入力される記録データに基づいて半導体レーザ１を駆動するのではなく、半導体レーザ１に一定の出力でレーザ光を出射させる。そして、前述の記録動作と同様な動作により、レーザ光がディスク７上に集光して反射され、光検出器１０により電流信号として取り出される。次いで、プリアンプ１４がこの電流信号を電圧信号に変換して再生信号生成回路１５及び誤差信号生成回路１６に対して出力する。

次に、再生信号生成回路１５が、プリアンプ１４から入力される電圧信号に基づき、再生信号を生成し、再生データとして外部へ出力する。これにより、ディスク７からの信号の再生が行われる。なお、誤差信号生成回路１６、対物レンズ駆動回路１７及びアクチュエータの動作は、前述のデータ記録時と同様である。

以下、上述の光学式情報記録再生装置の動作における収差補正光学素子４の作用について、詳細に説明する。図６（ａ）乃至（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ａの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ａの波面収差を示すグラフ図であり、図６（ａ）乃至（ｄ）に示す実線は光学系において生じるコマ収差を示しており、破線は収差補正光学素子４ａにより生じる波面収差を示しており、図６（ｅ）乃至（ｈ）に示す実線は収差補正光学素子４ａを用いて光学系で生じるコマ収差を補正した場合の波面収差を示している。

図６（ａ）においては、光学系で生じるコマ収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負と変化しており、ＲＭＳ（root mean square：二乗平均平方根）波面収差は０．０２λである。このコマ収差を補正するため、図２（ｂ）に示す収差補正光学素子４ａ１を使用する。収差補正光学素子４ａ１で生じるコマ収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正と変化している。図２（ｂ）における高さｈは、収差補正光学素子４ａ１を使用して図６（ａ）に示すコマ収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図６（ｅ）はこのときの残留波面収差、即ち図６（ａ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図６（ｂ）においては、光学系で生じるコマ収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。このコマ収差を補正するため、図２（ｃ）に示す収差補正光学素子４ａ２を使用する。収差補正光学素子４ａ２で生じるコマ収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正と変化している。図２（ｃ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ａ２を使用して図６（ｂ）に示すコマ収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図６（ｆ）はこのときの残留波面収差、即ち図６（ｂ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図６（ｃ）においては、光学系で生じるコマ収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０２λである。このコマ収差を補正するため、図２（ｄ）に示す収差補正光学素子４ａ３を使用する。収差補正光学素子４ａ３で生じるコマ収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負と変化している。図２（ｄ）における高さｈは、収差補正光学素子４ａ３を使用して図６（ｃ）に示すコマ収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図６（ｇ）はこのときの残留波面収差、即ち図６（ｃ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図６（ｄ）においては、光学系で生じるコマ収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。このコマ収差を補正するため、図６（ｅ）に示す収差補正光学素子４ａ４を使用する。収差補正光学素子４ａ４で生じるコマ収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負と変化している。図２（ｅ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ａ４を使用して図６（ｄ）に示すコマ収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図６（ｈ）はこのときの残留波面収差、即ち図６（ｄ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

一方、収差補正光学素子４ａの中心を通るＹ方向の断面における波面収差は０λである。

光学系で生じるコマ収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、例えば、図２（ｂ）乃至（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ａを準備しておく。そして、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系のうち、収差補正光学素子４ａを除く光学系において生じるコマ収差の量及び符号を干渉計等により測定する。そして、測定したコマ収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ａ１乃至４ａ４の中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ａを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下の場合は、収差補正光学素子４ａを用いたコマ収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下の場合は、コマ収差の符号に応じて、図２（ｂ）に示す収差補正光学素子４ａ１又は図２（ｄ）に示す収差補正光学素子４ａ３を用いてコマ収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、コマ収差の符号に応じて、図２（ｃ）に示す収差補正光学素子４ａ２又は図２（ｅ）に示す収差補正光学素子４ａ４を用いてコマ収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。なお、本実施形態においては、収差補正光学素子４ａの種類を４種類としたが、コマ収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ａの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

なお、図２及び図６においては、光学系で生じるコマ収差の方向がＸ方向である場合について説明したが、光学系で生じるコマ収差の方向がＸ方向とは異なる場合についても、その方向と、収差補正光学素子４ａで補正できるコマ収差の方向が略一致するように、収差補正光学素子４ａを入射光の光軸に垂直な面内で回転させて設置すれば、コマ収差の補正を行うことができる。

図７（ａ）乃至（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ｂの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ｂの波面収差を示すグラフ図であり、図７（ａ）乃至（ｄ）に示す実線は光学系において生じる球面収差を示しており、破線は収差補正光学素子４ｂにより生じる波面収差を示しており、図７（ｅ）乃至（ｈ）に示す実線は収差補正光学素子４ｂを用いて光学系で生じる球面収差を補正した場合の波面収差を示している。

