JP4223641B2 - アルケニルフェノール系共重合体の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なアルケニルフェノール系共重合体及びその製造方法に関し、更に詳しくはアルケニルフェノール単位とアクリル酸エステル単位とを必須主要構成単位とする、構造の制御されたアルケニルフェノール系共重合体及びその製造方法に関する。本発明の共重合体は、エキシマレーザーレジスト材料としての利用が期待される。
【0002】
【従来の技術】
ポリ−p−ヒドロキシスチレンに代表されるアルケニルフェノールのホモポリマーやコポリマーは、化学増幅型・エキシマレーザーレジスト材料として有用なものであり、中でも、p−ヒドロキシスチレンとt−ブチルアクリレートとのコポリマー、又はp−ヒドロキシスチレンとスチレンとt−ブチルアクリレートとからなるターポリマーを用いたレジストは、高解像化が可能ないわゆるESCAP型レジストとして知られている。
【0003】
このようなコポリマー、ターポリマーとしては、ビニルフェノールモノマーとt−ブチルアクリレートと要すればスチレンとを熱重合させたもの、p−アセトキシスチレンとt−ブチルアクリレートと要すればスチレンとをラジカル重合法により共重合させた後、酸性試剤やアルカリ性試剤を用いてアセトキシ基を加水分解させて得られたものが市販されている。しかしながら、これらの方法により得られる共重合体は、未反応モノマーや低分子量体、また各成分のホモポリマーを含む混合物の形で得られるため、設定通りの構造を有する共重合体を得ることは困難であり、且つ、分子量分布の広いものであった。
【0004】
一方、設定通りの構造を有し、且つ、分子量分布の狭い共重合体を得る方法として、フェノール残基の水酸基が飽和脂肪族系保護基により保護された化合物と(メタ)アクリル酸エステルとを有機アルカリ金属を重合開始剤とするアニオン重合法によりブロック共重合させた後、酸性試剤を用いて飽和脂肪族系保護基を脱離させてアルケニルフェノール骨格を生成せしめる方法が提案されている(特公昭63−36602号公報、特開平10−168132号公報など)。しかしながら、ここで提案されている通常のアニオン重合法においては、メタクリル酸エステルの場合には構造制御が可能だが、アクリル酸エステルの場合には生成するアニオン末端によるカルボニル攻撃や水素引き抜きによるメタル化等の副反応も生起するため、設定通りの構造を有する共重合体を得ることは不可能であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、単峰性で分子量分布が狭く、且つ、構造の制御された、アルケニルフェノール骨格とアクリル酸エステル骨格とを主骨格とする新規な共重合体及びその製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、前記課題を達成すべく鋭意研究した結果、リビングアニオン重合法によりアルケニルフェノールのフェノール性水酸基が保護された化合物を単独重合させた後、あるいは該化合物とビニル芳香族化合物とを共重合させた後、所定量のメタクリル酸エステルを加えて末端アニオンの一部の変換を行い、その後アクリル酸エステルを加えて共重合させた後、酸性試剤を用いて飽和脂肪族系保護基を脱離させることにより、分子量分布が狭く、且つ構造の制御されたアルケニルフェノールとアクリル酸エステルとを主骨格とする共重合体が得られることを見い出し、本発明を完成した。
【0007】
即ち、本発明は、一般式(I)
【化1】
(式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はC1〜C6のアルキル基を表し、mは0、1又は2を表す。)で表される繰り返し単位を含む成分(A)、一般式(II)
【化2】
(式中、R3は、水素原子、C1〜C12のアルキル基、C3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表す。)で表される繰り返し単位(B)、及び一般式(III)
【化3】
(式中、R4は、水素原子、C1〜C12のアルキル基、C3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表す。)で表される繰り返し単位を含む成分(C)が、(A)−(B)−(C)型にブロック結合しており、数平均分子量が1,000〜50,000、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比Mw/Mnが1.00〜1.50であり、かつ一般式(II)で表される繰り返し単位(B)と[一般式(I)で表される繰り返し単位を含む成分(A)と一般式(II)で表される繰り返し単位(B)と一般式(III)で表される繰り返し単位を含む成分(C)との和]の比の値が、0.05以下であるアルケニルフェノール系共重合体の製造方法であって、
