JP4215571B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法に関し、更に言えば、ボール状の導電端子を有するBGA(Ball Grid Array)型の半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より表面実装型の半導体装置の一種としてBGA型の半導体装置がある。これは、半田等の金属部材から成るボール状の導電端子をパッケージ基板一主面上に格子状に複数配列し、基板の他の主面上に搭載される半導体チップとボンディングしてパッケージングするものである。そして、電子機器に組み込まれる際には、各導電端子をプリント基板上の配線パターンに熱溶着し、半導体チップとプリント基板上に搭載される外部回路とを電気的に接続する。
【0003】
このようなBGA型の半導体装置は、半導体装置の側面に突出したリードピンを有するSOP(Small Outline Package)やQFP(Quad Flat Package)等の他の表面実装型の半導体装置に比べ多数の接続端子を設置することができ、小型化が有利なものとして知られている。
【0004】
近年において、このBGA型の半導体装置がCCDイメージセンサの分野にも取り入れられ、小型化の要望が強い携帯電話機に搭載されるデジタルカメラのイメージセンサチップとして用いられている。
【0005】
また、ウエハレベルのCSP(Chip Size Package)やシリコン(Si)貫通技術を用いた3次元実装技術が注目されてきている。これらの技術は、チップを何層にも貼り合わせた後、Siを貫通させたり、Siウエハを表面からSi貫通させた後、積み上げる方法等が研究されている。
【0006】
【特許文献】
特表2002−512436号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の3次元実装技術は表面からSi貫通等の加工を行い、銅(Cu)でビアホールを充填して形成するため、表面側にCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理が必要であること、Cuビア形成後に当該Cuビアとパッドとを繋ぐための再配線が必要であるため、製造工数が多くなってしまうこと、という欠点があった。また、Cuを用いた技術は、微細化に適しているもののCu自体のコストが高いことや特別な装置を別に購入しなければならないため、コスト高は避けられないという現状もある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明の半導体装置の製造方法は、金属パッドが形成された半導体基板と前記半導体基板を支持する支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程と、前記半導体基板の裏面をエッチングして開口部を形成した後に、前記半導体基板の裏面及び前記開口部内に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をエッチングした後に、前記金属パッドに接続される金属配線を形成する工程と、前記金属配線上に保護膜を形成する工程と、前記半導体基板の裏面から所定位置までダイシングする工程と、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程とを有することを特徴とする。
また、前記半導体基板と当該基板を支持する支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程が、前記基板の周端部のみ樹脂を用いて貼り合わせる工程であることを特徴とする。
更に、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記フィルムとして用いた有機膜を溶液で溶かす工程であることを特徴とする。
また、前記半導体基板と前記支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程が、前記フィルムとして接着性を有するフィルムを用いることを特徴とする。
更に、前記半導体基板と前記支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程が、前記フィルムの両面に接着剤を用いることを特徴とする。
また、前記フィルムとしてUVテープを用いる際には、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記支持体として透明ガラスを用いてUV照射する工程であることを特徴とする。
更に、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記樹脂を刃物を用いて物理的に剥がす工程であることを特徴とする。
また、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記基板を酸に浸すことで、前記樹脂を溶かして化学的に剥がす工程であることを特徴とする。