図７（ａ）においては、光学系で生じる球面収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０２λである。この球面収差を補正するため、図３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｂ１を使用する。収差補正光学素子４ｂ１で生じる球面収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正、負と変化している。図３（ｂ）における高さｈは、収差補正光学素子４ｂ１を使用して図７（ａ）に示す球面収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図７（ｅ）はこのときの残留波面収差、即ち図７（ａ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図７（ｂ）においては、光学系で生じる球面収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。この球面収差を補正するため、図３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｂ２を使用する。収差補正光学素子４ｂ２で生じる球面収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正、負と変化している。図３（ｃ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ｂ２を使用して図７（ｂ）に示す球面収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図７（ｆ）はこのときの残留波面収差、即ち図７（ｂ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図７（ｃ）においては、光学系で生じる球面収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正、負と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０２λである。この球面収差を補正するため、図３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｂ３を使用する。収差補正光学素子４ｂ３で生じる球面収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負、正と変化している。図３（ｄ）における高さｈは、収差補正光学素子４ｂ３を使用して図７（ｃ）に示す球面収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図７（ｇ）はこのときの残留波面収差、即ち図７（ｃ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図７（ｄ）においては、光学系で生じる球面収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、正、負、正、負と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。この球面収差を補正するため、図３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｂ４を使用する。収差補正光学素子４ｂ４で生じる球面収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、負、正、負、正と変化している。図３（ｅ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ｂ４を使用して図７（ｄ）に示す球面収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図７（ｈ）はこのときの残留波面収差、即ち図７（ｄ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

一方、収差補正光学素子４ｂの中心を通るＹ方向の断面における波面収差は、中心を通るＸ方向の断面における波面収差と同じである。

光学系で生じる球面収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、図３（ｂ）乃至（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ｂを準備しておく。そして、収差補正光学素子４ｂを除く、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系で生じる球面収差の量及び符号を干渉計等により測定する。次に、測定した球面収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ｂの中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ｂを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下である場合は、収差補正光学素子４ｂによる球面収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下である場合は、球面収差の符号に応じて、図３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｂ１又は図３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｂ３を使用して球面収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、球面収差の符号に応じて、図３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｂ２又は図３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｂ４を使用して球面収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。本実施形態においては、収差補正光学素子４ｂの種類を４種類としたが、球面収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ｂの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

図８（ａ）乃至（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ｃの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ｃの波面収差を示すグラフ図であり、図８（ａ）乃至（ｄ）に示す実線は光学系において生じる非点収差を示しており、破線は収差補正光学素子４ｃにより生じる波面収差を示しており、図８（ｅ）乃至（ｈ）に示す実線は収差補正光学素子４ｃを用いて光学系で生じる非点収差を補正した場合の波面収差を示している。

図８（ａ）においては、光学系で生じる非点収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、負と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０２λである。この非点収差を補正するため、図４（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｃ１を使用する。収差補正光学素子４ｃ１で生じる非点収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、正と変化している。図４（ｂ）における高さｈは、収差補正光学素子４ｃ１を使用して図８（ａ）に示す非点収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図８（ｅ）はこのときの残留波面収差、即ち図８（ａ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図８（ｂ）においては、光学系で生じる非点収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、負と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。この非点収差を補正するため、図４（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｃ２を使用する。収差補正光学素子４ｃ２で生じる非点収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、正と変化している。図４（ｃ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ｃ２を使用して図８（ｂ）に示す非点収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図８（ｆ）はこのときの残留波面収差、即ち図８（ｂ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図８（ｃ）においては、光学系で生じる非点収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０２λである。この非点収差を補正するため、図４（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｃ３を使用する。収差補正光学素子４ｃ３で生じる非点収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、負と変化している。図４（ｄ）における高さｈは、収差補正光学素子４ｃ３を使用して図８（ｃ）に示す非点収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図８（ｇ）はこのときの残留波面収差、即ち図８（ｃ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図８（ｄ）においては、光学系で生じる非点収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。この非点収差を補正するため、図４（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｃ４を使用する。収差補正光学素子４ｃ４で生じる非点収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、負と変化している。図４（ｅ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ｃ４を使用して図８（ｄ）に示す非点収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図８（ｈ）はこのときの残留波面収差、即ち図８（ｄ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

一方、収差補正光学素子４ｃの中心を通るＹ方向の断面における波面収差は、中心を通るＸ方向の断面における波面収差と符号が逆である。

光学系で生じる非点収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、図４（ｂ）〜（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ｃを準備しておく。そして、収差補正光学素子４ｃを除く、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系で生じる非点収差の量及び符号を干渉計等により測定する。測定した非点収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ｃ１乃至４ｃ４の中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ｃを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下の場合は、収差補正光学素子４ｃを用いた非点収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下の場合は、非点収差の符号に応じて、図４（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｃ１又は図４（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｃ３を使用して非点収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、非点収差の符号に応じて、図４（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｃ２又は図４（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｃ４を使用して非点収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。本実施形態においては、収差補正光学素子４ｃの種類を４種類としたが、非点収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ｃの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

