JP4225919B2 - 加工品を電解金属めっきするコンベアによるめっきラインおよび方法 - Google Patents

加工品を電解金属めっきするコンベアによるめっきラインおよび方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4225919B2
JP4225919B2 JP2003580612A JP2003580612A JP4225919B2 JP 4225919 B2 JP4225919 B2 JP 4225919B2 JP 2003580612 A JP2003580612 A JP 2003580612A JP 2003580612 A JP2003580612 A JP 2003580612A JP 4225919 B2 JP4225919 B2 JP 4225919B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
line
conveyor
printed circuit
plating
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003580612A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005521795A (ja
Inventor
エーゴン ヒューベル
Original Assignee
アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング filed Critical アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Publication of JP2005521795A publication Critical patent/JP2005521795A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4225919B2 publication Critical patent/JP4225919B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • C25D17/18Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk having closed containers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/241Reinforcing the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • C25D17/28Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk with means for moving the objects individually through the apparatus during treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/004Sealing devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

本発明は、加工品を電解金属めっきするコンベアによるめっきライン、およびコンベアによるめっきラインで加工品を電解金属めっきする方法に関する。
このようなタイプのコンベアによる(コンベア化された)めっきラインが特許文献1に記載されている。陽極を備える電解セルおよび陰極として用いられる加工品が、タンク内に設置される。電解液が貯蔵タンク内に保たれ、ポンプによって作業スペースへ供給される。コンベヤー部材はクランプである。作業スペースにおいて、ベルト上に配置したエンドレス回転クランプが、電流を供給し、かつ印刷回路基板および印刷回路箔を搬送する機能を実行する。
他のラインにおいて、電流は被駆動コンタクトホイールを通して加工品へ供給される。コンタクトホイールはまた加工品をラインを通して搬送するのに役立つ。そのようなコンタクトホイールを備えるラインが、特許文献2に記載されている。
クランプを用いて、加工品が回転コンベヤー手段から垂直につるされる、横形のコンベアによるめっきラインも知られている(特許文献3)。
公知のラインは、処理がほとんど必要ないので、印刷回路基板は効率的に製造され得るという利点を有する。
しかしながら、印刷回路基板に形成される孔において、空隙が、そのようなラインにおいて孔の壁に電解で堆積される銅層に形成されるということが分かった。印刷回路基板の外面全体が、例えば、これらの基板を製造するための順次組み合わせる技法を用いて、電解銅めっきされている間に、空隙はまた同じように生じる。この技法を用いて、先ず銅の薄い層が、銅層を全く有しない印刷回路基板材料の外側に無電解めっきされ、次いでこのようにして得られた銅層は電解で強化される。
独国特許出願公開第36 24 481A1号明細書 独国特許出願公開第32 36 545A1号明細書 米国特許第3,643,670号明細書
従って、本発明の目的は、めっきラインにおいて電解金属層で生じるそのような空隙無しに、加工品、より具体的に言えば、印刷回路基板および他の回路担体を製造することである。
この目的は、請求項1による電解金属めっきのためのコンベアによるめっきラインによって、および請求項14によるコンベアによるめっきラインにおいて電解金属めっきするための方法によって、達成される。本発明の好ましい実施形態が従属請求項に述べられる。