(第1工程) アルカリ金属又は有機アルカリ金属を重合開始剤とするアニオン重合法により、フェノール性水酸基が保護された下記一般式( IV )
【化4】
(式中、R 5 は、水素原子又はメチル基を表し、R 6 は、C1〜C6のアルキル基又は酸脱離・分解基を表し、R 7 はC1〜C6のアルキル基を表し、nは0、1又は2を表す。)で表される化合物を単独重合させる工程、あるいは、該一般式( IV )で表される化合物とビニル芳香族化合物とを共重合させる工程、
(第2工程) 上記第1工程後、下記一般式(V)
【化5】
(式中、R 8 はC1〜C12のアルキル基、C3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表す。)で表されるメタクリル酸エステルを、上記第1工程において生成した重合体のアニオン活性末端のモル数以下共重合させる工程、
(第3工程) 上記第2工程後、下記一般式( VI )
【化6】
(式中、R 9 はC1〜C12のアルキル基、C3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表す。)で表されるアクリル酸エステルと共重合させてブロック共重合体を得る工程、及び
(第4工程) 上記第3工程後、フェノール性水酸基の保護基を脱離させる工程を有することを特徴とするアルケニルフェノール系共重合体の製造方法に関する。
【0013】
【発明の実施の形態】
一般式(I)で表される繰り返し単位中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。また、R2は、C1〜C6のアルキル基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等を例示することができる。mは0、1又は2を表す。水酸基(OH基)、R2の置換位置は特に限定されないが、水酸基はアルケニル基のパラ位又はメタ位が好ましい。
【0014】
一般式(II)で表される繰り返し単位中、R3は、C1〜C12のアルキル基、置換基を有してもよいC3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表し、特に、t−ブチル基を有する酸脱離・分解基が好ましい。ここで、酸脱離・分解基とは酸により脱離及び/又は分解する基を意味する。R3としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基等の他、下記式
【0015】
【化13】
【0016】
(式中、nは又は1を表す。)で表されるような官能基を具体的に例示することができる。一般式(II)で表される繰り返し単位中の構成ユニットは単一又は2種以上の混合であってもよく、2種以上の混合の場合、その構造は特に制限されず、ランダム又はブロックで結合していてもよい。
【0017】
一般式(III)で表される繰り返し単位中、R4は、C1〜C12のアルキル基、置換基を有してもよいC3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表し、特に、t−ブチル基を有する酸脱離・分解基が好ましい。具体的には、R3で示した基と同様な官能基を例示することができる。
【0018】
本願発明の重合体には必要に応じて、一般式(I)〜一般式(III)以外の繰り返し単位を含めることができる。この繰り返し単位としては、一般式(I)〜一般式(III)に対応する単量体と共重合可能な2重結合を有する化合物から得られる繰り返し単位であれば特に制限されないが、スルホン酸基、カルボキシル基、水酸基等の酸性置換基を有しない繰り返し単位が好ましく、該繰り返し単位に対応する単量体としては、ビニル基含有化合物、(メタ)アクロイル基含有化合物等を例示することができる。
【0019】
上記ビニル基含有化合物として具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン等の芳香族ビニル化合物、ビニルピリジン等のヘテロ原子含有芳香族ビニル化合物、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン等のビニルケトン化合物、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物、ビニルピロリドン、ビニルラクタム等のヘテロ原子含有脂環式ビニル化合物等を例示することができる。
【0020】
上記(メタ)アクロイル基含有化合物としては、一般式(VII)
【0021】
【化14】
【0022】
(式中、R10は水素原子、又はメチル基を表し、R11は、C1〜C12のアルキル基、置換基を有してもよいC3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表す。)で表される(メタ)アクリル酸エステル又は(メタ)アクリロニトリル等を例示することができる。R11として具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基等の他下記式(式中、nは0又は1を表す。)で表される官能基を例示することができる。これらは、1種又は2種以上の混合物として使用することができる。