なお、図４及び図８では、光学系で生じる非点収差の方向がＸ−Ｙ方向である場合について説明したが、光学系で生じる非点収差の方向がＸ−Ｙ方向とは異なる場合についても、その方向と、収差補正光学素子４ｃで補正できる非点収差の方向が略一致するように、収差補正光学素子４ｃを入射光の光軸に垂直な面内で回転させて設置すれば、非点収差の補正を行うことができる。

図９（ａ）乃至（ｈ）は、横軸に収差補正光学素子４ｄの中心を通るＸ方向の断面における位置をとり、縦軸に収差量をとって、光学系又は収差補正光学素子４ｄの波面収差を示すグラフ図であり、図９（ａ）乃至（ｄ）に示す実線は光学系において生じる矢型収差を示しており、破線は収差補正光学素子４ｄにより生じる波面収差を示しており、図９（ｅ）乃至（ｈ）に示す実線は収差補正光学素子４ｄを用いて光学系で生じる矢型収差を補正した場合の波面収差を示している。

図９（ａ）においては、光学系で生じる矢型収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、負と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０２λである。この矢型収差を補正するため、図５（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｄ１を使用する。収差補正光学素子４ｄ１で生じる矢型収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、正と変化している。図５（ｂ）における高さｈは、収差補正光学素子４ｄ１を使用して図９（ａ）に示す矢型収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図９（ｅ）はこのときの残留波面収差、即ち図９（ａ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図９（ｂ）においては、光学系で生じる矢型収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、負と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。この矢型収差を補正するため、図５（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｄ２を使用する。収差補正光学素子４ｄ２で生じる矢型収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、正と変化している。図５（ｃ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ｄ２を使用して図９（ｂ）に示す矢型収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図９（ｆ）はこのときの残留波面収差、即ち図９（ｂ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図９（ｃ）においては、光学系で生じる矢型収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０２λである。この矢型収差を補正するため、図５（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｄ３を使用する。収差補正光学素子４ｄ３で生じる矢型収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、負と変化している。図５（ｄ）における高さｈは、収差補正光学素子４ｄ３を使用して図９（ｃ）に示す矢型収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図９（ｇ）はこのときの残留波面収差、即ち図９（ｃ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

図９（ｄ）においては、光学系で生じる矢型収差がＸ軸の負の側から正の側へ向かって負、０、正と変化しており、ＲＭＳ波面収差は０．０４λである。この矢型収差を補正するため、図５（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｄ４を使用する。収差補正光学素子４ｄ４で生じる矢型収差は、Ｘ軸の負の側から正の側へ向かって正、０、負と変化している。図５（ｅ）における高さ２ｈは、収差補正光学素子４ｄ４を使用して図９（ｄ）に示す矢型収差を補正したときに、残留ＲＭＳ波面収差が最小になるように設計されている。図９（ｈ）はこのときの残留波面収差、即ち図９（ｄ）の実線と破線の和を示しており、残留波面収差の絶対値が０λに近づいていることがわかる。

一方、収差補正光学素子４ｄの中心を通り、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における波面収差は、中心を通るＸ方向に平行な断面における波面収差と同じである。また、収差補正光学素子４ｄの中心を通り、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における波面収差は、中心を通るＸ方向に平行な断面における波面収差と同じである。

光学系で生じる矢型収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、図５（ｂ）〜（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ｄを準備しておく。そして、収差補正光学素子４ｄを除く、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系で生じる矢型収差の量及び符号を干渉計等により測定する。測定した矢型収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ｄ１乃至４ｄ４の中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ｄを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下の場合は、収差補正光学素子４ｄを用いた矢型収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下の場合は、矢型収差の符号に応じて、図５（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｄ１又は図５（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｄ３を使用して矢型収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、矢型収差の符号に応じて、図５（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｄ２又は図５（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｄ４を使用して矢型収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を約０．０１λ以下に低減することができる。本実施形態においては、収差補正光学素子４ｄの種類を４種類としたが、矢型収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ｄの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

なお、図５及び図９では、光学系で生じる矢型収差の方向がＸ方向、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向である場合について説明したが、光学系で生じる矢型収差の方向がＸ方向、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向とは異なる場合についても、その方向と、収差補正光学素子４ｄで補正できる矢型収差の方向が略一致するように、収差補正光学素子４ｄを入射光の光軸に垂直な面内で回転させて設置すれば、矢型収差の補正を行うことができる。

このように、本実施形態においては、収差補正光学素子４を複数種類用意しておいて、光ヘッド装置２１における収差補正光学素子４を除く光学系の収差を測定し、この収差の種類、符号、補正量に応じていずれかの収差補正光学素子４を選択して光ヘッド装置２１に組み込むことにより、光ヘッド装置２１の光学系の収差を簡単に低減することができる。