本発明によるコンベアによるめっきラインは、加工品、より具体的に言えば、印刷回路基板、およびハイブリッド集積回路担体、より具体的に言えばマルチチップモジュールのような他の回路担体の電解金属めっきに役立つ。めっきラインにおいて、加工品は並べて、より具体的に言えば横の輸送方向で、好ましくは適したコンベヤー手段によって横の輸送面で(または場合により縦の輸送面でも)搬送され得る。ラインは、加工品がラインを通して搬送されている間に、加工品を電解液と接触させるための手段を備える。さらに、加工品のための少なくとも1つの電気的接触の設備、および好ましくは同様にコンベヤー経路と好ましくはほぼ平行に配置される陽極が、少なくとも1つの電流供給(電流源)とともに備えられる。
加工品の電解金属めっきのためのコンベアによるめっきラインが動作中である場合、前記加工品は、それを通って搬送されるラインへ、より具体的に言えば横の輸送方向に、それらがラインを再び出る前にコンベヤー手段によって、供給される。加工品がラインを通過している間に、それらは電解液と接触し、少なくとも1つの電気的接触部材を通して電流供給源と電気的に接続する。
電圧(電位差)が、ラインを通って搬送される(ラインで互いに直ぐ続く)隣接した加工品の間に発生するということが分かった。前記電圧を低下させる、より具体的に言えば最小限にするための手段が設けられる場合、そのようなコンベアによるめっきラインは、上述の空隙が電解金属めっき中に形成されるのを防止するのに適している。
以下に続く本発明の明細書では、印刷回路基板についてのみ言及する。しかしながら、本発明は同様に、そのようなコンベアによるラインで処理されるのに適した、他の回路担体および他の加工品にも関する。したがって、より一般的な用語「加工品」は、本明細書を通じて用語「印刷回路基板」に置き換えられてもよい。
印刷回路基板は、例えば、クランプまたはコンタクトホイールによって、例えば電気的に接触して配置される。これらの電気的接触部材はまた、印刷回路基板をラインを通って同時に搬送することもできる。印刷回路基板は電気めっきのために陰極に接続される。
印刷回路基板は、そのようなコンベアによるめっきラインの処理ステーションに入ると、それらは4つの異なるゾーンを通過する。
ゾーンA:印刷回路基板は電解液の無い媒体内でラインに供給される。印刷回路基板は、通常、急速に連続して、互いに小さい間隔を置いて、めっきラインに入る。隣接する印刷回路基板間の間隔は、輸送方向で見たとき、通常約10mmになる。
ゾーンB:印刷回路基板は、例えば、仕切り壁に設けられる細長い入口、および密閉ロールまたは他の密閉手段を通過し、電解液(入口領域)に達する。この領域で、電解反応が印刷回路基板の表面で起きる。
ゾーンC:印刷回路基板は電気的に接触して配置され、めっき電流源のポールに接続される(遷移領域)。
ゾーンD:印刷回路基板は陽極の領域に達する(処理領域)。そこでそれらは、陽極とともに、意図する処理のための電解セルを形成する。
試験の結果、従来のコンベアによるめっきラインにおいて、印刷回路基板の銅面が、印刷回路基板が電解液と既に接触しているが、まだ電気的に接触して配置されておらず、かつ陽極の領域にまだ達していない、入口領域で電気化学的にエッチングされることが分かった。これは都合が悪い。そのようなエッチング腐食は、一般に使用される電解液の全てで観察され、陽極の型とほとんど無関係である。この腐食は、非常に薄い銅層が使用される場合、特に都合が悪い。印刷回路基板のいくつかの領域において、電気めっきに必要である銅層は完全に溶解される。このため廃品材料が生産中に発生する。
この影響が並んで搬送される基板の間に観察される。試験の結果、1つの印刷回路基板の縁領域と隣接する基板の縁領域との間の関係が、隣接する基板間の電位差を乱すことにつながることを示した。ゾーンB〜Dにおいて、従って異なるセル電圧を有する局部的電解セルが、2つの隣接する基板間に形成される。
従って、2つの隣接する印刷回路基板のうちの1つの陽極分極縁領域が、電気化学的にエッチングされる。エッチング速度は、実質的に、セル電圧、隣接する基板間の間隔、および印刷回路基板の処理時間、即ちそれらが輸送される速度の関数である。電界のピーク効果の結果として、この基板の縁領域の端が、これらの縁領域の面領域よりも多くエッチングされるであろう。そのような端は、例えば、貫通孔および止まり孔の入口を印刷回路基板に形成することが分かった。
電気めっきに先立って、これらの開けられた孔は、外部電流無しの化学的(無電解)方法によって金属めっきされ、従って導電性にされる。電解電気めっきと比べて、これらの化学的金属めっき方法は技術的に複雑であり、費用がかかる。人は、化学的金属めっき中、非常に薄い層だけを使用しようとする。化学的銅めっきの典型的な層厚は、例えば、0.2μmである。印刷回路基板の表面におけるベース金属層は通常ずっと厚く、例えば、5〜17μmである。これらの層は、めっきラインの入口領域において電気化学的エッチング腐食にさらされる場合、危険にさらされない。しかしながら、SBU技法を用いて表面全体の上に堆積される薄い化学的銅層も、エッチング腐食によって、少なくともゾーンBおよびCにおいて影響を受ける。印刷回路基板が実際の電解セル内の領域Dに達する前に、印刷回路基板は全体にわたって電気めっきされない。通常、印刷回路基板はこのゾーンでエッチングされない。
電気めっき処理が先行技術によるラインで実行される状況を、本発明の機能をその後に説明するのを可能にする図1および2を参照して、さらに詳細に本明細書に説明する。
図1は、電解スペース2が、密閉ロール3および密閉壁4によってライン内に溜められる電解液で充填される、コンベアによるめっきラインのめっきタンク1を示す。輸送ローラー8によって、印刷回路基板5、6、7が、矢印によって示される輸送方向に、コンベアによるめっきラインへ搬送され、そこを通過する。入って来る印刷回路基板5、6、7は、密閉ローラー3の領域で電解スペース2に達する。第1接触部材9において、基板5、6、7は、先ず、金属製コンタクトによって、図の右上端に概略的に示すめっき電流源の負極と電気的に接触する。電気めっき電流を印刷回路基板5、6、7へ供給する別の電気的接触部材16が、輸送経路に沿って配置される。