更に、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記基板ごとその周辺部をグラインドして前記樹脂の部分を削る工程であることを特徴とする。
また、前記金属パッドに接続される金属配線を形成する工程は、アルミニウムを形成後にニッケル及び金のメッキを行うことで形成する工程であることを特徴とする。
更に、前記金属パッドに接続される金属配線を形成する工程は、チタンタングステンを形成後に銅のメッキを行うことで形成する工程であることを特徴とする。
また、前記半導体基板の裏面をエッチングして開口部を形成する工程の前に、その裏面を研磨する工程を有することを特徴とする。
更に、前記金属パッド上に電極接続部を形成する工程を有することを特徴とする。
また、前記金属パッド上に電極接続部を形成する工程は、前記金属パッドに配線パターンを形成し、当該配線パターン上に電極接続部を形成することを特徴とする。
更に、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記フィルムの両面に付着させたUV系の接着剤にUV照射する工程であることを特徴とする。
また、前記保護膜で被覆されていない前記金属配線上に電極を形成する工程を有することを特徴とする。
更に、前記支持体として、Si基板、酸化膜、ガラス基板及びセラミック基板のうちいずれかを用いることを特徴とする。
また、前記パッド上に電極接続部を形成する工程は、前記パッド上にNi、Au、Cuから成る積層体もしくはNi、Au、Cu、Auから成る積層体を形成することを特徴とする。
更に、積層型の半導体装置の製造方法であって、前記半導体装置と他の半導体装置を積層する工程を有することを特徴とする。
また、前記半導体装置と他の半導体装置を積層する工程は、一方の半導体装置の前記電極接続部と、もう一方の半導体装置の前記電極とを接続することを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の半導体装置の製造方法に係る第1の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【0010】
先ず、図1に示すようにおよそ600μmの膜厚の半導体ウエハ(以下、Si基板1)上に酸化膜が形成され、当該酸化膜上に複数の金属(例えば、AlまたはAl合金またはCu等)パッド2a、2bが形成され、当該パッド2a、2bを被覆するようにプラズマCVD法によるSiO2膜またはPSG膜を形成し、これと前記酸化膜を併せて所定膜厚の第1の酸化膜3を形成する。尚、前記パッド2a、2bはSi基板1上に構成された各半導体素子と接続されている。また、特に平坦性を必要とする場合には第1の酸化膜3を例えば物理的に研磨したり、化学的にエッチング処理等しても良い。そして、不図示のフォトレジスト膜をマスクにパッド2a、2b上の第1の酸化膜3をエッチングして当該パッド2a、2bの一部(表面部)を露出させる。その後、パッド2a、2bの表面にAlまたはAl合金またはCu等から成る第1の配線4を施す。尚、本実施形態では、前記第1の酸化膜3の膜厚は、全体でおよそ5μm程度としている。
【0011】
次に、図2に示すように第1の配線4の表面上にポリイミド膜5を形成し、当該ポリイミド膜5を不図示のフォトレジスト膜をマスクにエッチングして前記パッド2a、2bに接続された第1の配線4上に開口部を形成する。図2中では、ポリイミド膜5の両端部に当該開口部を形成した様子を示した。
【0012】
そして、前記開口部内に不図示なニッケル(Ni)、金(Au)を形成した後に、その上に半導体の後工程で用いられる一般的なメッキ装置により、銅(Cu)メッキしてCuポスト6を埋め込む。また、当該Cuポスト6上に当該Cuポスト6の腐食防止用としてAuをメッキ形成しても良い。尚、本実施形態では、前記開口部内に埋設された導電部材(Ni,Au,Cu,Au)の膜厚は、全体でおよそ25μm程度としている。
【0013】
ここで、本プロセスを3次元プロセスに用いないCSPプロセスに適用するものである場合には、開口部を形成し、導電部材を埋設する必要はなく、ポリイミド膜5の全面塗布で構わない。
また、ポリイミド膜5がない状態で、Si基板1上方に後述する支持基板8を接着フィルムを用いて貼り合わせるものであっても構わない。
【0014】
更に、本プロセスが、CCDイメージセンサに採用される場合には、前記ポリイミド膜5は透明性のポリイミド膜または透明ガラスエポキシ樹脂等をスクリーン印刷法を用いて形成する必要がある。
【0015】
また、ガラス板材をエポキシ樹脂を用いて貼り合わせるものでも良い。
【0016】
続いて、図3(a)に示すように前記Cuポスト6(またはCuポスト6/Au)上を含むポリイミド膜5上に接着フィルム7を貼り、当該接着フィルム7を介して支持基板8と前記Si基板1側を貼り合わせる。
【0017】