また、本実施形態においては、収差補正光学素子４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄのうちいずれか一つの収差補正光学素子を使用して、光学系において生じるコマ収差、球面収差、非点収差、矢型収差のうちいずれか一つの収差を補正する場合について説明したが、いずれか二つ以上の収差補正光学素子を使用して、いずれか二つ以上の収差を補正することも可能である。例えば、光ヘッド装置２１の半導体レーザ１から対物レンズ６までの光の経路において発生する収差が、コマ収差、球面収差、非点収差、矢型収差のうち２種類の収差を含んでいる場合は、各収差を補正する２枚の収差補正光学素子を組み込んでもよい。又は、前記光の経路において発生する収差が、コマ収差、球面収差、非点収差、矢型収差のうち３種類の収差を含んでいる場合は、各収差を補正する３枚の収差補正光学素子を組み込んでもよい。又は、前記光の経路において発生する収差が、コマ収差、球面収差、非点収差、矢型収差の全てを含んでいる場合は、各収差を補正する４枚の収差補正光学素子を組み込んでもよい。

更に、図２乃至図５に示す収差補正光学素子４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄにおける階段状のパタンのレベル数は３であるが、これは２以上であればいくつでも構わない。レベル数が多いほど、残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

次に、本発明の第２の実施形態について説明する。図１０（ａ）乃至（ｅ）は本実施形態における収差補正光学素子４ｅを示す図であり、図１１（ａ）乃至（ｅ）は本実施形態における収差補正光学素子４ｆを示す図であり、図１２（ａ）乃至（ｅ）は本実施形態における収差補正光学素子４ｇを示す図であり、図１３（ａ）乃至（ｅ）は本実施形態における収差補正光学素子４ｈを示す図である。各図の（ａ）は平面図であり、（ｂ）乃至（ｅ）は断面図である。本実施形態は、前述の第１の実施形態と比較して、収差補正光学素子４として図１０乃至図１３に示す収差補正光学素子４ｅ乃至４ｈから選択された収差補正光学素子を使用する点が異なっている。本実施形態における上記以外の構成及び動作は、前述の第１の実施形態と同様である。

以下、本実施形態における収差補正光学素子４について説明する。光学系で生じるコマ収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図１０に示す収差補正光学素子４ｅを用いることもできる。図１０（ａ）は収差補正光学素子４ｅを示す平面図である。収差補正光学素子４ｅは、単一の領域から構成されており、図２（ａ）乃至（ｅ）に示す収差補正光学素子４ａの表面における段差をなくし、表面全体を単一の曲面で形成したものである。なお、図中の二点鎖線で描かれた円は対物レンズ６の有効領域に相当する。図１０（ｂ）乃至（ｅ）は、コマ収差の補正量及び／又は符号が異なる４種類の収差補正光学素子４ｅを示す図１０（ａ）に示すＥ−Ｅ’線による断面図である。図１０（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、中心を通るＸ方向に平行な断面における素子の輪郭は曲線状である。このような断面を有する収差補正光学素子４ｅは、ガラス又はプラスチックの成形により作製することができる。

図１０（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｅ１においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが一旦高くなったのち低くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが一旦低くなったのち高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１０（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｅ２においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが一旦高くなったのち低くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが一旦低くなったのち高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。図１０（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｅ３においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが一旦低くなったのち高くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが一旦高くなったのち低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１０（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｅ４においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが一旦低くなったのち高くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが一旦高くなったのち低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。一方、収差補正光学素子４ｅの中心を通るＹ方向の断面は平坦である。

収差補正光学素子４ｅを用いて光学系で生じるコマ収差を補正する場合における収差補正光学素子４ｅの中心を通るＸ方向の断面における波面収差は、図６に示すものと同じである。図６（ａ）に示すコマ収差を補正する場合、図１０（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｅ１を用いる。図１０（ｂ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｅ１を用いて図６（ａ）に示すコマ収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図６（ｂ）に示すコマ収差を補正する場合、図１０（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｅ２を用いる。図１０（ｃ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｅ２を用いて図６（ｂ）に示すコマ収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図６（ｃ）に示すコマ収差を補正する場合、図１０（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｅ３を用いる。図１０（ｄ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｅ３を用いて図６（ｃ）に示すコマ収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図６（ｄ）に示すコマ収差を補正する場合、図１０（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｅ４を用いる。図１０（ｅ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｅ４を用いて図６（ｄ）に示すコマ収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。

一方、収差補正光学素子４ｅの中心を通るＹ方向の断面における波面収差は０λである。

光学系で生じるコマ収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、図１０（ｂ）乃至（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ｅを準備しておく。そして、収差補正光学素子４ｅを除く、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系で生じるコマ収差の量及び符号を干渉計等により測定する。その後、測定したコマ収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ｅの中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ｅを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下の場合は、収差補正光学素子４ｅを用いたコマ収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下の場合は、コマ収差の符号に応じて、図１０（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｅ１又は図１０（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｅ３を用いたコマ収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、コマ収差の符号に応じて、図１０（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｅ２又は図１０（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｅ４を用いたコマ収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ここでは、収差補正光学素子４ｅの種類を４種類としたが、コマ収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ｅの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