数字10が、電解液を印刷回路基板5、6、7の表面へ供給するための部材を識別する。そのような供給部材は、例えば、フローノズル、ジェットノズル、またはスプレーノズルである。数字11が、この場合、印刷回路基板5、6、7が輸送されるコンベヤー経路とほぼ平行に配置され、かつ少なくともコンベヤー経路の幅全体にわたって伸びる陽極をさらに識別する。用いられる陽極11は、銅を堆積するための銅ボールのような可溶性陽極材料を有する従来の陽極であるか、あるいはチタン、特殊鋼、または別の材料から作られる不溶性陽極である。
図1によれば、印刷回路基板5は、ライン内で最も奥に、電解液供給部材10、例えばフローノズルの領域に、および陽極11の領域に位置している。ラインのこの領域はゾーンD(処理領域)と呼ばれる。ゾーンDにおいて、印刷回路基板5は全体に電気的に接触して置かれる。同時に、それは、当該印刷回路基板5および陽極11によって形成される、電解セル内に全面的に位置する。陽極11が印刷回路基板5のためのコンベヤー経路の両側に設けられるとき、基板5は、その表面全体に、1つの外側面および他の外側面の両方に、電気めっきされる。
ゾーンC(遷移範囲)において、印刷回路基板6は、すでに接触部材9および16によって電気的に接触して置かれている。だが陽極11がこの領域に全く設けられていないので、このゾーン内のこの印刷回路基板6を流れる電気めっき電流は、有効ではない。
ゾーンB(入口領域)において、印刷回路基板6は、同様にすでに接触部材9によって電気的に接触して置かれていて、ゾーンCと同じように作用する。
印刷回路基板7は、それに反して、すでにその前方領域が電解スペース2内のゾーンBにあるが、まだ印刷回路基板6のように電気的に接触して置かれていなかった。
ゾーンAにおいて、電解液がない。この領域には電解作用が全く無い。
印刷回路基板5、6、7が上述のようにゾーンを通って搬送されるとき、様々な電位が前記基板に加えられる。これらの差異は、隣接する印刷回路基板5と6の間、および基板6と7の間に、それぞれ電圧(電位差)を生成する。すなわち、局部的電解セルが、電解液と接触して置かれる、2つの関連する印刷回路基板の間に形成される。これらの局部的電解セルのセル電圧は、生成される電圧であり、これは局部的に異なる。
図2はそのようなラインで生成される電位差を示す。この場合に、第1印刷回路基板5の縁領域12が、第2印刷回路基板6の縁領域13に隣接している。2つの印刷回路基板5および6の間の間隔は、例えば約10mmとなる。電圧U(s)が、これら2つの印刷回路基板を隔離する距離にわたって、および印刷回路基板6と7との間の距離にわたっても、生成される。これらの電圧U(s)は、コンベアによるめっきラインの内側で印刷回路基板5、6、7によってカバーされる距離sに沿って変化する。電圧U(s)は上述のようにゾーンBおよびCで特に異なる。
ゾーンBの電解スペース2内の電解液が、印刷回路基板7と陽極11との間に導電性の弱い電気的接続を確立する。その結果として、陽極電位が印刷回路基板7の縁領域15に形成され、この基板は部分的にゾーンBにある。印刷回路基板6は、それに反して、すでに、第1接触部材9によって、および別の電気的接触部材16によって、小さいインピーダンスで電気的に接触して置かれている。その結果として、この印刷回路基板6は接地電位に近い、すなわち約0ボルトである。これによって、電圧U(s)が印刷回路基板6と7との間に生成される。接地電位と比べて、縁領域15の基板7の電位は従って正である。これによって、印刷回路基板7の陽極領域が電気化学的にエッチングされる。
基板が密閉または仕切り壁4および密閉ローラー3を通過するとき、隣接する基板6と7との間の電圧U(s)は最初小さく、例えば約50ミリボルトになる。印刷回路基板7がラインを通って搬送されているとき、前記基板7が第1接触部材9に達するまで、それは増大し、そしてそこで約500ミリボルトの電圧に達する。印刷回路基板7におけるエッチング速度も連続的に増大する。
ゾーンCにおいて、印刷回路基板5および6は、接触部材9および16によって、小さいインピーダンスで電気的に接触して置かれている。その結果として、これらの2つの基板5および6の間の電圧U(s)が、ラインのこの領域でゼロになりやすい。印刷回路基板5の縁領域12において、および印刷回路基板6の縁領域13において、従って金属は電気化学的にほとんどエッチングされない。
ゾーンBにおけるエッチング腐食は、それに反して、非常に強いので、それはコンベアによるめっきラインの電解処理中に品質問題をもたらす。それによって、どのようにして基板が接触部材9および16で電気的に接触して置かれているかは、あまり重要ではない。接触がローラー、ホイール、または同様にクランプによって確立されると、エッチング腐食は阻止されるということが分かった。
従って、コンベアによるめっきラインにおける隣接する印刷回路基板の各対の1つの基板が、陽極を形成し、他の基板が、これらの2つの基板によって形成される電解セルの陰極を形成する。この対の陽極は電気化学的にエッチングされて、すなわち、上部金属層が除去される。この層は、外部電流無しの化学的方法を用いて堆積された、本明細書で上述した金属めっきされた銅層である。エッチング腐食によって、局部的空隙が印刷回路基板の縁領域の化学的銅層に形成される。これを避けることが本発明の目的である。
この目的に対する解決策は、ライン内の隣接する印刷回路基板間の電圧を低下/最小限にすることであり、0ボルトの電圧U(s)を目標としている。