【0023】
【化15】
【0024】
これら、ビニル基含有化合物から得られる繰り返し単位は、一般式(I)〜一般式(III)に示される繰り返し単位とランダムに又はブロックで共重合して、本発明のアルケニルフェノール共重合体に含有させることができるが、ビニル基含有化合物から得られる繰り返し単位と一般式(I)で表されるアルケニルフェノールの繰り返し単位とをランダム共重合させた成分を成分(A)として本発明のアルケニルフェノール共重合体に含有させることが特に好ましい。
【0025】
本発明のアルケニルフェノール共重合体は、一般式(I)で表されるアルケニルフェノールの繰り返し単位を含む成分(A)、一般式(II)で表されるメタクリル酸エステルの繰り返し単位(B)、及び一般式(III)で表されるアクリル酸エステルの繰り返し単位を含む成分(C)が、(A)−(B)−(C)型でブロック共重合していることを特徴とする。
【0026】
本発明のアルケニルフェノール共重合体の具体例を以下に示す。
ポリ[p−t−ブトキシスチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−ヒドロキシ−α−メチルスチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[m−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−t−ブトキシスチレン/p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸n−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸イソボニル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸イソボニル/アクリル酸イソボニル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸イソボニル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸ジシクロペンテニル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/スチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−t−ブトキシスチレン/p−ヒドロキシスチレン/スチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブチル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/メタクリル酸t−ブチル/アクリル酸t−ブトキシカルボニルメチル]
ポリ[p−ヒドロキシスチレン/スチレン/メタクリル酸t−ブチル/(アクリル酸t−ブチル/アクリル酸イソボニル)]
【0027】
本発明のアルケニルフェノール共重合体の数平均分子量は、1,000〜50,000であり、好ましくは5,000〜20,000の範囲である。更に、分散度を表す重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)は、1.00〜1.50の範囲であり、好ましくは1.00〜1.20の範囲である。 また、一般式(I)で表される繰り返し単位を含む成分(A)と[一般式(II)で表される繰り返し単位(B)と一般式(III)で表される繰り返し単位を含む成分(C)の和]の比は特に制限されないが、特に99/1〜70/30の範囲が好ましい。
【0028】
また、一般式(II)で表される繰り返し単位(B)と[一般式(I)で表される繰り返し単位を含む成分(A)と一般式(II)で表される繰り返し単位(B)と一般式(III)で表される繰り返し単位を含む成分(C)]の比の値が、0.05以下、例えば0.001〜0.05、好ましくは0.01〜0.05であることを特徴とする。すなわち、ごく少量のメタクリル酸エステル構造を挟むことにより、狭分散性のアルケニルフェノール−アクリル酸エステル型の共重合体を得ることができる。
【0029】
本発明のアルケニルフェノール共重合体の製造方法において用いられる重合開始剤は、アルカリ金属又は有機アルカリ金属からなり、アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等を例示することができ、有機アルカリ金属としては、上記アルカリ金属のアルキル化物、アリル化物、アリール化物等を使用することができ、具体的には、エチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、エチルナトリウム、リチウムビフェニル、リチウムナフタレン、リチウムトリフェニル、ナトリウムナフタレン、α−メチルスチレンナトリウムジアニオン、1,1−ジフェニルヘキシルリチウム、1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリチウム等を挙げることができる。