なお、図１０では、光学系で生じるコマ収差の方向がＸ方向である場合について説明したが、光学系で生じるコマ収差の方向がＸ方向とは異なる場合についても、その方向と、収差補正光学素子４ｅで補正できるコマ収差の方向が略一致するように、収差補正光学素子４ｅを入射光の光軸に垂直な面内で回転させて設置すれば、コマ収差の補正を行うことができる。

光学系で生じる球面収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図１１に示す収差補正光学素子４ｆを用いることもできる。図１１（ａ）は収差補正光学素子４ｆの平面図である。収差補正光学素子４ｆは、単一の領域から構成されており、図３（ａ）乃至（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｂの表面における段差をなくし、全体を単一の曲面で形成したものである。なお、図中の二点鎖線で描かれた円は対物レンズ６の有効領域に相当する。図１１（ｂ）乃至（ｅ）は、球面収差の補正量及び／又は符号が異なる４種類の収差補正光学素子４ｆを示す図１１（ａ）に示すＦ−Ｆ’線による断面図である。図１１（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、中心を通るＸ方向に平行な断面における素子の輪郭は曲線状である。このような断面を有する収差補正光学素子４ｆは、ガラス又はプラスチックの成形により作製することができる。

図１１（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｆ１においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが一旦高くなったのち低くなる。最高点の高さは最低点の高さに比べて２Ｈだけ高い。図１１（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｆ２においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが一旦高くなったのち低くなる。最高点の高さは最低点の高さに比べて４Ｈだけ高い。図１１（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｆ３においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが一旦低くなったのち高くなる。最高点の高さは最低点の高さに比べて２Ｈだけ高い。図１１（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｆ４においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが一旦低くなったのち高くなる。最高点の高さは最低点の高さに比べて４Ｈだけ高い。一方、収差補正光学素子４ｆの中心を通るＹ方向の断面は、中心を通るＸ方向の断面と同じである。

収差補正光学素子４ｆを用いて光学系で生じる球面収差を補正する場合における収差補正光学素子４ｆの中心を通るＸ方向の断面における波面収差は、図７に示すものと同じである。即ち、図７（ａ）に示す球面収差を補正する場合、図１１（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｆ１を用いる。図１１（ｂ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｆ１を用いて図７（ａ）に示す球面収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図７（ｂ）に示す球面収差を補正する場合、図１１（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｆ２を用いる。図１１（ｃ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｆ２を用いて図７（ｂ）に示す球面収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図７（ｃ）に示す球面収差を補正する場合、図１１（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｆ３を用いる。図１１（ｄ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｆ３を用いて図７（ｃ）に示す球面収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図７（ｄ）に示す球面収差を補正する場合、図１１（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｆ４を用いる。図１１（ｅ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｆ４を用いて図７（ｄ）に示す球面収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。

一方、収差補正光学素子４ｆの中心を通るＹ方向の断面における波面収差は、中心を通るＸ方向の断面における波面収差と同じである。

光学系で生じる球面収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、図１１（ｂ）〜（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ｆを準備しておく。そして、収差補正光学素子４ｆを除く、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系で生じる球面収差の量及び符号を干渉計等により測定する。測定した球面収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ｆの中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ｆを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下の場合は、収差補正光学素子４ｆを用いた球面収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下の場合は、球面収差の符号に応じて、図１１（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｆ１又は図１１（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｆ３を用いた球面収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、球面収差の符号に応じて、図１１（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｆ２又は図１１（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｆ４を用いた球面収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ここでは、収差補正光学素子４ｆの種類を４種類としたが、球面収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ｆの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

光学系で生じる非点収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図１２に示す収差補正光学素子４ｇを用いることもできる。図１２（ａ）は収差補正光学素子４ｇの平面図である。収差補正光学素子４ｇは、単一の領域から構成されており、図４（ａ）乃至（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｃの表面における段差をなくし、全体を単一の曲面で形成したものである。なお、図中の二点鎖線で描かれた円は対物レンズ６の有効領域に相当する。図１２（ｂ）乃至（ｅ）は、非点収差の補正量及び／又は符号が異なる４種類の収差補正光学素子４ｇにおける図１２（ａ）に示すＧ−Ｇ’線による断面図である。図１２（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、中心を通るＸ方向に平行な断面における素子の輪郭は曲線状である。このような断面を有する収差補正光学素子４ｇは、ガラス又はプラスチックの成形により作製することができる。

図１２（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｇ１においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高い。図１２（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｇ２においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高い。図１２（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｇ３においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが低くなる。最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１２（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｇ４においては、中心からＸ軸の正及び負の側へ向かって高さが低くなる。最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。