ここで、前記支持基板8は、後述するSi基板1のBG(バックグラインド)時に、Si基板1の割れ等を防止するための支持材で、例えばSi基板や酸化膜やガラス基板やセラミック等を利用している。尚、本実施形態では、支持材として必要な膜厚として、およそ400μm程度としている。
【0018】
また、前記接着フィルム7は、後述するSi基板1と支持基板8との分離工程における作業性向上を図る目的で、アセトンに溶ける有機膜を採用している。尚、本実施形態では、接着フィルム7の膜厚をおよそ100μm程度としている。当該接着フィルム7は、後述するエポキシ樹脂9の充填用としてウエハエッジから2mm程度内側に配置する。
【0019】
ここで、接着フィルム7の代わりに接着力のないフィルムを用いてフィルムの両面に接着剤を付けて前記支持基板8と前記フィルムと前記Si基板1側とを貼り合わせても良い。この場合には、接着剤が溶ける溶剤を用いて当該接着剤を溶かして前記支持基板8と前記Si基板1とフィルムとを分離させれば良い。
【0020】
図3(b)は図3(a)の概略図と平面図(説明の都合上支持基板8を除去したときの平面図)である。
【0021】
当該接着フィルム7の外周部には、図3(b)に示すようにエポキシ樹脂9を充填することで、当該接着フィルム7を密封し、固めている。これにより、各種作業中における有機溶媒等の薬液の侵入を防止している。ここでエポキシ樹脂9は、ポリイミド系の樹脂であってもよい。
【0022】
次に、図4(a)に示すようにSi基板1側をBG処理して、当該Si基板1の膜厚をおよそ10〜100μm程度まで薄膜化する。このとき、前記支持基板8が、BG工程時にSi基板1を支持する。そして、BG処理したSi基板1の裏面側及び第1の酸化膜3をエッチングして、前記パッド2a、2bが露出するように第1の開口部K1を形成する。
【0023】
更に、図4(b)に示すように第2の酸化膜10をSi基板1の裏面側に堆積後、不図示のフォトレジスト膜をマスクに当該第2の酸化膜10をエッチングして、第2の開口部K2を形成する。ここで、第1の酸化膜3aはパッド2aとパッド2b間の第1の酸化膜3のエッチング残部である。尚、前記第2の酸化膜10の代わりに、シリコン窒化膜やポリイミド膜等を用いてもよい。
【0024】
更に言えば、本実施形態では図4(a)に示すようにSi基板1のエッチング工程に引き続いて第1の酸化膜3をエッチングする工程を有し、開口部K1を含むSi基板1上に第2の酸化膜10を形成し、当該第2の酸化膜10をエッチングして開口部K2を形成しているが、例えば、図4(a)に相当する工程で、Si基板1のみエッチングし、パッド2a,2bの下に第1の酸化膜3を残した状態で、第2の酸化膜10を形成し、当該第2の酸化膜10及び第1の酸化膜3をエッチングして開口部K2を形成するものであっても良い。
【0025】
次に、図5に示すように、第2の酸化膜10の表面の所望位置に緩衝部材11を形成し、当該緩衝部材11の表面、第2の酸化膜10の表面、及び前記第2の開口部K2を被覆するようにスパッタリングによりAlまたはAl合金またはCu等を形成させ、第2の配線12を形成する。尚、第2の配線12はCu配線でも良い。
【0026】
次に、図6に示すように前記第2の配線12を、不図示のフォトレジスト膜をマスクにして第1の酸化膜3aが露出するようにエッチングする。即ち、このエッチングによってパッド2a、2bの裏面の露出面は第2の配線12により覆われ、パッド2a、2bの端部と第2の配線12とのエッチング断面とが略一致するように形成する。この結果、パッド2a、2bのそれぞれと第2の配線12とは、10〜数100μm程度の面接触を有するように形成される。当該配線形成後、ニッケル(Ni)及び金(Au)の無電解メッキを施す。
また、Alスパッタリングの代わりにチタンタングステン(TiW)をスパッタリングし、レジスト形成後、銅(Cu)の電解メッキを行い、当該レジストを除去した後に、チタンタングステン(TiW)をエッチングすることで第2の配線12を形成してもよい。
【0027】
そして、第2の配線12の表面にソルダーマスク(以下、保護膜13と称す)を形成し、当該保護膜13上に半田ペーストをスクリーン印刷し、当該半田ペーストをリフロー処理することで、前記第2の配線12上に半田ボール(以下、導電端子14)を形成する。尚、本実施形態では、保護膜13として、200℃でイミド化可能なリカコート(新日本理化社製品)から成るポリイミド膜を用いている。
【0028】
次に、ダイシングを行い、図7(a)に示すように第1の酸化膜3aにダイシングラインDを形成する。当該ダイシングラインDはウエハ上の半導体チップを1個毎に分離するために設けたものである。図7(b)は図7(a)の概略図と平面図(説明の都合上支持基板8を除去したときの平面図)である。図7(b)の概略図においては、ダイシングラインDはウエハ裏面から接着フィルム7に至る位置まで形成され、平面図においては、当該ダイシングラインDは格子状となるように形成される。
【0029】
そして、不図示のアセトン溶液槽内に当該Si基板1を浸すことで、図7(b)に示した前記ダイシングライン(D)からアセトンが侵入し、前記接着フィルム7を溶解する。この結果、前記Si基板1(各チップ)と支持基板8とが自動的に分離され、図8に示すような単体のCSPチップが完成する。
