JP4201739B2 - プローブ - Google Patents

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Description

本発明は、測定対象の電気的諸特性を測定するのに使用されるプローブに関する。
この種のプローブは直線状の接触部を有しており、この接触部が測定対象の電極に対して略垂直に接触するようになっている( 特許文献1参照) 。
特開2002−055119号公報
しかしながら、プローブの接触部が電極に略垂直に接触するようになっていることから、その構成上、当該接触部を当該電極上で横方向に滑らせることが困難となる。即ち、前記プローブではスクラブを生じ難い構成となっていることから、当該電極上に付着する酸化膜等の絶縁膜を除去することができない。よって、プローブと電極との間の接触抵抗が高くなり、その結果、接触不良になり易いという問題を有している。
もっとも、この問題はオーバードライブによりプローブを電極に対して高接触圧で押圧させ、プローブにスクラブを生じさせるようにすれば解決し得るが、近年のプローブは測定対象の高集積化に伴い微細化されているので、当該プローブを高接触圧で電極に押圧させることが困難になる。即ち、上記問題が依然として内在することから、プローブと電極との安定した電気的導通を図ることが困難になる。
本発明は、上記事情に鑑みて創案されたものであって、その目的とするところは、微細化したとしても、測定対象の電極と安定した電気的導通を図ることができるプローブを提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明のプローブは、測定対象の電極に対して略垂直に接触可能な略直線状の接触部と、この接触部と連なる基端部とを有したプローブであって、前記接触部は、基部と、前記基部の幅方向の端部に一体的に設けられた接合部とを有しており、前記接合部は80〜90℃下で前記基部の長手方向に膨張変形又は収縮変形可能な形状記憶合金で構成されており、前記接合部の変形により、前記接触部が前記基部の長手方向に対して略直角な方向に変形することを特徴としている。
本発明の請求項に係るプローブによる場合、直線状の接触部が、基部と、80〜90℃下で前記基部の長手方向に膨張変形又は収縮変形可能な形状記憶合金で構成されており且つ前記基部の幅方向の端部に一体的に設けられた接合部とを有した構成となっている。このため、前記温度下で接触部を測定対象の電極に略垂直に接触させ、その状態でオーバードライブを行うと、当該測定対象の電極から伝わる前記温度の熱により前記接合部が変形し、これにより前記接触部が前記基部の長手方向に対して略直角な方向に変形する。この変形により当該接触部の先端が測定対象の電極を擦る。これにより電極上に付着した酸化膜等の絶縁膜を擦り取ることができるので、従来例の如く接触部を電極に対して高接触圧で押圧させることなく接触部と電極との間の接触抵抗を低く抑えることができる。よって、微細化されたプローブであっても、接触不良を起こすことなく、プローブの接触部と測定対象の電極との安定した電気的導通を図ることができる。