本発明の好ましい実施形態において、従ってコンベアによるめっきラインは、そこで印刷回路基板がラインに入る入口領域に設けられる、少なくとも1つの保護電極を備える。原理上は、保護電極はまた、出口領域において同様に、生成される電位差の妨害作用を減少または最小限にするために、そこで印刷回路基板がラインを出る出口領域にも設けられる。保護電極は、ライン内の隣接する印刷回路基板間の電圧を低下または最小限にするのに役立つ。
保護電極は接地電位(0ボルト)に電気的に接続されることが好ましい。それが入口領域を印刷回路基板の処理領域から実質的に区切るように、それはコンベアによるめっきラインに配置される。印刷回路基板のための処理領域は陽極を収容する領域である。遷移領域が入口領域と処理領域との間に位置する。遷移領域において、加工品はすでに電気的に接触して置かれているが、陽極の領域に達していない。
この領域に配置される保護電極が、電圧が先行する基板に対して低下または最小限にされるように、たまたまそこにある印刷回路基板に或る陰極電位を加える。保護電極は、ゾーンBとゾーンCとの間の遷移領域により特定的に配置され、輸送方向で見て、印刷回路基板のための最初の電気的接触部材の直ぐ前に位置することが好ましい(最初、印刷回路基板はゾーンBで電気的に接触して置かれる)。
ラインにおいて、印刷回路基板がラインを通って搬送されているとき、それが印刷回路基板に接触しないように、保護電極は配置されることが好ましい。こうして、印刷回路基板に対する損傷が避けられる。さらに、保護電極はこのような状態の下で損耗しないので、それはほぼメンテナンスフリーである。
陽極とは対照的に、保護電極は陰極で分極され、このために電流源の負極に接続される。その結果として、輸送方向で見て、電解スペース内の保護電極の前にある領域(ゾーンB)が、処理領域から効果的に遮蔽され、ゾーンBにおける電位が保護電極の陰極電位によって調整可能である。
電解スペース内のゾーンBにおける保護電極の陰極電位をより良く調整するために、保護電極は、少なくとも1つの制限抵抗を介して、電解金属めっきのための電流源の負極に接続され得る。制限抵抗が調整可能である場合、ゾーンBにおける陰極電位はより高い精度で調整される。制限抵抗を調整することによって、前記抵抗素子を調整することだけでなく、適した抵抗値を有する制限抵抗を選択することも意味する。より具体的に言えば、これは、ゾーンBおよびCにおける印刷回路基板の電位のさらなる等化を達成することを可能にする。
保護電極の数、形状、空間的配置、および/またはサイズを選択することによって、隣接する印刷回路基板間の電圧がさらに低下または最小限にされるように、保護電極の領域における1つの印刷回路基板から他の基板への陰極電位が、さらに等化される。
より具体的に言えば、保護電極は、用いられる化学薬品に耐性もある導電性材料から作られ得る。
隣接する印刷回路基板間の電圧を最小限にする別の可能性が、関連する接触部材に、より具体的に言えば、遷移ゾーン(ゾーンC)で、およびゾーンDの第1領域で、続くゾーンDにおける接触部材よりも低い電圧を供給することにある。このために、電気抵抗が、より具体的に言えば、接触部材のうちの関連する1つとめっき電流源の負極との間に接続される。これらの補償抵抗は、例えば、電流源から接触部材へ通じる電流供給ラインで並列に接続される。補償抵抗はまた、接触位置へ通じる電流経路において接触部材間で直列に接続される。より具体的に言えば、並列接続の場合に、これらの補償抵抗の抵抗値が接触位置毎に変わることが好ましい。
接触部材の電位がその結果として調整される。補償抵抗のサイズが増減されることを意味する、これらの補償抵抗の抵抗値の調整機能によって、接触部材の電位は、隣接する印刷回路基板間の電圧を低下または最小限にするために、より高い精度で調整され得る。補償抵抗の抵抗値を調整することによって、抵抗素子を調整することだけでなく、適当な抵抗値を有する補償抵抗を選択することも意味する。
通常、複数の接触部材がコンベアによるめっきラインに設けられる。例えば、輸送方向で見て、ロールで支持されるエンドレス回転ベルト上に間隔を置いて縦に配置され、かつ印刷回路基板を締めつけてつかむ1列のクランプ、または同様に間隔を置いて縦に配置され、かつ印刷回路基板の縁を転がるいくつかの接触ロール、または、輸送方向で見て、同様に間隔を置いて縦に配置され、かつ印刷回路基板を転がるいくつかの接触ローラーである。
そのような場合に、1つの補償抵抗が、遷移領域における接触部材のうちの関連する1つに割り当てられて、補償抵抗の関連する1つは、並列に接続される隣接する接触部材間で、電流供給ラインと直列に接続されることが好ましい。この場合に、種々の補償抵抗のサイズが調整可能である。その結果として、個々の接触部材に割り当てられる補償抵抗における電圧降下が、個別に調整可能である。隣接する印刷回路基板間の電圧は、このようにして、少なくとも1つの補償抵抗によってさらに最小限にされ、そのため印刷回路基板間の陰極電位が調節、調整され、また、コンベアによるめっきラインにおける種々の幾何学的状況、ならびに印刷回路基板の種々の形式および他のパラメータ、例えば、銅クラッドの厚さ、回路パターン(金属めっきされる面積の大きさ)、およびメタライゼーションの型(印刷回路基板の表面で見られる他の金属をできるだけ考慮する)を考慮する。
電気補償抵抗付きの少なくとも2つの接触部材が設けられる場合、それは、電圧降下が、輸送方向で見た最初の/第1の接触部材に割り当てられる、その補償抵抗において最大であるように、補償抵抗を調整(または選択)するのに有利であることがさらにまた分かった。その結果として、ゾーンCからゾーンDへの遷移領域において、これらの領域にたまたまある個別印刷回路基板の間に通常生成される電位差が、最小限にされる。
