JP2003085811A - 光ピックアップ装置 - Google Patents

光ピックアップ装置

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JP2003085811A
JP2003085811A JP2001277783A JP2001277783A JP2003085811A JP 2003085811 A JP2003085811 A JP 2003085811A JP 2001277783 A JP2001277783 A JP 2001277783A JP 2001277783 A JP2001277783 A JP 2001277783A JP 2003085811 A JP2003085811 A JP 2003085811A
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Masaaki Sofue
雅章 祖父江
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のレーザ光源の出射光軸を合成後の合成
光軸に一致させるための調整を簡単な構成で容易に行え
る光ピックアップ装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源1,9と光軸合成手段11と
の間の出射光軸φ1,φ2上にシフト量が可変調整自在
な光軸平行シフト部材として平行平板14,15を備え
ることで、平行平板14,15による光軸シフト量を可
変調整してその出射光軸を平行シフトするだけで、容易
にレーザ光源1,9の出射光軸φ1,φ2を合成後の合
成光軸φに一致させることができるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、波長の異なるレー
ザ光を出射する少なくとも2つのレーザ光源を備える光
ピックアップ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、この種の光ピックアップ装置
は、その概略として、レーザ光源から出射されたレーザ
光を対物レンズにより光ディスクに集光照射させること
により光ディスクに対する情報の記録又は再生を行う。
このとき、光ディスクからの反射光は再度対物レンズを
経て照明系の光軸を逆に辿り、偏光ビームスプリッタ等
で照明光と分離されて検出系に向かい、再生信号、トラ
ッキング/フォーカシングサーボ信号等が得られること
なる。
【0003】ところで、近年では、従来一般のCD系の
光ディスクよりも大容量のDVD系の光ディスクも実用
されるに至っており、当面は、CD系とDVD系とが共
存することとなる。この場合、例えば追記型光ディスク
てあるCD−Rは780nm近傍の赤外域のレーザ光を
使用するが、記録層が色素であるため、記録特性の波長
依存性が大きく、635nm或いは650nmの赤色域
のレーザ光を使用波長とするDVD系とは、使用波長を
異にする。これにより、例えばCD−R(CD系)とD
VD系との2種類の光ディスクを1つの光ディスクドラ
イブで共通に再生又は記録するためには、2つの光源波
長を持つ光ピックアップ装置が必要となる。
【0004】このようにCD系とDVD系との共用化を
図った従来一般の光ピックアップ装置の概略構成例を図
7に示す。例えば、波長780nmのレーザ光を出射す
るCD系用のレーザ光源としての半導体レーザ1と、こ
の半導体レーザ1から出射されたレーザ光を平行光に変
換するコリメータレンズ2と、このコリメータレンズ2
による平行光をビームスプリッタ3及び偏向プリズム4
を経た後光ディスク5に集光照射させる対物レンズ6が
設けられている。光ディスク5からの反射光は再び対物
レンズ6、偏向プリズム4を経た後、ビームスプリッタ
3で反射されることにより検出レンズ7を経て受光素子
8に受光され、再生信号、サーボ信号等の検出に供され
る。一方、半導体レーザ1とは異なり、例えば、波長6
50nmのレーザ光を出射するDVD系用のレーザ光源
としての半導体レーザ9が設けられ、この半導体レーザ
9から出射されたレーザ光を平行光に変換するコリメー
タレンズ10も設けられている。
【0005】ここに、半導体レーザ9によるレーザ光も