【0030】
本発明のアルケニルフェノール共重合体の製造方法において用いられる一般式(IV)で表される化合物中、R5は水素原子又はメチル基を表し、R6は炭素数が1〜6のアルキル基、又は酸により分解される基を表す。R6の具体的な例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、メトキシメチル基、1−エトキシエチル基、t−ブチトキシカルボニルメチル基、1−メチル−t−ブトキシカルボニルメチル基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリルメチル基、テトラヒドロピラニル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基等を例示することができる。R7はC1〜C6のアルキル基を表し、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等を例示することができる。nは0、1又は2を表す。
【0031】
一般式(IV)で表される化合物としては、p−n−ブトキシスチレン、p−sec−ブトキシスチレン、p−t−ブトキシスチレン、p−t−ブトキシ−α−メチルスチレン、m−t−ブトキシスチレン、m−t−ブトキシ−α−メチルスチレン、p−(テトラヒドロピラニルオキシ)スチレン、p−(テトラヒドロピラニルオキシ)−α−メチルスチレン、p−(1−エトキシエトキシ)スチレン、p−(1−エトキシエトキシ)−α−メチルスチレン等を具体的に例示することができ、これらは一種単独又は二種以上の混合物として使用することができる。
【0032】
本発明のアルケニルフェノール共重合体の製造方法において用いられるビニル芳香族化合物としては、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、1,3−ブチルスチレン等を挙げることができ、これらは一種単独又は二種以上の混合物として使用することができる。
【0033】
本発明において用いられる一般式(V)で表されるメタクリル酸エステル中、R8は、C1〜C12のアルキル基、置換基を有してもよいC3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表す。特に、t−ブチル基を有する酸脱離・分解基が好ましい。R8は一般式(II)中のR3に対応しており、具体的な例は前述してとおりである。一般式(V)の具体例としては、メチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、i−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、テトラヒドロピラニルメタクリレート、3−オキソシクロヘキシルメタクリレート、1−アダマンチルメタクリレート、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート等を例示することができ、この中でもt−ブチルメタクリレートが好ましい。これらは、一種単独又は2種以上の混合物として使用される。
【0034】
かかるメタクリル酸エステルの添加量としては、アルカリ金属又は有機アリカリ金属を重合開始剤とするアニオン重合法により、フェノール性水酸基が保護された前記一般式(IV)で表される化合物を単独重合させた後、あるいは該一般式(IV)で表される化合物とビニル芳香族化合物とを共重合させた後のアニオン活性末端のモル数以下であることを特徴とする。好ましくは該アニオン活性末端のモル数に対して、0.01〜1当量の範囲であり、更に好ましくは0.1〜0.95当量、特に好ましくは0.1〜0.5当量の範囲である。
【0035】
また、かかるメタクリル酸エステルの添加量としては、前記した重合開始剤として用いられるアルカリ金属又は有機アルカリ金属1モルに対し、0.5〜5.0モルが好ましい。0.5モル未満では、末端アニオンの変換が十分でないため構造制御が困難となり、一方、5.0モルを越えると、導入されたメタクリル酸エステルユニットが目的とするアルケニルフェノール−アクリル酸エステル系共重合体の熱的特性に大きな影響を及ぼすため好ましくない。
【0036】