特に有利な実施形態において、電流供給源は、電流ラインおよび滑り接触レールまたはブラッシュを通して、加工品のための電気的接触部材に電気的に接続され、電流経路が、ラインの入口領域に近接して、例えば、入口領域に面する電流経路に端領域において、より具体的に言えば、ゾーンCにおいて、互いに電気的に分離される部分に分割され、補償抵抗および接触部材が、個別部分のうちの関連する部分に割り当てられる。このようにして、たとえ個別抵抗の値が等しく高くても、接触部材における電圧が遷移領域Aに向かって徐々に低下する、直列接続が得られる。
補償抵抗が、好ましくは遷移領域において、かつライン内の処理領域の先頭で(残りの処理領域でなく)、接触素子または接触レール部分に割り当てられる。
通常、印刷回路基板は、それらがラインを通って搬送されているとき、電解液で充填される電解スペース内にそれらを導くことによって、電解スペース内で電解液と接触させられる。このために、それらは流体が溜まるスペースに入り、いったんそれらがラインを通して搬送されると、前記スペースを出る。通常、このために密閉手段が、電解液を電解スペース内に保持するために、入口または出口に設けられる。そのような型の密閉手段は、例えば、それを通して印刷回路基板がタンクを出入りする、タンク壁における非常に幅の狭いスロット、および前記スロットに直ぐ後に配置される密閉ローラーである。そのような密閉ローラーは、電解スペースを外部スペースから密閉し、電解液が電解スペースから流失するのを大いに阻止する。通常、密閉ローラーは互いに密接するようにして設置され、そこを通過する印刷回路基板によってわずかに押し離される。
図3〜5が本発明をさらに詳細に説明するのに役立つ。
図3に示す、本発明によるコンベアによるめっきラインの前方領域が、電解スペース2内に設けられる電解液用のタンク1を備える。印刷回路基板5、6、7は、固定輸送ローラー8によって、ラインを通って搬送される。それらはラインに入って、密閉壁4に設けられる入口スロットと、密閉ローラー3の間を通過する。密閉壁4のスロットは、電解液の流失を最小限にするために、できるだけ狭くなるように選択される。少量の電解液だけしか外部スペースに漏れないように、密閉ローラー3は電解スペース2を外部スペースからさらに密閉する。入って来る印刷回路基板5、6、7は、2つの密閉ローラー3のうちの上の1つを上げて、電解スペース2に入る。印刷回路基板5、6、7は、接近して連続的にラインを通って搬送される。2つの印刷回路基板間の間隔は、例えば約10mmである。
印刷回路基板5、6、7上の金属層におけるエッチング腐食を避ける作用において、少なくとも1つの保護電極17、18が、本発明によって、図3に示すようにゾーンBにおける電解スペース2に取り付けられる。そのような保護電極17、18は、印刷回路基板5、6、7が搬送される、輸送経路の上側および下側の両方に配置されることが好ましい。保護電極17、18は、少なくとも表面部分で導電性である耐薬品材料から作られる。いくつかの特殊鋼、チタン、または他の抗酸性の導電性材料がそれに適している。
上部および下部保護電極17、18によって、印刷回路基板5、6、7がラインを通って通過しているとき、前記基板が接触部材9、16を通して電流供給源に電気的に接続される前に、ゾーンBにおけるそれらは陰極電位になり、そのため基板はそのとき接地電位0ボルトである。
このために、印刷回路基板5、6、7は、矢印によって示す方向にラインを通って搬送される。図3に示す寸描において、印刷回路基板5はライン内の最も奥にすでに搬送されていて、接触部材16によってすでに電気的に接触して置かれている。印刷回路基板7は、それに反して、電解スペース2内にその前方領域を有するだけである。この印刷回路基板7の後方領域はまだラインの外部スペースにある。ラインにすでに入っている印刷回路基板6は、ゾーンBおよびCにおいて2つの基板5および7の間に位置している。この印刷回路基板6の中心が、接触部材9を通してすでに電気的に接触して置かれ、その前方領域が接触部材16を通してすでに電気的に接触して置かれている。前記印刷回路基板6はまた、保護電極17、18を丁度通過しようとしている。
保護電極17、18は、図の上右端に示す電流源の接地電位と電気的に接触している。
保護電極17、18と電流供給源との間の電気的接続に、制限抵抗器19、20が設けられて、保護電極17、18の陰極電位が、その抵抗値を介して調整可能である。
制限抵抗器19、20がほぼ0オームの抵抗値を有する場合、保護電極17、18の作用が最大である。そのとき、保護電極17、18の陰極分極が非常に大きいので、印刷回路基板6と7との間のU(s)の極性が反転する。これらの状況で、印刷回路基板7は印刷回路基板6に対して陰極電位にあり、そのため電解セルがこれらの2つの印刷回路基板の間に形成される。この場合に、印刷回路基板6の端領域14が、印刷回路基板7の端領域15に対して陽極に分極される。従って、この場合に印刷回路基板6がエッチングされる危険がある。この過補償は、制限抵抗器19、20の挿入によって、およびこれらの補償抵抗の値の適当な調整によって、または適当な抵抗値を持つ制限抵抗の適した選択によって、および/または保護電極17、18の有効表面の減少によって避けられる。この場合に、制限抵抗は電解液によって形成される。制限抵抗器19、20の値が、10〜100ミリオームとなるように設定されることが好ましい。それらの寸法は、保護電極17、18の電位が、ボルトで測定して、U(s)にほぼ等しい電圧降下を生成するように設定され、それは、印刷回路基板6および7の電位が等しくなるように、印刷回路基板6と7との間の電圧U(s)に対向する。
2つの保護電極17または18のうちの1つだけを用いて、その効果はより小さいけれども、陰極電位も等化される。
このように装備されたコンベアによるめっきラインは、ゾーンBにたまたまある、それらの印刷回路基板のエッチング腐食を避けることを可能にする。