対物レンズ6を共用するため、コリメータレンズ2とビ
ームスプリッタ3との間の光軸上には光軸合成部材とし
ての2波長合成プリズム11が設けられている。この2
波長合成プリズム11は、例えば780nmのような赤
外域のレーザ光は透過、650nmのような赤色域のレ
ーザ光は反射させるような波長選択性を有するダイクロ
イックミラーを備えたプリズムである。これにより、半
導体レーザ1側の出射光軸φ1と直交配置の半導体レー
ザ9側の出射光軸φ2とが2波長合成プリズム11によ
って対物レンズ6に向けた同一光軸φに合成されること
となり、対物レンズ6の共用が可能とされている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このようなCD/DV
D系共用形の光ピックアップ装置においては、各々の照
明系の出射光軸φ1,φ2を2波長合成プリズム11を
経た後、合成光軸φとして正確に一致させる必要がある
が、実装に際して、現実には多少なりとも光軸ずれがあ
る。
【0007】このため、従来にあっては、図8に模式的
に示すように、半導体レーザ1,9やコリメータレンズ
2,10により構成されている各々の照明系12,13
全体を2波長合成プリズム11に対して動かすことによ
り、各々の出射光軸φ1,φ2を合成光軸φに一致する
ように調整するのが一般的とされている。
【0008】ところが、このような光軸調整方式による
と、照明系12,13全体を動かすため、調整作業が面
倒であり、簡単に行うことができない。
【0009】そこで、本発明は、複数のレーザ光源の出
射光軸を合成後の合成光軸に一致させるための調整を簡
単な構成で容易に行うことができる光ピックアップ装置
を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
異なる波長のレーザ光を出射する複数のレーザ光源と、
これらのレーザ光源から出射されたレーザ光を光ディス
クに集光照射させる共有の対物レンズと、前記レーザ光
源から出射されるレーザ光の各々の異なる出射光軸を前
記対物レンズに向けた同一光軸に合成する光軸合成手段
とを備える光ピックアップ装置であって、前記レーザ光
源と前記光軸合成手段との間の出射光軸上にシフト量が
可変調整自在な光軸平行シフト部材を備える。
【0011】従って、レーザ光源と光軸合成手段との間
の出射光路上に介在された光軸平行シフト部材のシフト
量を可変調整してその出射光軸を平行シフトするだけ
で、容易に複数のレーザ光源の出射光軸を合成後の合成
光軸に一致させることができる。
【0012】請求項2記載の発明は、請求項1記載の光
ピックアップ装置において、前記光軸平行シフト部材
が、前記レーザ光源の出射光軸上に略直交配置されて前
記レーザ光源が出射するレーザ光に対して透光性を有し
てその光入射角度が可変調整自在な平行平板である。
【0013】従って、光軸平行シフト部材として平行平
板を用いることにより、この平行平板に対する光入射角
度を可変調整してその出射光軸を平行シフトするだけ
で、容易に複数のレーザ光源の出射光軸を合成後の合成
光軸に一致させることができる。
【0014】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の光ピックアップ装置において、前記光軸平行シフト
部材は、前記各レーザ光源の出射光軸毎に各々設けられ
ている。
【0015】従って、各々のレーザ光源の出射光軸の調
整を容易に行うことができる。
【0016】請求項4記載の発明は、請求項1又は2記
載の光ピックアップ装置において、複数の前記レーザ光
源を基準レーザ光源とそれ以外の調整レーザ光源とした
とき、前記光軸平行シフト部材は、前記各調整レーザ光
源の出射光軸側のみに設けた。
【0017】従って、調整レーザ光源側の出射光軸のみ
を光軸平行シフト部材により平行移動させて基準レーザ
光源側の光軸に一致させることにより、基準レーザ光源
側に関しては調整部材を不要にすることができる。
【0018】請求項5記載の発明は、請求項4記載の光
ピックアップ装置において、前記光軸合成部材を経て前
記対物レンズ側に向かうレーザ光を発散光の状態とする
有限系側の半導体レーザを、前記基準レーザ光源とす
る。
【0019】従って、有限系の場合、光軸上に平行平板