【0030】
このように本実施形態では、アセトンに溶解する有機系の接着フィルム7を用いてSi基板1と支持基板8とを貼り合わせているため、ダイシング後に、Si基板1をアセトンに浸すだけで両者を簡単に分離することができ、作業性が良い。
【0031】
また、前記接着フィルム7の代わりに接着力の弱いフィルムを用いて、ダイシング後に、物理的にチップを剥がすものであっても良い。更に言えば、支持基板8として透明ガラスを用いる場合には、有機系フィルム7としてUVテープを貼り、ダイシング後にUV照射をし、チップを剥がせば良い。
【0032】
また、接着フィルム7の代わりに接着力のないフィルムにUV系の接着剤を付けて前記Si基板1と支持基板8とを接着した場合には、ある工程終了後に、前記UV系の接着剤をUV照射して硬化させることで当該Si基板1と支持基板8とを剥がした後に、Si基板1をダイシングしても良い。
【0033】
加えて、ダイシングした後に、例えばウエハの裏面からホットプレートで熱を加えて、ウエハと支持基板8で挟まれた有機膜(接着フィルム7)を溶かして軟化させることで両者を剥がすものであっても良い。このとき、接着フィルム7がアセトンに溶ける有機膜であるときは200℃程度の加熱で、またポリイミド膜を利用した場合では400℃程度の加熱で当該接着フィルム7は溶ける。
【0034】
Si基板1と支持基板8とを剥がす別形態としては、ダイシング前に、エッジのエポキシ樹脂を、ウエハを縦にして回転させ、外周だけ酸(例えば硫酸)などの薬品に浸して剥がす方法もある。
【0035】
又、直接的にSi基板1と支持基板8とを剥がす方法としては、エッジの外周のエポキシ樹脂の部分をカッターや鋸、ナイフ等の刃物で削る方法、やシリコンウエハごとグラインドして同部分を削ることで両者を剥がす方法、などが挙げられる。
【0036】
そして、本発明の第2の実施形態として図9に示すように、前記単体のCSPチップ(図8の切り離した後の半導体装置の1個)をCuポスト6と導電端子14とを金属密着でCSPチップ同士を密着(積層)させることで、3次元実装が(何層でも)可能となり、チップサイズの同じもの(メモリ等)であれば大容量化が図れる。
【0037】
【発明の効果】
本発明では、一般的に実装の分野で使われているスパッタ装置やメッキ装置を用いて配線を形成しているため、低コストで非常に工程の簡単な半導体装置が実現できる。
【0038】
また、従来の3次元実装技術のように表面からSi貫通等の加工を行い、銅(Cu)でビアホールを充填形成しないので、従来例では当然必要であった表面側にCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理を、本実施形態では行う必要はなくなり、工程数の削減が可能である。
【0039】
更に、積層構造においてCuビア形成後に当該Cuビアとパッドとを繋ぐための再配線が不要となり、製造工数が増大することがない。
【0040】
また、支持基板とSi基板とは、貼り合わせた後にBG(バックグラインド)及びその後の処理をしているため、チップの膜厚は可能な限り薄くできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図3】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図4】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図5】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図6】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図7】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図8】本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図9】本発明の第2の実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
Claims (20)
- 金属パッドが形成された半導体基板と前記半導体基板を支持する支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程と、
前記半導体基板の裏面をエッチングして開口部を形成した後に、前記半導体基板の裏面及び前記開口部内に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜をエッチングした後に、前記金属パッドに接続される金属配線を形成する工程と、
前記金属配線上に保護膜を形成する工程と、
前記半導体基板の裏面から所定位置までダイシングする工程と、