以下、本発明の実施の形態について説明する。
まず、本発明の第1の実施の形態に係るプローブについて図面を参照しながら説明する。図1は本発明の第1の実施の形態に係るプローブの接触部の模式的断面図、図2は同プローブの接触部のスクラブした状態を示す模式的断面図、図3は同プローブの接触部の設計変更例を示す模式的断面図である。
図1に示すプローブ100はプローブカードを構成する基板に設けられた図示しない基端部と、この基端部と連なる部材であり且つ測定対象の電極10に対して略垂直に接触可能な円柱状の接触部110とを有する。なお、基端部の形状については任意に構成することができる。
接触部110は、先端部が先鋭化された基部111と、この基部111の幅方向の端部に長手方向に沿って一体的に設けられた縦断面視略矩形状(即ち、略直線状)の膨張部111a(即ち、接合部)とを有する構成となっている。この膨張部111aは基部111よりも熱膨張率が大きい材料で構成されている。即ち、バイメタルとなっているのである。この接触部110は、85〜125℃の環境温度下で、図2に示すようにバイメタルとしての機能を発揮するように、例えば、基部111には熱膨張率が0.4 ×10-6のインバーを、膨張部111aには熱膨張率が20×10-6の黄銅を用いている。
このプローブ100の接触部110は、基部111の幅方向の端部に膨張部111aが周知の各種のメッキ技術や各種の張り合わせ技術によって接合されることにより製造される
加熱手段は、図示しないウエハチャックであって、面上に測定対象が載置される。この加熱手段はバーンインで測定対象の環境温度を85〜125℃とすることができるようになっている。
以上のとおり、このプローブ100は、接触部110の基部111の幅方向の端部に長さ方向に沿って縦断面視略矩形状の膨張部111aが接合された構成となっている。即ち、接触部110がバイメタルとなっているのである。このため、当該プローブ100が設けられたプローブカードを図示しないプローバに取り付ける一方、測定対象を前記加熱手段上に設置し、当該加熱手段により環境温度を85〜125℃にした状態で、当該プローバを動作させると、プローブ100の接触部110が測定対象に相対的に近接し、当該測定対象の電極10に垂直に接触する。その状態でプローブ100の接触部110と測定対象の電極10とを更に近接させ、オーバードライブを行うと、当該測定対象の電極10を通じて伝わる環境温度の熱により接触部110の基部111及び膨張部111aが各々熱膨張し、これにより接触部110が基部111及び膨張部111aのうち熱膨張率の小さい基部111の方向に向けて湾曲する(即ち、接触部110が基部111の長手方向に対して略直角な方向に変形する( 図2参照))。この変形により当該接触部110の先端が測定対象の電極10を擦る。これにより電極10上に付着した酸化膜等の絶縁膜を擦り取ることができるので、従来例の如く接触部110を電極10に対して高接触圧で押圧させることなく接触部110と電極10との間の接触抵抗を低く抑えることができる。よって、微細化されたプローブ100であっても、接触不良を起こすことなく、プローブ100の接触部110と測定対象の電極Bとの安定した電気的導通を図ることができる。
なお、このプローブ100については、測定対象の電極に対して略垂直に接触可能な略直線状の接触部と、この接触部と連なる基端部とを有したプローブであって、前記接触部は、基部と、この基部と異なる熱膨張率を有した素材で構成されており且つ当該基部の幅方向の端部に長手方向に沿って一体的に設けられた略直線状の接合部とを有しており、前記基部及び接合部が85〜125℃下で各々熱膨張することにより、前記接触部が前記基部の長手方向に対して略直角な方向に変形する限りどのような設計変更を行ってもかまわない。
即ち、接触部110は、バイメタルとして機能し得る限り任意に設計変更可能であり、例えば、図3に示すように、基部111の略半分を膨張部111aとすることも可能である。また、基部111が膨張部111aよりも熱膨張率が高い素材で構成するようにしても良い。
接触部110は円柱状であるとしたが、直線状である限り他の形状であっても良いことは言うまでもない。接触部110の接触部は特に先鋭化しなくても良い。なお、プローブカードの構成については、基端部が設けられる基板を有する限りどのような構成であっても良いことは言うまでもない。
次に、本発明の第2の実施の形態に係るプローブについて図面を参照しながら説明する。図4は本発明の第2の実施の形態に係るプローブの接触部の模式的断面図、図5は同プローブの接触部のスクラブした状態を示す模式的断面図、図6は同プローブの接触部の設計変更例を示す図であって、( a) は円弧状の変形部が設けられた模式的断面図、( b) は三角錐状の変形部が設けられた模式的断面図である。
図4に示すプローブ200はプローブカードを構成する基板に設けられた図示しない基端部と、この基端部と連なる部材であり且つ測定対象の電極10に対して略垂直に接触可能な円柱状の接触部210とを有する。なお、基端部の形状については任意に構成することができる。
接触部210は、先端部が先鋭化された基部211と、この基部211の幅方向の端部に長手方向に沿って一体的に設けられた縦断面視略矩形状の変形部211a(即ち、接合部)とを有する構成となっている。基部211は弾性変形可能な、例えばタングステンを用いている。一方、変形部211aは80〜90℃下で基部211の長手方向に収縮変形し、50〜60℃下で元に戻る形状記憶合金を用いている。この形状記憶合金としては、例えば、85℃下で収縮変形するチタン−ニッケル( Ti−Ni) 等がある。
この接触部210は、基部211の幅方向の端部に周知の抵抗溶接技術により変形部211aが接合されることにより製造される。その他の接合方法としては、拡散溶接、表面改質技術等を用いることができる。
加熱手段は、図示しないウエハチャックであって、面上に測定対象が載置される。この加熱手段はバーンインで測定対象の環境温度を85℃以上とすることができるようになっている。
以上のとおり、このプローブ200は、接触部210の基部211の幅方向の端部に基部211の長手方向に収縮変形可能な変形部211aが接合された構成となっている。このため、当該プローブ200が設けられたプローブカードを図示しないプローバに取り付ける一方、測定対象を前記加熱手段上に設置し、当該加熱手段により環境温度を85℃以上にした状態で、当該プローバを動作させると、プローブ200の接触部210が測定対象に相対的に近接し、当該測定対象の電極10に垂直に接触する。その状態でプローブ200の接触部210と測定対象の電極10とを更に近接させ、オーバードライブを行うと、当該測定対象の電極10を通じて伝わる環境温度の熱により接触部210の変形部211aが基部211の長手方向に収縮変形し、これにより当該接触部210が湾曲する(即ち、接触部210が基部211の長手方向に対して略直角な方向に変形する( 図5参照))。この変形により当該接触部210の先端が測定対象の電極Bを擦る。これにより電極10上に付着した酸化膜等の絶縁膜を擦り取ることができるので、従来例の如く接触部210を電極10に対して高接触圧で押圧させることなく接触部210と電極10との間の接触抵抗を低く抑えることができる。よって、微細化されたプローブ200であっても、接触不良を起こすことなく、プローブ200の接触部210と測定対象の電極10との安定した電気的導通を図ることができる。
なお、このプローブ200については、測定対象の電極に対して略垂直に接触可能な略直線状の接触部と、この接触部と連なる基端部とを有したプローブであって、前記接触部は、基部と、前記基部の幅方向の端部に一体的に設けられた接合部とを有しており、前記接合部は80〜90℃下で前記基部の長手方向に膨張変形又は収縮変形可能な形状記憶合金で構成されており、前記接合部の変形により、前記接触部が前記基部の長手方向に対して略直角な方向に変形する限り、どのような設計変更を行ってもかまわない。
即ち、接触部210の変形部211aが基部211の長手方向に収縮変形可能な形状記憶合金であるとしたが、基部211の長手方向に膨張変形可能な形状記憶合金とすることも可能である。また、接触部210の変形部211aについては少なくとも幅方向の端部の一部に設けられている限り、その形状は任意である。例えば、図6の( a) に示すように、基部211の幅方向の端部の下部に断面視円弧状の変形部211aを設けるようにしても良いし、図6の( b) に示すように、基部211の幅方向の端部の下部に断面視三角錐状の変形部211aを設けることようにようにしても良い。
接触部210は円柱状であるとしたが、直線状である限り他の形状であっても良いことは言うまでもない。接触部210の先端部は特に先鋭化しなくても良い。なお、プローブカードの構成にいては基端部が設けられる基板を有する限りどのような構成であっても良いことは言うまでもない。
本発明の第1の実施の形態に係るプローブの接触部の模式的断面図である。 同プローブの接触部のスクラブした状態を示す模式的断面図である。 同プローブの接触部の設計変更例を示す模式的断面図である。 本発明の第2の実施の形態に係るプローブの接触部の模式的断面図である。 同プローブの接触部のスクラブした状態を示す模式的断面図である。 同プローブの接触部の設計変更例を示す図であって、( a) は円弧状の変形部が設けられた模式的断面図、( b) は三角錐状の変形部が設けられた模式的断面図である。
符号の説明
100 プローブ
110 接触部
111 基部
111a 膨張部
200 プローブ
210 接触部
211 基部
211a 変形部