のような傾いた状態の光軸平行シフト部材が介在されて
いるとコマ収差が発生し光学性能が劣化するおそれがあ
るが、このような有限系の半導体レーザを基準レーザ光
源として光軸平行部材を介在させないことにより光軸調
整に伴う光学性能の劣化を防止できる。
【0020】請求項6記載の発明は、請求項1,2,4
又は5記載の光ピックアップ装置において、前記半導体
レーザから出射されたレーザ光を平行光に変換するコリ
メータレンズと、このコリメータレンズにより変換され
た平行光をビーム整形するビーム整形プリズムとを備
え、このビーム整形プリズムと前記コリメータレンズと
の間の出射光軸上に前記光軸平行シフト部材を設けた。
【0021】従って、ビーム整形プリズムはレーザ光源
が出射するレーザ光の楕円ビーム形状を円形ビーム状に
整形する目的で用いられるが、このとき、ビーム整形倍
率を光軸シフト倍率にも利用することにより、光軸平行
シフト部材に要求される光軸シフト量を低く抑えること
ができ、平行平板の場合であれば、その厚さを薄くして
小型化を図ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図1
及び図2に基づいて説明する。図7で示した部分と同一
部分は同一符号を用いて示し、説明も省略する(以降の
実施の形態でも同様とする)。
【0023】本実施の形態では、半導体レーザ1,9の
各々の出射光軸φ1,φ2上で2波長合成プリズム11
の前段に位置させて光軸平行シフト部材としての平行平
板14,15を各々設け、これらの平行平板14,15
に対する各々のレーザ光の光入射角度を可変調整自在と
したものである。これらの平行平板14,15はADJ
P硝子等のように屈折率が1より大きい光透過性の平行
平板であって、図2(a)に示すようにレーザ光が垂直
に入射する場合には入射側と出射側とで光軸ずれは発生
しないが、図2(b)に示すように角度θを持たせるこ
とにより光入射角度を垂直入射からずらした場合には、
光透過性の平行平板による屈折現象により入射側と出射
側とで光軸ずれΔが発生する。この光軸ずれΔは、平行
平板14,15の材料(ADJP)の屈折率n、厚さ
t、角度θにほぼ比例した量となる。このような平行平
板14,15の光入射角度の調整により生ずる光軸ずれ
Δを各々の出射光軸φ1,φ2の平行移動として利用す
ることにより、レーザ光源1,9等は動かすことなく合
成光軸φが一致するように調整することができる。
【0024】本発明の第二の実施の形態を図3に基づい
て説明する。本実施の形態は、2つの半導体レーザ1,
9について、半導体レーザ1側を基準レーザ光源、半導
体レーザ9側を調整レーザ光源として定義付け、半導体
レーザ1の出射光軸φ1上には平行平板を設けず、半導
体レーザ9側の出射光軸φ2上にのみ平行平板15を設
けたものである。
【0025】本実施の形態によれば、半導体レーザ1や
2波長合成プリズム11により設定される出射光軸φ
1、合成光軸φに一致するように平行平板15により出
射光軸φ2のみの調整を行えばよく、部品点数を削減で
きるとともに調整個所も1箇所で済み簡単となる。
【0026】本発明の第三の実施の形態を図4に基づい
て説明する。基本的には、第二の実施の形態と同様であ
るが、光学系構成が有限系か無限系かに着目したもので
ある。780nm、650nmのような2つのレーザ光
源を有するDVD用途の光ピックアップ装置の場合、波
長780nm側を2波長合成プリズム11を経て対物レ
ンズ6側に向かうレーザ光を発散光Hの状態とする有限
系として構成し、波長650nm側は平行光Pのままと
する無限系として構成することで、光ディスク5の厚さ
の違い(CD系1.2mm、DVD系0.6mm)によ
る収差を補正するのが一般的である(例えば、特開20
00−57615参照)。
【0027】このような有限系、無限系が混在する光学
系構成において、発散光Hの光路中に調整により傾いた
屈折率を有する部材(平行平板)が介在されていると、
コマ収差が発生し、光学性能が劣化してしまう。そこ
で、本実施の形態では、有限系用の半導体レーザ1を基
準レーザ光源、無限系用の半導体レーザ9を調整レーザ
光源として定義付け、平行平板15を無限系用の半導体
レーザ9側の出射光軸φ2上にのみ平行平板15を設け