前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基板と当該基板を支持する支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程が、前記基板の周端部のみ樹脂を用いて貼り合わせる工程であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記フィルムとして用いた有機膜を溶液で溶かす工程であることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板と前記支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程が、前記フィルムとして接着性を有するフィルムを用いることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板と前記支持体とをフィルムを介して貼り合わせる工程が、前記フィルムの両面に接着剤を用いることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記フィルムとしてUVテープを用いる際には、前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記支持体として透明ガラスを用いてUV照射する工程であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記樹脂を刃物を用いて物理的に剥がす工程であることを特徴とする請求項2記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記基板を酸に浸すことで、前記樹脂を溶かして化学的に剥がす工程であることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記基板ごとその周辺部をグラインドして前記樹脂の部分を削る工程であることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記金属パッドに接続される金属配線を形成する工程は、アルミニウムを形成後にニッケル及び金のメッキを行うことで形成する工程であることを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記金属パッドに接続される金属配線を形成する工程は、チタンタングステンを形成後に銅のメッキを行うことで形成する工程であることを特徴とする請求項1乃至請求項10のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板の裏面をエッチングして開口部を形成する工程の前に、その裏面を研磨する工程を有することを特徴とする請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記金属パッド上に電極接続部を形成する工程を有することを特徴とする請求項1乃至請求項12のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記金属パッド上に電極接続部を形成する工程は、前記金属パッドに配線パターンを形成し、当該配線パターン上に電極接続部を形成することを特徴とする請求項1乃至請求項13のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板と前記支持体とを分離する工程は、前記フィルムの両面に付着させたUV系の接着剤にUV照射する工程であることを特徴とする請求項1乃至請求項14のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記保護膜で被覆されていない前記金属配線上に電極を形成する工程を有することを特徴とする請求項1乃至請求項14のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記支持体として、Si基板、酸化膜、ガラス基板及びセラミック基板のうちいずれかを用いることを特徴とする請求項1乃至請求項16のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記パッド上に電極接続部を形成する工程は、前記パッド上にNi、Au、Cuから成る積層体もしくはNi、Au、Cu、Auから成る積層体を形成することを特徴とする請求項13または請求項14のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記請求項1乃至請求項18のいずれか1項に記載の半導体装置と他の半導体装置を積層する工程を有することを特徴とする積層型の半導体装置の製造方法。
- 前記請求項1乃至請求項18のいずれか1項に記載の半導体装置と他の半導体装置を積層する工程は、一方の半導体装置の前記電極接続部と、もう一方の半導体装置の前記電極とを接続することを特徴とする積層型の半導体装置の製造方法。
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