印刷回路基板6が、先ず第1接触部材9において小さいインピーダンスで電気的に接触して置かれ、ゾーンCに入るとすぐ、前記印刷回路基板6はまだゾーンBにあり、かつ陽極11の領域にまだ達しないので、電気めっき電流が印刷回路基板6の方へ全く流れない。従って、ほんの小さい電流が接触部材9を通して流れるだけである。経路sに沿った接触部材9における電圧降下は小さい。
ゾーンDにすでに達した印刷回路基板5の場合は異なる。ここで、接触部材16を通過する電流は大きい。これらの接触部材16における電圧降下は従って大きい。電圧U(s)が、印刷回路基板5および6の端領域12と13との間に生成する。印刷回路基板5の端領域12は、印刷回路基板6の端領域13に対して正に分極される。従って、端領域12はゾーンCにおいて電気化学的にエッチングされる。
そのようなエッチング腐食は、図4を参照して説明される手段によって避けられる。接触部材9、16に割り当てられる補償抵抗器21が、前記接触部材9、16の電流経路に挿入される。前記補償抵抗器21はR1、R2、およびR3で示される。前記補償抵抗器21の数が、局部的状態によって、さらに具体的に言えば、ゾーンCおよびDにおける接触部材9、16の数によって決定される。ここで、補償抵抗R1、R2、およびR3は直列に接続される。同じ効果が、補償抵抗器21をそれぞれの接触部材9、16の電流経路に挿入することによって、および各抵抗について適当な抵抗値を選択することによって得られる。
補償抵抗器21は、ゾーンCではまだ小さい、接触部材9、16を通って流れる電気めっき電流において、生成される電圧降下が、ゾーンDで接触部材16に割り当てられる補償抵抗器21において生成される電圧降下にほぼ等しいように、サイズを作られる。その結果として、印刷回路基板5と6との間の電圧U(s)は、このゾーンでは同様に小さい。従って、エッチング腐食はこのゾーンでも起きない。従来の電気めっきラインにおいて、R1、R2、R3に対する補償抵抗値が、約100ミリオーム〜約1ミリオームにわたる。接触部材9、16を通る電流が増大するので、有効な補償抵抗値が、印刷回路基板5、6、7の輸送方向で小さくなることが好ましい。
最終的に、図5は、図4による実施形態で用いられた制限抵抗器19および20が施される、本発明の別の好ましい実施形態を示す。ラインのより簡単な構造が、このようにして可能となる。この場合に、保護電極17、18の陰極電位の調整を同様に可能にするために、図4によるラインに示す補償抵抗器21間の適当な電位が走査される。この接続において、試験の結果、補償抵抗器21のサイズ変化が非常に小さいので、実際に、保護電極17、18のうちの関連する1つを電気的に接触させるための適した接続位置が、保護電極17、18の陰極電位を、隣接する印刷回路基板間の電圧U(s)が、より具体的に言えば、ラインの入口領域で、ゼロに降下するのを可能にする値に調整するために、常に発見され得ることが分かった。
この場合は、補償抵抗R1とR2との間の保護電極17、18の電位が走査された。保護電極が例えば抵抗R1とR2との間に接続される場合、電圧が非常に低いならば、接続は、図5に破線で示すように、R2とR3との間に確立され得る。
その他の点に関しては、本明細書でさらに詳細に説明されない図5の装置の特徴が、図3および図4の相当する特徴に相当する。
電流密度が増大するにつれて、個々のゾーンにおいて生成される補償手段の電位および電圧降下の全てが増大し、逆もまた同様である。より大きい電流密度がより大きい補償手段を必要とするので、本発明は使用される電流密度とほとんど無関係である。
本発明は耐消耗性めっきライン要素を設けるのに特に有利である。受動的要素だけが使用される。より具体的に言えば、滑り接触が、印刷回路基板間の妨害電圧を短絡するために、決して使用されない。
意外にも、陰極の保護電極が、ほんの最小限度に金属めっきされることが分かった。わずかに化学的なエッチング電解液が、保護電極のメタライゼーションを防止するのに充分である。そうでなくても、保護電極17は、保護電極17と陽極11との間に、または保護電極18と陽極11との間に、一方で印刷回路基板の周辺から伸び、他方でバスレベルで、またはタンクの底で終わる、非導電性表面を有するスクリーンを取り付けることによって、金属めっきされないように効果的に防止される。この場合には、本発明の手段は完全にメンテナンスフリーである。
本明細書に述べた例および実施形態は単に例示を目的としており、それらを踏まえた種々の修正および変更、ならびに本出願に記載した特徴の組合せが、当業者に示唆され、上述の本発明の精神および範囲に、かつ添付する特許請求の範囲に包含されるべきであることが理解される。本明細書に引用した全ての刊行物、特許、および特許出願が、本明細書に参照により援用される。
先行技術によるコンベアによるめっきラインの前方領域の略断面図である。 隣接する基板間の電圧降下を示す、図1に照らした図である。 本発明による保護電極付きの電気めっきラインの前方領域の略断面図であり、それで得られる、隣接する印刷回路基板間の電位差の低下または最小化を示す図である。 別の発明手段を用いる電気めっきラインの前方領域の略断面図であり、それで得られる電位差の等化を示す図である。 制限抵抗として同時に作用する保護電極が補償抵抗を通して電流源と接触させられる、電気めっきラインの前方領域の略断面図である。
符号の説明
1 めっきタンク
2 電解スペース
3 密閉ローラー
4 密閉壁
5、6、7 印刷回路基板
8 輸送ローラー
9 接触部材
10 電解液のための供給部材(例えば、フローノズル)
11 陽極
12 印刷回路基板5の縁領域
13 印刷回路基板6の縁領域
14 印刷回路基板6の端領域
15 印刷回路基板7の縁領域
16 接触部材
17 上部保護電極
18 下部保護電極
19 保護電極17の制限抵抗器
20 保護電極18の制限抵抗器
21 接触部材9、16の補償抵抗器
U(s) 印刷回路基板の2つの縁領域間の電圧
s コンベアによるめっきラインを通って印刷回路基板5、6、7が移動する経路