本発明において用いられる一般式(VI)で表されるアクリル酸エステル中R9は、C1〜C12のアルキル基、置換基を有してもよいC3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ環基を表す。特に、t−ブチル基を有する酸脱離・分解基が好ましい。R9は一般式(III)中のR4に対応しており、具体的な例は前述したとおりである。一般式(VI)で表されるアクリル酸エステルとしては、メチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、iso−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、テトラヒドロピラニルアクリレート、3−オキソシクロヘキシルアクリレート、1−アダマンチルアクリレート、2−メチル−2−アダマンチルアクリレート、イソボルニルアクリレート等を例示することができ、これらは一種単独又は二種以上の混合物として使用することができる。
【0037】
本発明のアルケニルフェノール系共重合体の製造は、まず、アルカリ金属又は有機アルカリ金属を重合開始剤として、前記一般式(IV)で示される化合物、要すればビニル芳香族化合物を併用してアニオン重合を行い、ついで反応系に前記一般式(V)で表されるメタクリル酸エステルを添加して重合末端のアニオンを変換した後、前記一般式(VI)で表されるアクリル酸エステルを逐次添加するブロック共重合反応により行われるが、この反応は通常、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、有機溶媒中において、−100〜50℃の温度下で行われる。好ましく−100〜0℃、更に好ましく−100〜−20℃の範囲で行われる。
【0038】
上記有機溶媒としては、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、シクロペンタン等の脂環族炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等のエーテル類の他、アニソール、ヘキサメチルホスホルアミド等のアニオン重合において通常使用される有機溶媒を挙げることができ、これらは一種単独又は二種以上の混合溶媒として使用することができる。特にTHF、THF−ヘキサンの混合系が好ましい。その混合比は特に制限されないが、THF/ヘキサンの容量比が100/0〜80/20の範囲が特に好ましい。
【0039】
このようにして得られた共重合体からフェノール性水酸基の保護基を全部あるいは一部脱離させ、アルケニルフェノール骨格を生成せしめる反応は、前記重合反応で例示した溶媒の他、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の多価アルコール誘導体類、水などの一種単独又は二種以上の混合溶媒の存在下、塩酸、硫酸、塩化水素ガス、臭化水素酸、p−トルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、一般式 XHSO4(式中、XはLi、Na、K等のアルカリ金属を表す)で示される重硫酸塩などの酸性試剤を触媒として、通常、室温〜150℃の温度で行われる。
【0040】
用いる酸性試剤の量は、触媒量で十分であるが、通常各ユニットのモル分率、各ユニットの分子量よりポリマー全体の平均分子量を求め、ポリマーの全重量、平均分子量、及びモル分率より各ユニットのモル数を求め、アルケニルフェノールユニット部のモル数に対して0.1〜3当量、好ましくは0.1〜1当量の範囲である。
【0041】
保護基の脱離反応は、前記のように、室温〜150℃の温度で行われる。しかし、フェノール水酸基の脱保護に際して、(メタ)アクリル酸エステル部の加水分解を制御するためには、室温〜70℃未満、好ましくは室温〜60℃未満、更に好ましくは30℃〜50℃の範囲で行われる。但し、アクリル酸エステル部にC7以上の脂環族基、又は脂環族基を有するアルキル等の嵩高い置換基を有する場合、60℃以上で反応を行ってもエステル部の加水分解を制御することができる。
【0042】
また、脱保護反応において、溶媒の種類と濃度、触媒の種類と添加量、及び反応温度を適当に組み合わせることにより、(メタ)アクリル酸エステル部の加水分解及びフェノール性水酸基の脱保護を制御し、前記一般式(IV)で示される化合物における保護基が選択的に脱離されて、本発明の狭分散且つ構造の制御されたアルケニルフェノール系共重合体を製造することができる。
【0043】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び比較例により、更に詳細に説明する。但し、本発明の範囲は、下記実施例により何ら制限を受けるものではない。
【0044】
実施例1