一方、収差補正光学素子４ｇの中心を通るＹ方向に平行な断面における素子の輪郭は、Ｘ方向に平行な断面と同じく曲線状である。図１２（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｇ１においては、中心からＹ軸の正及び負の側へ向かって高さが低くなる。最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１２（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｇ２においては、中心からＹ軸の正及び負の側へ向かって高さが低くなる。最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。図１２（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｇ３においては、中心からＹ軸の正及び負の側へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高い。図１２（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｇ４においては、中心からＹ軸の正及び負の側へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高い。

収差補正光学素子４ｇを用いて光学系で生じる非点収差を補正する場合における収差補正光学素子４ｇの中心を通るＸ方向の断面における波面収差は、図８に示すものと同じである。即ち、図８（ａ）に示す非点収差を補正する場合、図１２（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｇ１を用いる。図１２（ｂ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｇ１を用いて図８（ａ）に示す非点収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図８（ｂ）に示す非点収差を補正する場合、図１２（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｇ２を用いる。図１２（ｃ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｇ２を用いて図８（ｂ）に示す非点収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図８（ｃ）に示す非点収差を補正する場合、図１２（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｇ３を用いる。図１２（ｄ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｇ３を用いて図８（ｃ）に示す非点収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図８（ｄ）に示す非点収差を補正する場合、図１２（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｇ４を用いる。図１２（ｅ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｇ４を用いて図８（ｄ）に示す非点収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。

一方、収差補正光学素子４ｇの中心を通るＹ方向の断面における波面収差は、中心を通るＸ方向の断面における波面収差と符号が逆である。

光学系で生じる非点収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、図１２（ｂ）乃至（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ｇを準備しておく。そして、収差補正光学素子４ｇを除く、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系で生じる非点収差の量及び符号を干渉計等により測定する。次に、測定した非点収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ｇの中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ｇを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下の場合は、収差補正光学素子４ｇを用いた非点収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下の場合は、非点収差の符号に応じて、図１２（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｇ１又は図１２（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｇ３を用いた非点収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、非点収差の符号に応じて、図１２（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｇ２又は図１２（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｇ４を用いた非点収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ここでは、収差補正光学素子４ｇの種類を４種類としたが、非点収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ｇの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

なお、図１２では、光学系で生じる非点収差の方向がＸ−Ｙ方向である場合について説明したが、光学系で生じる非点収差の方向がＸ−Ｙ方向とは異なる場合についても、その方向と、収差補正光学素子４ｇで補正できる非点収差の方向が略一致するように、収差補正光学素子４ｇを入射光の光軸に垂直な面内で回転させて設置すれば、非点収差の補正を行うことができる。

光学系で生じる矢型収差を補正する場合、収差補正光学素子４として、図１３に示す収差補正光学素子４ｈを用いることもできる。図１３（ａ）は収差補正光学素子４ｈの平面図である。収差補正光学素子４ｈは、単一の領域から構成されており、図５（ａ）乃至（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｄの表面における段差をなくし、全体を単一の曲面で形成したものである。なお、図中の二点鎖線で描かれた円は対物レンズ６の有効領域に相当する。図１３（ｂ）乃至（ｅ）は、矢型収差の補正量及び／又は符号が異なる４種類の収差補正光学素子４ｈにおける図１３（ａ）に示すＨ−Ｈ’線による断面図である。図１３（ｂ）乃至（ｅ）に示すように、中心を通るＸ方向に平行な断面における素子の輪郭は曲線状である。このような断面を有する収差補正光学素子４ｈは、ガラス又はプラスチックの成形により作製することができる。

図１３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｈ１においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが低くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｈ２においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが低くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。図１３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｈ３においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが高くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｈ４においては、中心からＸ軸の負の側へ向かって高さが高くなり、中心からＸ軸の正の側へ向かって高さが低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。

一方、収差補正光学素子４ｈの中心を通り、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における素子の輪郭は、Ｘ方向に平行な断面と同じく曲線状である。図１３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｈ１においては、中心から、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなり、中心から、−Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｈ２においては、中心から、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなり、中心から、−Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。図１３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｈ３においては、中心から、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなり、中心から、−Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｈ４においては、中心から、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなり、中心から、−Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。

また、収差補正光学素子４ｈの中心を通り、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における素子の輪郭は、Ｘ方向に平行な断面と同じく曲線状である。図１３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｈ１においては、中心から、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなり、中心から、−Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｈ２においては、中心から、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなり、中心から、−Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。図１３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｈ３においては、中心から、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなり、中心から、−Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べてＨだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べてＨだけ低い。図１３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｈ４においては、中心から、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが高くなり、中心から、−Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向へ向かって高さが低くなる。最高点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ高く、最低点の高さは中心の高さに比べて２Ｈだけ低い。