Claims (1)

  1. 測定対象の電極に対して略垂直に接触可能な略直線状の接触部と、この接触部と連なる基端部とを有したプローブにおいて、
    前記接触部は、基部と、前記基部の幅方向の端部に一体的に設けられた接合部とを有しており、前記接合部は80〜90℃下で前記基部の長手方向に膨張変形又は収縮変形可能な形状記憶合金で構成されており、前記接合部の変形により、前記接触部が前記基部の長手方向に対して略直角な方向に変形することを特徴とするプローブ。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104204818B (zh) * 2012-03-23 2017-05-24 爱德万测试公司 用于半导体测试的横向驱动探针
US9678108B1 (en) 2014-02-06 2017-06-13 Advantest America, Inc. Methods to manufacture semiconductor probe tips

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3870978A (en) * 1973-09-13 1975-03-11 Omni Spectra Inc Abutting electrical contact means using resilient conductive material
JPH0254814A (ja) * 1988-08-17 1990-02-23 Sharp Corp コンタクトピン
US5225777A (en) * 1992-02-04 1993-07-06 International Business Machines Corporation High density probe
KR100471341B1 (ko) * 1996-05-23 2005-07-21 제네시스 테크놀로지 가부시키가이샤 콘택트프로브및그것을구비한프로브장치
US6724203B1 (en) * 1997-10-30 2004-04-20 International Business Machines Corporation Full wafer test configuration using memory metals
JP3486841B2 (ja) 2000-08-09 2004-01-13 日本電子材料株式会社 垂直型プローブカード
JP2002231399A (ja) 2001-02-02 2002-08-16 Fujitsu Ltd 半導体装置試験用コンタクタ及びその製造方法
US6507207B2 (en) * 2001-02-20 2003-01-14 Vinh T. Nguyen Contact probe pin for wafer probing apparatus
US6577147B2 (en) * 2001-09-06 2003-06-10 Intel Corporation Method and apparatus for resisting probe burn using shape memory alloy probe during testing of an electronic device
JP2005140677A (ja) * 2003-11-07 2005-06-02 Japan Electronic Materials Corp プローブシート及びこれを用いたプローブシートユニット
US7176703B2 (en) * 2004-08-31 2007-02-13 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Test probe with thermally activated grip and release

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