窒素雰囲気下において、テトラヒドロフラン(以下、THFと略す)1500g中に、n−ブチルリチウム(以下、NBLと略す)30ミリモルを加え、撹拌下、−60℃に保持しながら、p−t−ブトキシスチレン(以下、PTBSTと略す)1.0モルを1時間かけて滴下、さらに反応を1時間継続し、ガスクロマトグラフィー(以下、GCと略す)により反応完結を確認した。この段階で反応系から少量を採取し、メタノールにより反応を停止させた後、ゲルパーミィエイションクロマトグラフィー(以下、GPCと略す)により分析したところ、得られたPTBSTポリマーは、Mn=5900、Mw/Mn=1.08の単分散ポリマーであった。次いで、反応系にt−ブチルメタクリレート(以下、t−BMAと略す)50ミリモルを10分間で滴下し、さらに反応を30分間継続して、GCにより反応完結を確認した後、t−ブチルアクリレート(以下、t−BAと略す)0.5モルを30分間かけて滴下し、さらに反応を1時間継続して、GCにより反応完結を確認した。ついで、反応系にメタノールを加えて反応を停止させ、反応液を大量のメタノール中に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄後、60℃で15時間減圧乾燥して白色粉体状のポリマーを得た。用いたモノマー総量に対する重合収率は、99.5%であった。
【0045】
このポリマーのGPC分析を行ったところ、Mn=8300、Mw/Mn=1.15の単分散ポリマーであり、13C NMRにより求めた共重合比率は、PTBST単位/t−BA単位=1/0.5(モル比)であった。これらのことから、共重合反応は何ら副反応を生起することなく進行し、設定通りの共重合体が得られたことを確認した。
【0046】
次に、得られたポリマー10gをテトラヒドロフラン(以下、THFと略す)/エタノール=4/1(重量比)の混合溶媒に溶解して25%溶液とし、濃塩酸3gを加えて40℃で45時間反応を行った後、反応液を大量の水中に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄後、60℃で5時間減圧乾燥して白色粉体上のポリマー7.7gを得た。
【0047】
この反応において、反応前後におけるポリマーの赤外線吸収スペクトル(以下、IRと略す)及び13C NMR(以下、NMRと略す)を比較した。IRにおいて、890cm-1におけるポリPTBSTのt−ブチル基由来の吸収が反応後は消失し、あらたに3300cm-1付近に水酸基由来のブロードな吸収が観察された。また、NMRにおいて、77ppm及び153ppm付近におけるポリPTBSTのt−ブチル基由来のピークが反応後は消失しており、一方、80ppm付近におけるt−BA及びt−BMAセグメントのt−ブチル基由来のピークは、ベンゼン環カーボンに対する面積比が反応前後において変化していなかった。また、生成したポリマーについてGPCを測定したところ、Mn=6400、Mw/Mn=1.14の単分散ポリマーであった。
【0048】
以上のことから、共重合反応とその後の選択的な脱離反応は設定どおりに行われ、p−ヒドロキシスチレンセグメントと、t−BAセグメントを主骨格とするアルケニルフェノール系ブロック共重合体が生成したことを確認することができた。
【0049】
実施例2
窒素雰囲気下において、THF2000g中に、NBL29ミリモルを加え、撹拌下、−50℃に保持しながら、PTBST1モルとスチレン0.3モルとの混合物を1時間かけて滴下し、更に1時間反応を継続し、GCにより反応完結を確認した。この段階でのPTBST/スチレン系ポリマーは、Mn=7200、Mw/Mn=1.05の単分散ポリマーであった。次いで、反応系にt−BMA15ミリモルを10分かけて滴下し、さらに反応を30分間継続して反応完結を確認した後、t−BA0.3モルを30分間かけて滴下、更に反応を1時間継続して、GCにより反応完結を確認した。
【0050】
次に、反応系にメタノールを加えて反応を停止させ、反応液を大量のメタノール中に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄後、60℃で15時間減圧乾燥して白色粉体状のポリマーを得た。用いたモノマー総量に対する重合収率は、99.3%であった。このポリマーのGPC分析を行った所、Mn=8600、Mw/Mn=1.13の単分散ポリマーであり、NMRにより求めた共重合比率は、PTBST単位/スチレン単位/t−BA単位=1/0.3/0.3(モル比)であった。これらのことから、共重合反応は何ら副反応を生起することなく進行し、設定通りの共重合体が得られたことを確認することができた。
【0051】
次に、得られたポリマー10gをTHF/エタノール=1/1(重量比)の混合溶媒に溶解して25%溶液とし、硫酸水素ナトリウム3gを加えて50℃で20時間反応を行った後、反応液を濾過して硫酸水素ナトリウムを除去し、濾液を大量の水中に水中に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄後、60℃で5時間減圧乾燥して白色粉体上のポリマー7.8gを得た。この反応において、反応前後におけるポリマーのIR及びNMRを測定したところ、実施例1におけると同様に、PTBSTセグメントのt−ブトキシ基由来のピークの消失、t−BA及びt−BMAセグメントのt−ブチル基由来のピークには変化のないことが確認された。また、生成したポリマーについてGPCを測定した結果、Mn=6600、Mw/Mn=1.13の単分散ポリマーであった。