収差補正光学素子４ｈを用いて光学系で生じる矢型収差を補正する場合における収差補正光学素子４ｈの中心を通るＸ方向の断面における波面収差は、図９に示すものと同じである。即ち、図９（ａ）に示す矢型収差を補正する場合、図１３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｈ１を用いる。図１３（ｂ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｈ１を用いて図９（ａ）に示す矢型収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図９（ｂ）に示す矢型収差を補正する場合、図１３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｈ２を用いる。図１３（ｃ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｈ２を用いて図９（ｂ）に示す矢型収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図９（ｃ）に示す矢型収差を補正する場合、図１３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｈ３を用いる。図１３（ｄ）における高さＨは、収差補正光学素子４ｈ３を用いて図９（ｃ）に示す矢型収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。図９（ｄ）に示す矢型収差を補正する場合、図１３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｈ４を用いる。図１３（ｅ）における高さ２Ｈは、収差補正光学素子４ｈ４を用いて図９（ｄ）に示す矢型収差を完全に補正できるように、即ち、残留ＲＭＳ波面収差が０λになるように設計されている。

一方、収差補正光学素子４ｈの中心を通り、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における波面収差は、中心を通るＸ方向に平行な断面における波面収差と同じである。また、収差補正光学素子４ｈの中心を通り、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向に平行な断面における波面収差は、中心を通るＸ方向に平行な断面における波面収差と同じである。

光学系で生じる矢型収差がＲＭＳ波面収差として最大０．０５λであるとする。このとき、図１３（ｂ）乃至（ｅ）に示す４種類の収差補正光学素子４ｈを準備しておく。そして、収差補正光学素子４ｈを除く、半導体レーザ１から対物レンズ６までの光学系で生じる矢型収差の量及び符号を干渉計等により測定する。次に、測定した矢型収差の量及び符号に応じて、４種類の収差補正光学素子４ｈの中から、補正後の残留ＲＭＳ波面収差が最も小さくなるように、必要に応じて１種類の収差補正光学素子４ｈを選択し、光学系中に挿入する。具体的には、ＲＭＳ波面収差が０．０１λ以下の場合は、収差補正光学素子４ｈを用いた矢型収差の補正を行わない。ＲＭＳ波面収差が０．０１λより大きく０．０３λ以下の場合は、矢型収差の符号に応じて、図１３（ｂ）に示す収差補正光学素子４ｈ１又は図１３（ｄ）に示す収差補正光学素子４ｈ３を用いた矢型収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ＲＭＳ波面収差が０．０３λより大きく０．０５λ以下の場合は、矢型収差の符号に応じて、図１３（ｃ）に示す収差補正光学素子４ｈ２又は図１３（ｅ）に示す収差補正光学素子４ｈ４を用いた矢型収差の補正を行う。これにより、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を０．０１λ以下に低減することができる。ここでは、収差補正光学素子４ｈの種類を４種類としたが、矢型収差の補正量及び／又は符号が異なる収差補正光学素子４ｈの種類が多いほど、補正後の残留ＲＭＳ波面収差を小さくすることができる。

なお、図１３では、光学系で生じる矢型収差の方向がＸ方向、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向である場合について説明したが、光学系で生じる矢型収差の方向がＸ方向、＋Ｘ方向から−Ｙ方向へ６０°傾いた方向、＋Ｘ方向から＋Ｙ方向へ６０°傾いた方向とは異なる場合についても、その方向と、収差補正光学素子４ｈで補正できる矢型収差の方向が略一致するように、収差補正光学素子４ｈを入射光の光軸に垂直な面内で回転させて設置すれば、矢型収差の補正を行うことができる。

本実施形態においては、収差補正光学素子４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈのうちいずれか一つの収差補正光学素子を用い、光学系で生じるコマ収差、球面収差、非点収差、矢型収差のうちいずれか一つの収差を補正する場合について説明したが、いずれか二つ以上の収差補正光学素子を用い、いずれか二つ以上の収差を補正することも可能である。

本実施形態においては、前述の第１の実施形態と比較して、収差補正光学素子の表面を曲面により構成し、光学系の収差を完全に補正できるように、収差補正光学素子を設計しているため、より精度良く光学系の収差を補正することができる。但し、収差補正光学素子の設計及び製造は、前述の第１の実施形態と比較してやや困難になる。本実施形態における上記以外の効果は、前述の第１の実施形態と同様である。

なお、上述の第１及び第２の実施形態においては、ディスク７に対して記録及び再生の双方を行う光学式情報記録再生装置について説明した。しかし、本発明はこれに限定されず、ディスク７に対して再生のみを行う再生専用装置であってもよい。この場合、半導体レーザ１は、半導体レーザ駆動回路１３により記録信号に基づいて駆動されるのではなく、常に一定の出力で駆動される。

また、上述の第１及び第２の実施形態に係る光学式情報記録再生装置はＤＶＤドライブに限定されず、再生専用装置であってもよく、ＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc Recordable：書込可能ＤＶＤ）ドライブ、ＤＶＤ−ＲＯＭ（Digital Versatile Disc - Read Only Memory：読出専用ＤＶＤ）ドライブ、又はＤＶＤ−ＲＷ（Digital Versatile Disk ReWritable）等であってもよく、ＣＤ−Ｒ（Compact Disc Recordable：書込可能コンパクトディスク）又はＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disk Read Only Memory：読出専用コンパクトディスク）等であってもよい。