て光軸調整を行わせることで、光軸調整に伴う光学性能
の劣化を防止するようにしたものである。
【0028】本発明の第四の実施の形態を図5及び図6
に基づいて説明する。本実施の形態は、無限系の光学系
中にビーム整形プリズム16が介在されている場合への
適用例を示す。ここでは、コリメータレンズ10と2波
長合成プリズム11との間の光軸上にビーム整形プリズ
ム16が介在されている。半導体レーザ9が出射するレ
ーザ光はコリメータレンズ10により平行光に変換され
るが、光軸に垂直な断面における強度分布は楕円形状と
なり、多くの半導体レーザから出射されたレーザ光にお
いてはこの比が1:2以上である。ビーム整形プリズム
16はこのような楕円形状の強度分布を円形に整形する
ためのものであり、屈折率が1より大きい光学プリズム
に図示の如く角度をつけてレーザ光を入射させ、角度が
ついている方向に入射ビームを引き伸ばして出射させ
る。図示例では、ビーム径がd1からd2に拡大され、
ビーム整形倍率はd2/d1とされている。
【0029】このようなビーム整形プリズム16を用い
た構成下に、平行平板15をビーム整形プリズム16と
コリメータレンズ10との間の出射光軸φ2上に配置さ
せることにより、平行平板15による光軸シフト量も拡
大できるようにしたものである。即ち、平行平板15に
よる光軸シフト量をΔ1とし、ビーム整形プリズム16
通過後の光軸シフト量をΔ2としたとき、Δ2=(d2
/d1)・Δ1となり、ビーム整形倍率はd2/d1分
だけ拡大できるので、平行平板15に要求される光軸ず
れの最大発生設計値を単独の場合に比してd1/d2分
だけ低く抑えることができる。平行平板15の場合であ
れば、その厚さtを薄くできることとなり、小型化を図
れる。
【0030】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、レーザ光
源と光軸合成手段との間の出射光路上に介在された光軸
平行シフト部材のシフト量を可変調整してその出射光軸
を平行シフトするだけで、容易に複数のレーザ光源の出
射光軸を合成後の合成光軸に一致させることができる。
【0031】請求項2記載の発明によれば、請求項1記
載の光ピックアップ装置において、光軸平行シフト部材
として平行平板を用いることにより、この平行平板に対
する光入射角度を可変調整してその出射光軸を平行シフ
トするだけで、容易に複数のレーザ光源の出射光軸を合
成後の合成光軸に一致させることができる。
【0032】請求項3記載の発明によれば、請求項1又
は2記載の光ピックアップ装置において、光軸平行シフ
ト部材が各レーザ光源の出射光軸毎に各々設けられてい
るので、各々のレーザ光源の出射光軸の調整を容易に行
うことができる。
【0033】請求項4記載の発明によれば、請求項1又
は2記載の光ピックアップ装置において、複数のレーザ
光源を基準レーザ光源とそれ以外の調整レーザ光源とし
たとき、光軸平行シフト部材を各調整レーザ光源の出射
光軸側のみに設けたので、調整レーザ光源側の出射光軸
のみを光軸平行シフト部材により平行移動させて基準レ
ーザ光源側の光軸に一致させることにより、基準レーザ
光源側に関しては調整部材を不要にすることができる。
【0034】請求項5記載の発明によれば、請求項4記
載の光ピックアップ装置において、有限系の場合、光軸
上に平行平板のような傾いた状態の光軸平行シフト部材
が介在されているとコマ収差が発生し光学性能が劣化す
るおそれがあるが、このような有限系の半導体レーザを
基準レーザ光源として光軸平行部材を介在させないこと
により光軸調整に伴う光学性能の劣化を防止することが
できる。
【0035】請求項6記載の発明によれば、請求項1,
2,4又は5記載の光ピックアップ装置において、ビー
ム整形プリズムはレーザ光源が出射するレーザ光の楕円
ビーム形状を円形ビーム状に整形する目的で用いられる
が、このとき、ビーム整形倍率を光軸シフト倍率にも利
用することにより、光軸平行シフト部材に要求される光
軸シフト量を低く抑えることができ、平行平板の場合で
あれば、その厚さを薄くして小型化を図ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施の形態の光ピックアップ装