【0052】
以上のことから、共重合反応と選択的な脱離反応は設定どおりに行われ、p−ヒドロキシスチレンセグメントと、スチレンセグメントと、t−BAセグメントとを主骨格とするアルケニルフェノール系ブロック共重合体が生成したことを確認することができた。
【0053】
実施例3
窒素雰囲気下において、THF2500g中に、ナトリウム80ミリモルを含むナトリウム−ケロシン分散体を加え、撹拌下、−60℃に保持しながら、p−t−ブトキシ−α−メチルスチレン(以下、PTBMSTと略す)1モルとスチレン0.2モルとの混合物を1時間かけて滴下、更に1時間反応を継続し、GCにより反応完結を確認した。この段階でのポリマーは、Mn=5300、Mw/Mn=1.13の単分散ポリマーであった。次いで、反応系にn−ブチルメタクリレート(以下、n−BMAと略す)100ミリモルを20分間かけて滴下し、更に30分間反応を継続してGCにより反応完結を確認した後、t−BA1モルを1時間かけて滴下し、更に反応を1時間継続して、GCにより反応完結を確認した。
【0054】
次いで、反応系にメタノールを加えて反応を停止させ、反応液を大量のメタノール中に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄後、60℃で15時間減圧乾燥して白色粉体上のポリマーを得た。用いたモノマー総量に対する重合収率は99.8%であった。このポリマーのGPC分析を行った所、Mn=9000、Mw/Mn=1.15の単分散ポリマーであり、NMRにより求めた共重合比率は、PTBST単位/St単位/t−BA単位=1/0.2/1(モル比)であった。これらのことから、共重合反応は何ら副反応を生起することなく進行し、設定通りの共重合体が得られたことを確認した。
【0055】
次に、得られたポリマー10gをTHF/エタノール=1/1(重量比)の混合溶媒に溶解して25%溶液とし、硫酸0.5gを加えて50℃で20時間反応を行った後、反応液を大量の水中に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄後、60℃で5時間減圧乾燥して白色粉体状のポリマー8.1gを得た。この反応において、反応前後におけるポリマーのIR、及びNMRを測定したところ、実施例1におけると同様に、PTBMSTセグメントのt−ブトキシ基由来のピークの消失、n−BMAのn−ブチル基及びt−BAセグメントのt−ブチル基由来のピークには変化のないことが確認された。また、生成したポリマーについてGPCを測定した結果、Mn=7400、Mn/Mw=1.15の単分散ポリマーであった。
【0056】
以上のことから、共重合反応と選択的な脱離反応は設定通りに行われ、p−ヒドロキシ−α−メチルスチレンセグメントと、スチレンセグメントと、t−BAセグメントとを主骨格とするアルケニルフェノール系共重合体が生成したことを確認することができた。
【0057】
比較例1
実施例1において、t−BMAを用いない以外は同様にしてPTBSTとt−BAとの共重合反応を行った。得られたポリマーは、多峰性且つMw/Mnが3以上であり、共重合反応が設定通りに行われていないものであった。
【0058】
比較例2
実施例1において、t−BMAを用いず、共重合時の反応温度を−78℃とする以外は同様にしてPTBSTとt−BAとの共重合反応を行った。得られたポリマーは、多峰性且つMw/Mnが3以上であり、共重合反応が設定通りに行われていないものであった。
【0059】
比較例3
実施例3において、n−BMAを用いない以外は同様にしてPTBMSTとスチレンとt−BAとの共重合反応を行った。得られたポリマーは、多峰性且つMw/Mnが3以上であり、共重合反応が設定通りに行われていないものであった。
【0060】
【発明の効果】
本発明のアルケニルフェノール系共重合体の製造方法によると、共重合反応と選択的な脱離反応を設定通りに行うことができ、単峰性で分子量分布が狭く、且つ、構造の制御された、アルケニルフェノール骨格とアクリル酸エステル骨格とを主骨格とする共重合体を得ることができる。
Claims (2)
- 一般式(I)
(第1工程) アルカリ金属又は有機アルカリ金属を重合開始剤とするアニオン重合法により、フェノール性水酸基が保護された下記一般式( IV )
(第2工程) 上記第1工程後、下記一般式(V)
(第3工程) 上記第2工程後、下記一般式( VI )
(第4工程) 上記第3工程後、フェノール性水酸基の保護基を脱離させる工程
を有することを特徴とするアルケニルフェノール系共重合体の製造方法。 - 一般式(V)で表されるメタクリル酸エステルの添加量が、アルカリ金属又は有機アルカリ金属1モルに対し、0.5〜5.0モルであることを特徴とする請求項1記載のアルケニルフェノール系共重合体の製造方法。
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