Claims (22)

  1. 加工品を電解的に金属めっきするためのコンベアによるめっきラインであって、少なくとも1つの保護電極(17、18)が、前記ラインを通って搬送される隣接した加工品(5、6、7)間に形成される電圧を低下させるために、加工品(5、6、7)のための入口領域に設けられる、コンベアによるめっきライン。
  2. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)が、前記入口領域を、陽極(11)を配する、前記加工品(5、6、7)のための処理領域から、実質的に区切る、請求項1に記載のコンベアによるめっきライン。
  3. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)が、前記加工品(5、6、7)が前記ラインを通過しているとき、それが前記加工品に接触しないように配置される、請求項1または2に記載のコンベアによるめっきライン。
  4. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)が、前記陽極(11)に対して陰極に分極する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のコンベアによるめっきライン。
  5. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)が、少なくとも1つの制限抵抗器(19、20)を介して電解金属めっきのための電流源に接続される、請求項1〜4のいずれか一項に記載のコンベアによるめっきライン。
  6. 前記少なくとも1つの制限抵抗器(19、20)が調整可能である、請求項5に記載のコンベアによるめっきライン。
  7. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)の数、形状、空間的配置、および/またはサイズが、前記ラインにおける隣接した加工品(5、6、7)間の電圧の低下を考慮して決定される、請求項1〜6のいずれか一項に記載のコンベアによるめっきライン。
  8. 電流を前記加工品(5、6、7)に供給する少なくとも1つの電流源が設けられ、前記加工品(5、6、7)のための電気的接触部材(9、16)が設けられ、そして少なくとも1つの電気的補償抵抗器(21)が、前記電流源から前記接触部材(9、16)へ至る電流経路に設けられる、請求項1〜7のいずれか一項に記載のコンベアによるめっきライン。
  9. 前記少なくとも1つの電流源が、電流ラインおよび接触レールまたはブラッシュを介して、前記加工品(5、6、7)のための前記電気的接触部材(9、16)に電気的に接続され、少なくとも1つの電気的補償抵抗器が、前記ラインの前記入口領域に近接して直列に取り付けられ、前記接触部材は前記少なくとも1つの補償抵抗器の片側に接続される、請求項8に記載のコンベアによるめっきライン。
  10. 前記少なくとも1つの補償抵抗器(21)が調整可能である、請求項8または9に記載のコンベアによるめっきライン。
  11. 少なくとも2つの接触部材(9、16)が設けられる場合、電圧降下が、輸送方向で見て最初の接触部材(9)に割り当てられる補償抵抗器(21)において最大であるようにその補償抵抗器(21)が調整可能である、請求項8〜10のいずれか一項に記載のコンベアによるめっきライン。
  12. 前記加工品(5、6、7)が前記ラインを通過しているとき、それらを電解液と接触させるために、前記電解液を溜めるスペースが設けられ、当該スペースに前記加工品(5、6、7)が入ることができ、かついったん前記加工品(5、6、7)が前記ラインを通って搬送されると、それらは再び出ることができる、請求項1〜11のいずれか一項に記載のコンベアによるめっきライン。
  13. コンベアによるめっきラインにて加工品を電解金属めっきする方法であって、加工品を前記ラインに供給する工程と、そこを通って前記加工品を搬送し、前記加工品を前記ラインから再び出す工程と、加工品(5、6、7)のための入口領域に設けられる少なくとも1つの保護電極(17、18)を用いて、前記ラインを通って搬送される隣接した加工品(5、6、7)間に形成される電圧を低下させる工程と、を有する方法。
  14. 電圧が、前記少なくとも1つの保護電極(17、18)を介して、それが前記ライン内の入口領域を、前記陽極(11)を配置する前記ライン内の領域から実質的に区切るという事実によって、低下させられる、請求項13に記載の方法。
  15. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)が、前記加工品(5、6、7)が前記ラインを通って搬送されているとき、それが前記加工品に接触しないように、前記ライン内に配置される、請求項13または14に記載の方法。
  16. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)が、電流を前記加工品(5、6、7)に供給する電流源の負極に接続される、請求項13〜15のいずれか一項に記載の方法。
  17. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)の電位が、前記電流源の負極に電気的に接続した少なくとも1つの制限抵抗器(19、20)を介して陰極に調整される、請求項13〜16のいずれか一項に記載の方法。
  18. 前記少なくとも1つの保護電極(17、18)の数、形状、空間的配置、および/またはサイズが、電圧の低下を考慮して決定される、請求項13〜17のいずれか一項に記載の方法。
  19. 前記ライン内の隣接した加工品(5、6、7)間の電圧が、少なくとも1つの補償抵抗器(21)を介してそれぞれ調整され、前記補償抵抗器は、前記加工品(5、6、7)のための接触部材(9、16)に割り当てられる、請求項13〜18のいずれか一項に記載の方法。
  20. 前記少なくとも1つの補償抵抗器(21)の電気的抵抗が、隣接した加工品(5、6、7)間の電圧が最小限にされるように調整される、請求項19に記載の方法。
  21. 少なくとも2つの接触部材(9、16)が設けられる場合、電圧降下が、輸送方向で見て最初の接触部材(9)に割り当てられる補償抵抗器(21)において最大であるように、その補償抵抗器(21)が調整される、請求項20に記載の方法。
  22. 前記加工品(5、6、7)が、前記電解液を溜めるスペースにそれらを入れることによって、かついったんそれらが前記ラインを通って搬送されると、それらを前記スペースから再び出すことによって、それらが前記ラインを通過するとき、それらが前記電解液と接触させられる、請求項13〜21のいずれか一項に記載の方法。
JP2003580612A 2002-03-28 2003-03-17 加工品を電解金属めっきするコンベアによるめっきラインおよび方法 Expired - Fee Related JP4225919B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10215463A DE10215463C1 (de) 2002-03-28 2002-03-28 Durchlaufanlage und Verfahren zum elektrolytischen Metallisieren von Werkstück
PCT/EP2003/002763 WO2003083185A1 (en) 2002-03-28 2003-03-17 Conveyorized plating line and method for electrolytically metal plating a workpiece