本発明は、ＤＶＤ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＯＭ等の光記録媒体に対して記録及び／又は再生を行うための光ヘッド装置、その製造方法及び光学式情報記録再生装置に関する。

Claims (15)

1. 光源と、この光源から出射した光を光記録媒体に集光する対物レンズと、前記光記録媒体により反射された光を検出する光検出器と、前記光源から前記対物レンズまでの前記光の経路に介在しこの経路において発生する前記光の非点収差及び矢型収差を含む収差を補正する複数枚の収差補正光学素子と、を有し、前記複数枚の収差補正光学素子は、複数種類の収差補正光学素子の中から前記収差に応じて選択されたものであることを特徴とする光ヘッド装置。
2. 前記複数種類の収差補正光学素子は、補正する収差の種類、符号又は補正量が相互に異なるものであることを特徴とする請求項１に記載の光ヘッド装置。
3. 前記収差が非点収差及び矢型収差であり、前記光の経路に介在する収差補正光学素子は２枚であり、この２枚の収差補正光学素子のうち、一方の収差補正光学素子は前記非点収差を補正するものであり、他方の収差補正光学素子は前記矢型収差を補正するものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ヘッド装置。
4. 前記収差が非点収差及び矢型収差に加えてコマ収差、球面収差のうち１種類の収差を含むものであり、前記光の経路に介在する収差補正光学素子は３枚であり、この３枚の収差補正光学素子のうち、第１の収差補正光学素子は前記非点収差を補正するものであり、第２の収差補正光学素子は前記矢型収差を補正するものであり、第３の収差補正光学素子は前記１種類の収差を補正するものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ヘッド装置。
5. 前記収差が非点収差及び矢型収差に加えてコマ収差及び球面収差を含むものであり、前記光の経路に介在する収差補正光学素子は４枚であり、この４枚の収差補正光学素子のうち、第１の収差補正光学素子は前記非点収差を補正するものであり、第２の収差補正光学素子は前記矢型収差を補正するものであり、第３の収差補正光学素子は前記コマ収差を補正するものであり、第４の収差補正光学素子は前記球面収差を補正するものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ヘッド装置。
6. 前記収差補正光学素子における前記光が入射又は出射する表面のうち少なくとも一方の表面が、２レベル以上のステップを有する階段状であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光ヘッド装置。
7. 前記収差補正光学素子における前記光が入射又は出射する表面のうち少なくとも一方の表面が、曲面により形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光ヘッド装置。
8. 前記収差が非点収差及び矢型収差であり、前記光の経路に介在する収差補正光学素子は、この収差補正光学素子により補正される収差の方向が前記非点収差及び前記矢型収差の方向と実質的に一致するように設置されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光ヘッド装置。
9. 前記収差がコマ収差を含み、前記光の経路に介在する収差補正光学素子は、この収差補正光学素子により補正される収差の方向が前記コマ収差の方向と実質的に一致するように設置されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光ヘッド装置。
10. 光源、この光源から出射した光を光記録媒体に集光する対物レンズ、及び前記光記録媒体により反射された光を検出する光検出器を備えた光学系を組み立てる工程と、前記光学系における前記光源から前記対物レンズまでの前記光の経路において発生する非点収差及び矢型収差を含む収差を測定する工程と、この収差の測定結果に基づいて複数種類の収差補正光学素子の中から前記光の非点収差及び矢型収差を含む収差を補正する複数枚の収差補正光学素子を選択して、前記光の経路に介在するように前記光学系に組み込む工程と、を有することを特徴とする光ヘッド装置の製造方法。
11. 前記複数種類の収差補正光学素子は、補正する収差の種類、符号又は補正量が相互に異なるものであることを特徴とする請求項１０に記載の光ヘッド装置の製造方法。
12. 前記複数枚の収差補正光学素子を光学系に組み込む工程は、前記収差補正光学素子により補正される収差の方向が前記光の経路において発生する収差の方向と一致するように、前記収差補正光学素子を前記光の光軸を回転軸として回転させて前記収差補正光学素子の方向を調整する工程を有することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光ヘッド装置の製造方法。
13. 請求項１乃至９のいずれか１項に記載された光ヘッド装置と、前記光源を駆動する第一の回路と、前記光検出器の出力信号に基づいて再生信号及び誤差信号を生成する第二の回路と、前記誤差信号に基づいて前記対物レンズの位置を制御する第三の回路と、を有することを特徴とする光学式情報記録再生装置。
14. 前記第一の回路が前記光源を記録信号に基づいて駆動するものであることを特徴とする請求項１３に記載の光学式情報記録再生装置。
15. 前記第一の回路が前記光源を一定の出力で駆動するものであることを特徴とする請求項１３に記載の光学式情報記録再生装置。

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