置の概略を示す光学系構成図である。
【図2】その平行平板の動作原理を示す説明図である。
【図3】本発明の第二の実施の形態の光ピックアップ装
置の一部の概略を示す光学系構成図である。
【図4】本発明の第三の実施の形態の光ピックアップ装
置の一部の概略を示す光学系構成図である。
【図5】本発明の第四の実施の形態の光ピックアップ装
置の一部の概略を示す光学系構成図である。
【図6】そのビーム整形プリズムの機能を示す説明図で
ある。
【図7】一般的な光ピックアップ装置の概略を示す光学
系構成図である。
【図8】その光軸調整方法を説明するための説明図であ
る。
【符号の説明】
1 レーザ光源、基準レーザ光源 5 光ディスク 6 対物レンズ 9 レーザ光源、調整レーザ光源 10 コリメータレンズ 11 光軸合成手段 14,15 平行平板、光軸平行シフト部材 16 ビーム整形プリズム φ1,φ2 出射光軸 φ 合成光軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D119 AA05 AA41 BA01 BB01 EC45 EC47 FA08 JA02 JA07 JA27 JA70 5D789 AA05 AA41 BA01 BB01 EC45 EC47 FA08 JA02 JA07 JA27 JA70

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 異なる波長のレーザ光を出射する複数の
    レーザ光源と、これらのレーザ光源から出射されたレー
    ザ光を光ディスクに集光照射させる共有の対物レンズ
    と、前記レーザ光源から出射されるレーザ光の各々の異
    なる出射光軸を前記対物レンズに向けた同一光軸に合成
    する光軸合成手段とを備える光ピックアップ装置であっ
    て、 前記レーザ光源と前記光軸合成手段との間の出射光軸上
    にシフト量が可変調整自在な光軸平行シフト部材を備え
    ることを特徴とする光ピックアップ装置。
  2. 【請求項2】 前記光軸平行シフト部材が、前記レーザ
    光源の出射光軸上に略直交配置されて前記レーザ光源が
    出射するレーザ光に対して透光性を有してその光入射角
    度が可変調整自在な平行平板であることを特徴とする請
    求項1記載の光ピックアップ装置。
  3. 【請求項3】 前記光軸平行シフト部材は、前記各レー
    ザ光源の出射光軸毎に各々設けられていることを特徴と
    する請求項1又は2記載の光ピックアップ装置。
  4. 【請求項4】 複数の前記レーザ光源を基準レーザ光源
    とそれ以外の調整レーザ光源としたとき、前記光軸平行
    シフト部材は、前記各調整レーザ光源の出射光軸側のみ
    に設けたことを特徴とする請求項1又は2記載の光ピッ
    クアップ装置。
  5. 【請求項5】 前記光軸合成部材を経て前記対物レンズ
    側に向かうレーザ光を発散光の状態とする有限系側の半
    導体レーザを、前記基準レーザ光源とすることを特徴と
    する請求項4記載の光ピックアップ装置。
  6. 【請求項6】 前記半導体レーザから出射されたレーザ
    光を平行光に変換するコリメータレンズと、このコリメ
    ータレンズにより変換された平行光をビーム整形するビ
    ーム整形プリズムとを備え、このビーム整形プリズムと
    前記コリメータレンズとの間の出射光軸上に前記光軸平
    行シフト部材を設けたことを特徴とする請求項1,2,
    4又は5記載の光ピックアップ装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7525897B2 (en) 2004-12-15 2009-04-28 Sanyo Electric Co., Ltd. Optical pickup device
US8085645B2 (en) 2009-03-13 2011-12-27 Panasonic Corporation Optical pickup device and optical disk apparatus

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