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005521795A JP2005521795A (ja) 2005-07-21
JP4225919B2 true JP4225919B2 (ja) 2009-02-18

Family

ID=7714307

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003580612A Expired - Fee Related JP4225919B2 (ja) 2002-03-28 2003-03-17 加工品を電解金属めっきするコンベアによるめっきラインおよび方法

Country Status (15)

Country Link
US (1) US7449089B2 (ja)
EP (1) EP1488025B1 (ja)
JP (1) JP4225919B2 (ja)
KR (1) KR100976745B1 (ja)
CN (1) CN100439570C (ja)
AT (1) ATE311485T1 (ja)
AU (1) AU2003218782A1 (ja)
BR (1) BR0306729B1 (ja)
CA (1) CA2469880A1 (ja)
DE (2) DE10215463C1 (ja)
ES (1) ES2252661T3 (ja)
HK (1) HK1070401A1 (ja)
MX (1) MXPA04009447A (ja)
TW (1) TWI244511B (ja)
WO (1) WO2003083185A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2027292B1 (en) * 2006-05-12 2010-05-12 Cepheid Dna recombination junction detection
US9303316B1 (en) * 2010-01-15 2016-04-05 Apollo Precision Kunming Yuanhong Limited Continuous web apparatus and method using an air to vacuum seal and accumulator
WO2012092301A2 (en) * 2010-12-29 2012-07-05 Intevac, Inc. Method and apparatus for masking substrates for deposition
CN110791786B (zh) * 2019-11-22 2020-11-17 深圳市金辉展电子有限公司 一种pcb电路板电镀用电镀液添加喷射装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3643670A (en) * 1970-08-20 1972-02-22 Finishing Equipment And Supply Apparatus for liquid treatment of flat materials
US4385967A (en) * 1981-10-07 1983-05-31 Chemcut Corporation Electroplating apparatus and method
JPS60100693A (ja) * 1983-11-02 1985-06-04 Nippon Steel Corp 電気メツキにおけるエツヂマスクの位置制御方法
DE3624481A1 (de) * 1986-07-19 1988-01-28 Schering Ag Anordnung zur elektrolytischen behandlung von plattenfoermigen gegenstaenden
DE3732476A1 (de) * 1987-09-24 1989-04-13 Schering Ag Verfahren zur angleichung der teilstroeme in einem elektrolytischen bad
EP0357326A3 (en) * 1988-08-26 1990-10-24 M & T Chemicals, Inc. Inhibiting corrosion of lead or lead-alloy anodes in a chromium electroplating bath
JP2718736B2 (ja) * 1989-01-24 1998-02-25 本田技研工業株式会社 多段通電電着塗装装置
DE3939681A1 (de) * 1989-12-01 1991-06-06 Schering Ag Verfahren zur steuerung des ablaufes von galvanischen anlagen, sowie zur durchfuehrung des verfahrens dienender anordnung
DE19736352C1 (de) * 1997-08-21 1998-12-10 Atotech Deutschland Gmbh Vorrichtung zur Kontaktierung von flachem Behandlungsgut in Durchlaufgalvanisieranlagen
US6913680B1 (en) * 2000-05-02 2005-07-05 Applied Materials, Inc. Method of application of electrical biasing to enhance metal deposition

Also Published As

Publication number Publication date
CA2469880A1 (en) 2003-10-09
AU2003218782A1 (en) 2003-10-13
ATE311485T1 (de) 2005-12-15
EP1488025A1 (en) 2004-12-22
EP1488025B1 (en) 2005-11-30
ES2252661T3 (es) 2006-05-16
BR0306729B1 (pt) 2012-07-24
CN100439570C (zh) 2008-12-03
DE60302560T2 (de) 2006-08-17
MXPA04009447A (es) 2005-01-25
BR0306729A (pt) 2004-12-21
DE60302560D1 (de) 2006-01-05
TW200306363A (en) 2003-11-16
KR20040111406A (ko) 2004-12-31
WO2003083185A1 (en) 2003-10-09
CN1643186A (zh) 2005-07-20
DE10215463C1 (de) 2003-07-24
JP2005521795A (ja) 2005-07-21
TWI244511B (en) 2005-12-01
US7449089B2 (en) 2008-11-11
US20050077185A1 (en) 2005-04-14
HK1070401A1 (en) 2005-06-17
KR100976745B1 (ko) 2010-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100956536B1 (ko) 피처리물을 전해 처리하기 위한 방법 및 컨베이어 장치
US6309517B1 (en) Apparatus for inline plating
US6238529B1 (en) Device for electrolytic treatment of printed circuit boards and conductive films
TW548349B (en) Segmented counterelectrodes for an electrolytic treatment system
US10774437B2 (en) Method and apparatus for electrolytically depositing a deposition metal on a workpiece
JP4445859B2 (ja) 少なくとも表面が導電性であるワークピースを電解処理するための装置および方法
CA2250020A1 (en) Method and device for the electrochemical treatment with treatment liquid of an item to be treated
JP4521146B2 (ja) 電気絶縁の箔材料の表面上で電気的に互いに絶縁された導電性構造を電解処理するための方法及び装置並びに上記方法の使用法
KR100729973B1 (ko) 상호 절연된 시트 및 포일 재료 피스의 도전성 표면을 전해 처리하는 방법 및 장치
CN113862760A (zh) 控制个别夹具电流的电镀装置
JP4225919B2 (ja) 加工品を電解金属めっきするコンベアによるめっきラインおよび方法
CN113943968A (zh) 具备个别分区的电镀装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081017

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081028

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081125

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4225919

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131205

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees